CN217797816U - 一种真空等离子清洗腔体 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种真空等离子清洗腔体，包括滚筒、电极组件、气体管道、腔壳以及用于封闭所述腔壳的腔体门；所述滚筒转动安装于所述腔壳内；所述气体管道固设于所述滚筒的一端；所述电极组件贯穿所述腔壳的侧壁并伸入所述滚筒内；所述腔壳的侧壁上还开设有真空吸孔。本真空等离子清洗腔体通过真空吸孔进行抽真空，随后令气体管道向腔壳内注入工艺气体，并利用电极组件与滚筒内壁面放电产生等离子体即可清洗滚筒内部的材料；腔壳内的滚筒在转动过程中可带动滚筒内部的材料翻滚，令材料表面的清洗效果更均匀，尤其对粉末状和颗粒状的材料表面的清洗效果提升更明显。
Description
技术领域
本实用新型涉及等离子清洗设备技术领域，尤其涉及一种真空等离子清洗腔体。
背景技术
目前市面上主流真空等离子清洗设备的清洗腔主要由射频或中频激励，一般在真空清洗腔内设有多层平行的水平电极或者垂直电极，将被处理产品放置在电极之间，通过两个平行电极放电产生等离子体对产品的表面进行处理。此种方式适用于处理市面上大多数常规产品的处理，但是对于颗粒状或粉末状的材料处理不便且处理效果不均匀。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种方便处理颗粒状或粉末状产品的真空等离子清洗腔体。
为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案为：一种真空等离子清洗腔体，包括滚筒、电极组件、气体管道、腔壳以及用于封闭所述腔壳的腔体门；所述滚筒转动安装于所述腔壳内；所述气体管道固设于所述滚筒的一端；所述电极组件贯穿所述腔壳的侧壁并伸入所述滚筒内；所述腔壳的侧壁上还开设有真空吸孔。
进一步的，所述气体管道围成圆环状，且所述气体管道靠近所述滚筒的一侧间隔地设有多个出气孔。
进一步的，所述滚筒的内周面上设有多个筋条，多个筋条围绕所述滚筒的周向均布。
进一步的，所述电极组件包括陶瓷柱、电极板和电极馈入轴；所述电极板设于所述滚筒内，所述陶瓷柱和所述电极馈入轴均与所述电极板的一端连接，且所述陶瓷柱远离所述电极板的一端固定连接于所述腔壳的侧壁上，所述腔壳的侧壁上设有供所述电极馈入轴伸出的安装孔。
进一步的，所述电极板上开设有多个通孔，多个所述通孔阵列设置。
进一步的，还包括多个滚轴，多个所述滚轴平行安装于所述腔壳内，所述滚筒架设于所述多个所述滚轴上，且所述滚筒的轴向与所述滚轴的轴向平行。
进一步的，还包括动力组件，所述动力组件包括驱动件、安装于所述滚筒上的第一传动件以及与所述第一传动件相配合的第二传动件，所述第二传动件设置于所述驱动件的输出端。
进一步的，还包括挡板和绝缘垫，所述挡板固定连接于所述腔壳的内壁面上并跨设于所述真空吸孔的一端，所述绝缘垫设于所述挡板与所述腔壳的内壁面之间。
进一步的，还包括视窗玻璃，所述腔体门上开设有观察窗，所述视窗玻璃封闭所述观察窗。
进一步的，所述腔壳和所述腔体门的接触面上设有密封圈。
本实用新型的有益效果在于：本真空等离子清洗腔体通过真空吸孔进行抽真空，随后令气体管道向腔壳内注入工艺气体，并利用电极组件与滚筒内壁面放电产生等离子体即可清洗滚筒内部的材料；腔壳内的滚筒在转动过程中可带动滚筒内部的材料翻滚，令材料表面的清洗效果更均匀，尤其对粉末状和颗粒状的材料表面的清洗效果提升更明显。
附图说明
图1为本实用新型实施例一的真空等离子清洗腔体的整体结构示意图一；
图2为本实用新型实施例一的真空等离子清洗腔体的整体结构示意图二；
图3为本实用新型实施例一的真空等离子清洗腔体的整体结构示意图三；
图4为本实用新型实施例一的真空等离子清洗腔体的剖视图一；
图5为本实用新型实施例一的真空等离子清洗腔体的剖视图二；
图6为本实用新型实施例一的真空等离子清洗腔体中电极组件的结构示意图；
图7为本实用新型实施例一的真空等离子清洗腔体中滚筒和动力组件的结构示意图。
标号说明：
1、滚筒；11、筋条；12、窗口；
2、电极组件；21、陶瓷柱；22、电极板；221、通孔；23、电极馈入轴；
3、气体管道；31、出气孔；
4、腔壳；41、真空吸孔；
5、腔体门；51、视窗玻璃；
6、滚轴；
7、动力组件；71、驱动件；72、第一传动件；73、第二传动件；74、密封磁流体轴承；
8、挡板；81、绝缘垫；
9、密封圈。
具体实施方式
为详细说明本实用新型的技术内容、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。
请参照图1至图7，一种真空等离子清洗腔体，包括滚筒1、电极组件2、气体管道3、腔壳4以及用于封闭所述腔壳4的腔体门5；所述滚筒1转动安装于所述腔壳4内；所述气体管道3固设于所述滚筒1的一端；所述电极组件2贯穿所述腔壳4的侧壁并伸入所述滚筒1内；所述腔壳4的侧壁上还开设有真空吸孔41。
从上述描述可知，本实用新型的有益效果在于：本真空等离子清洗腔体通过真空吸孔41进行抽真空，随后令气体管道3向腔壳4内注入工艺气体，并利用电极组件2与滚筒1内壁面放电产生等离子体即可清洗滚筒1内部的材料；腔壳4内的滚筒1在转动过程中可带动滚筒1内部的材料翻滚，令材料表面的清洗效果更均匀，尤其对粉末状和颗粒状的材料表面的清洗效果提升更明显。
进一步的，所述气体管道3围成圆环状，且所述气体管道3靠近所述滚筒1的一侧间隔地设有多个出气孔31。
由上述描述可知，气体管道3的结构有利于工艺气体均匀地充斥滚筒1内部，进而使材料表面的清洗效果更均匀。
进一步的，所述滚筒1的内周面上设有多个筋条11，多个筋条11围绕所述滚筒1的周向均布。
由上述描述可知，在滚筒1的内周面设置筋条11更有利于带动滚筒1内部的材料进行翻滚。
进一步的，所述电极组件2包括陶瓷柱21、电极板22和电极馈入轴23；所述电极板22设于所述滚筒1内，所述陶瓷柱21和所述电极馈入轴23均与所述电极板22的一端连接，且所述陶瓷柱21远离所述电极板22的一端固定连接于所述腔壳4的侧壁上，所述腔壳4的侧壁上设有供所述电极馈入轴23伸出的安装孔。
由上述描述可知，电极组件2的结构简单，利于生产装配；且电极板22与腔壳4绝缘连接，可防止漏电。
进一步的，所述电极板22上开设有多个通孔221，多个所述通孔221阵列设置。
由上述描述可知，在电极板22上开设通孔221可增大电极板22与空气的接触面积，提升放电效率。
进一步的，还包括多个滚轴6，多个所述滚轴6平行安装于所述腔壳4内，所述滚筒1架设于所述多个所述滚轴6上，且所述滚筒1的轴向与所述滚轴6的轴向平行。
由上述描述可知，滚轴6用于承受滚筒1的重量，同时还可以减轻滚筒1在滚动过程中受到的阻力。
进一步的，还包括动力组件7，所述动力组件7包括驱动件71、安装于所述滚筒1上的第一传动件72以及与所述第一传动件72相配合的第二传动件73，所述第二传动件73设置于所述驱动件71的输出端。
由上述描述可知，动力组件7用于驱动滚筒1转动，使得本真空等离子腔体能够自动运作。
进一步的，还包括挡板8和绝缘垫81，所述挡板8固定连接于所述腔壳4的内壁面上并跨设于所述真空吸孔41的一端，所述绝缘垫81设于所述挡板8与所述腔壳4的内壁面之间。
由上述描述可知，挡板8可使真空吸孔41对腔壳4内的空气的抽吸作用更加分散，使得腔壳4的内部空间能够被均匀地抽真空。
进一步的，还包括视窗玻璃51，所述腔体门5上开设有观察窗，所述视窗玻璃51封闭所述观察窗。
由上述描述可知，使用者可在清洗腔体封闭的情况下通过观察窗观察腔壳4内部的材料的清洗情况。
进一步的，所述腔壳4和所述腔体门5的接触面上设有密封圈9。
由上述描述可知，密封圈9可增强本真空等离子清洗腔体的密封效果，在清洗的同时保持腔体内部真空。
实施例一
请参照图1至图7，本实用新型的实施例一为：一种真空等离子清洗腔体，安装在等离子清洗机上，用于对材料表面进行清洗，实现分子水平的玷污去除，提高材料的表面活性。
所述真空等离子清洗腔体包括滚筒1、电极组件2、气体管道3、腔壳4以及用于封闭所述腔壳4的腔体门5；所述滚筒1转动安装于所述腔壳4内；所述气体管道3固设于所述滚筒1的一端；所述电极组件2贯穿所述腔壳4的侧壁并伸入所述滚筒1内；所述腔壳4的侧壁上还开设有真空吸孔41。具体的，本实施例中，腔壳4的一侧面开放形成进出口，腔体门5转动连接于腔壳4的一侧以封闭或开启所述进出口。滚筒1的轴向平行于腔壳4的底面，且滚筒1的轴向垂直于腔壳4的进出口。滚筒1的两端朝内侧弯折延伸形成环边以防止材料在翻滚过程中脱离滚筒1。滚筒1靠近腔体门5一端的环边上开设有窗口12，环边上还设有可滑动的盖门，滑动所述盖门可封闭或开启所述窗口12；使用者可将滚筒1内的材料扫出所述窗口12，方便收集。
如图3所示，所述气体管道3围成圆环状，且所述气体管道3靠近所述滚筒1的一侧间隔地设有多个出气孔31。具体的，腔壳4的侧壁上还开设有供气体管道3穿过的管道孔。本实施例中，气体管道3可以30～150mL/min的速率将氩气、氦气、氢气、氧气、氮气、四氟化碳等一种或多种工艺气体喷入腔壳4内。气体管道3围成的圆环的圆心位于滚筒1的轴向上，且该圆环的直径小于滚筒1的环边的内径，以便于出气孔31喷出的工艺气体均匀地进入滚筒1内部。
如图4所示，所述滚筒1的内周面上设有多个筋条11，多个筋条11围绕所述滚筒1的周向均布。具体的，筋条11与滚筒1固定连接，或者，筋条11与滚筒1为一体式结构。本实施例中，筋条11的长度方向平行于滚筒1的轴向。
如图6所示，所述电极组件2包括陶瓷柱21、电极板22和电极馈入轴23；所述电极板22设于所述滚筒1内，所述陶瓷柱21和所述电极馈入轴23均与所述电极板22的一端连接，且所述陶瓷柱21远离所述电极板22的一端固定连接于所述腔壳4的侧壁上，所述腔壳4的侧壁上设有供所述电极馈入轴23伸出的安装孔。具体的，本实施例中，电极组件2采用13.56MHZ射频电源供电，输入功率1000W。陶瓷柱21的两端分别螺钉连接电极板22和腔壳4的侧壁。陶瓷柱21的数量为多个，多个陶瓷柱21围绕安装孔的周向均布。安装孔中设有密封绝缘套筒，电极馈入轴23穿过密封绝缘套筒与电极板22导通。
如图5和图6所示，为了增大电极板22的表面积，从而提升电极板22的放电效率，本实施例中，所述电极板22上开设有多个通孔221，多个所述通孔221阵列设置。
如图3和图4所示，所述真空等离子清洗腔体还包括多个滚轴6，多个所述滚轴6平行安装于所述腔壳4内，所述滚筒1架设于所述多个所述滚轴6上，且所述滚筒1的轴向与所述滚轴6的轴向平行。具体的，本实施例中，滚轴6设有两个，两个滚轴6转动安装于腔壳4内部的底面上。滚轴6内装有陶瓷轴承，大大提高了滚筒1装置的使用寿命。
如图2和图7所示，所述真空等离子清洗腔体还包括动力组件7，所述动力组件7包括驱动件71、安装于所述滚筒1上的第一传动件72以及与所述第一传动件72相配合的第二传动件73，所述第二传动件73设置于所述驱动件71的输出端。具体的，本实施例中，驱动件71优选为电机，第一传动件72优选为内齿轮，第二传动件73优选为外齿轮。驱动件71安装于腔壳4的外侧壁上，驱动件71的输出轴穿过腔壳4的侧壁并通过第二传动件73与第一传动件72啮合，驱动件71的输出轴上还设有密封磁流体轴承74。
如图5所示，所述真空等离子清洗腔体还包括挡板8和绝缘垫81，所述挡板8固定连接于所述腔壳4的内壁面上并跨设于所述真空吸孔41的一端，所述绝缘垫81设于所述挡板8与所述腔壳4的内壁面之间。具体的，本实施例中，挡板8呈矩形，挡板8的四个角部及四边沿的中心分别设有一个第一连接孔，腔壳4设有真空吸孔41的内壁上对应挡板8的第一连接孔设有螺纹孔，以使挡板8螺钉连接于腔壳4内。且挡板8的第一连接孔的一端分别对应地设有一个绝缘垫81，绝缘垫81上设有供螺钉穿过的第二连接孔。绝缘垫81可使挡板8与腔壳4的内壁面保持一定的间距，分散抽吸力的同时防止挡板8对抽真空过程造成阻滞。
如图1和图5所示，所述真空等离子清洗腔体还包括视窗玻璃51，所述腔体门5上开设有观察窗，所述视窗玻璃51封闭所述观察窗。具体的，腔体门5的外侧面设有用于容纳视窗玻璃51的安装槽，安装槽底面开设有所述观察窗以及围绕所述观察窗的第一环槽，第一环槽中设有密封圈9。
如图3所示，所述腔壳4和所述腔体门5的接触面上设有密封圈9。具体的，腔体门5靠近腔壳4的一面上设有第二环槽，第二环槽中设有密封圈9。
综上所述，本实用新型提供的真空等离子清洗腔体的结构简单，便于生产加工和使用。本真空等离子清洗腔体通过真空吸孔进行抽真空，随后令气体管道向腔壳内注入工艺气体，并利用电极组件与滚筒内壁面放电产生等离子体即可清洗滚筒内部的材料；腔壳内的滚筒在转动过程中可带动滚筒内部的材料翻滚，令材料表面的清洗效果更均匀，尤其对粉末状和颗粒状的材料表面的清洗效果提升更明显。在滚筒的内周面设置筋条更有利于带动滚筒内部的材料进行翻滚。在电极板上开设通孔可增大电极板与空气的接触面积，提升放电效率。滚轴用于承受滚筒的重量，同时还可以减轻滚筒在滚动过程中受到的阻力。挡板可使真空吸孔对腔壳内的空气的抽吸作用更加分散，使得腔壳的内部空间能够被均匀地抽真空。使用者可在清洗腔体封闭的情况下通过观察窗观察腔壳内部的材料的清洗情况。密封圈可增强本真空等离子清洗腔体的密封效果，在清洗的同时保持腔体内部真空。
以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等同变换，或直接或间接运用在相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种真空等离子清洗腔体，其特征在于：包括滚筒、电极组件、气体管道、腔壳以及用于封闭所述腔壳的腔体门；所述滚筒转动安装于所述腔壳内；所述气体管道固设于所述滚筒的一端；所述电极组件贯穿所述腔壳的侧壁并伸入所述滚筒内；所述腔壳的侧壁上还开设有真空吸孔。
2.根据权利要求1所述的真空等离子清洗腔体，其特征在于：所述气体管道围成圆环状，且所述气体管道靠近所述滚筒的一侧间隔地设有多个出气孔。
3.根据权利要求1所述的真空等离子清洗腔体，其特征在于：所述滚筒的内周面上设有多个筋条，多个筋条围绕所述滚筒的周向均布。
4.根据权利要求1所述的真空等离子清洗腔体，其特征在于：所述电极组件包括陶瓷柱、电极板和电极馈入轴；所述电极板设于所述滚筒内，所述陶瓷柱和所述电极馈入轴均与所述电极板的一端连接，且所述陶瓷柱远离所述电极板的一端固定连接于所述腔壳的侧壁上，所述腔壳的侧壁上设有供所述电极馈入轴伸出的安装孔。
5.根据权利要求4所述的真空等离子清洗腔体，其特征在于：所述电极板上开设有多个通孔，多个所述通孔阵列设置。
6.根据权利要求1所述的真空等离子清洗腔体，其特征在于：还包括多个滚轴，多个所述滚轴平行安装于所述腔壳内，所述滚筒架设于所述多个所述滚轴上，且所述滚筒的轴向与所述滚轴的轴向平行。
7.根据权利要求1所述的真空等离子清洗腔体，其特征在于：还包括动力组件，所述动力组件包括驱动件、安装于所述滚筒上的第一传动件以及与所述第一传动件相配合的第二传动件，所述第二传动件设置于所述驱动件的输出端。
8.根据权利要求1所述的真空等离子清洗腔体，其特征在于：还包括挡板和绝缘垫，所述挡板固定连接于所述腔壳的内壁面上并跨设于所述真空吸孔的一端，所述绝缘垫设于所述挡板与所述腔壳的内壁面之间。
9.根据权利要求1所述的真空等离子清洗腔体，其特征在于：还包括视窗玻璃，所述腔体门上开设有观察窗，所述视窗玻璃封闭所述观察窗。
10.根据权利要求1所述的真空等离子清洗腔体，其特征在于：所述腔壳和所述腔体门的接触面上设有密封圈。
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| CN202221814649.3U CN217797816U (zh) | 2022-07-13 | 2022-07-13 | 一种真空等离子清洗腔体 |
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| CN202221814649.3U CN217797816U (zh) | 2022-07-13 | 2022-07-13 | 一种真空等离子清洗腔体 |
Publications (1)
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115971169A (zh) * | 2023-02-24 | 2023-04-18 | 深圳市方瑞科技有限公司 | 一种滚筒式真空等离子清洗机及其工作方法 |
-
2022
- 2022-07-13 CN CN202221814649.3U patent/CN217797816U/zh active Active
Cited By (2)
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| CN115971169A (zh) * | 2023-02-24 | 2023-04-18 | 深圳市方瑞科技有限公司 | 一种滚筒式真空等离子清洗机及其工作方法 |
| CN115971169B (zh) * | 2023-02-24 | 2023-07-07 | 深圳市方瑞科技有限公司 | 一种滚筒式真空等离子清洗机及其工作方法 |
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