CN217797812U - 一种微波等离子清洗机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种微波等离子清洗机,包括机壳和安装于机壳内的真空腔体、固态微波源、波导管、环形器水负载和真空泵,所述真空泵连通真空腔体的一侧壁;所述真空腔的另一侧壁上设有微波馈入口,所述环形器水负载一端连接所述固态微波源,另一端通过所述波导管连接所述微波馈入口。本微波等离子清洗机的结构新颖、简单,有利于生产制造;本微波等离子清洗机的微波发生装置使用了固态微波源和环形器水负载,有效地对微波系统进行了隔离保护,大大延长了微波发生装置的使用寿命,从而提高了设备整体的稳定性和整机寿命。
Description
技术领域
本实用新型涉及等离子清洗设备技术领域,尤其涉及一种微波等离子清洗机。
背景技术
等离子体是指电离气体,是电子、离子、原子、分子或自由基等离子组成的集合体。它的正、负电荷的数量基本相等,所以整体呈电中性。等离子清洗机是一种全新的清洗技术,利用等离子体达到常规清洗方法无法达到的清洗效果。等离子清洗机分为中频、射频和微波等离子清洗机三种类型,其中微波的放电频率最高,气体电离度最大,自偏压极小,离子冲击小,对器件的损伤小,不产生紫外线辐射。现有的微波等离子清洗机的微波发生装置的使用寿命较短,设备整体的稳定性较差,整机寿命短。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是:提供一种稳定性更强,使用寿命更长的微波等离子清洗机。
为了解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案为:一种微波等离子清洗机,包括机壳和安装于机壳内的真空腔体、固态微波源、波导管、环形器水负载和真空泵,所述真空泵连通真空腔体的一侧壁;所述真空腔的另一侧壁上设有微波馈入口,所述环形器水负载一端连接所述固态微波源,另一端通过所述波导管连接所述微波馈入口。
进一步的,所述真空腔体设有所述微波馈入口的侧壁上还开设有冷却水道,所述冷却水道环绕所述微波馈入口设置。
进一步的,所述机壳内还安装有冰水机,所述冷却水道的两端分别与所述冰水机连通。
进一步的,所述真空腔体设有所述微波馈入口的侧壁上还设有温度传感器。
进一步的,还包括驱动组件和转盘,所述转盘转动连接于所述真空腔体内,所述驱动组件固定安装于所述真空腔体下方并驱动所述转盘旋转。
进一步的,所述真空腔体包括转动连接的腔壳和仓门,所述腔壳的两侧壁分别连通所述固态微波源和真空泵,所述仓门与所述腔壳的接触面上设有密封圈。
进一步的,所述仓门上固定开设有观察窗。
进一步的,所述真空泵连通所述真空腔体的侧壁形成真空吸孔,所述真空腔体的内壁上固设有挡板,所述挡板跨设于所述真空吸孔的一端。
进一步的,所述机壳的底部设有多个用于支撑所述机壳的福马轮。
进一步的,所述机壳上还设有警示灯。
本实用新型的有益效果在于:本微波等离子清洗机的结构新颖、简单,有利于生产制造;本微波等离子清洗机的微波发生装置使用了固态微波源和环形器水负载,有效地对微波系统进行了隔离保护,大大延长了微波发生装置的使用寿命,从而提高了设备整体的稳定性和整机寿命。
附图说明
图1为本实用新型实施例一的微波等离子清洗机的整体结构示意图;
图2为本实用新型实施例一的微波等离子清洗机的剖视图;
图3为本实用新型实施例一的微波等离子清洗机中真空腔体的结构示意图;
图4为本实用新型实施例一的微波等离子清洗机中真空腔体的剖视图;
图5为本实用新型实施例一的微波等离子清洗机中真空腔体的侧壁的剖视图。
标号说明:
1、机壳;11、福马轮;12、警示灯;
2、真空腔体;21、腔壳;211、微波馈入口;212、冷却水道;213、密封圈;22、仓门;221、观察窗;23、温度传感器;24、转盘;25、挡板;26、真空规管;
3、固态微波源;
4、波导管;
5、环形器水负载;
6、真空泵;
7、冰水机;
8、驱动组件;
9、PC一体机。
具体实施方式
为详细说明本实用新型的技术内容、所实现目的及效果,以下结合实施方式并配合附图予以说明。
请参照图1至图5,一种微波等离子清洗机,包括机壳1和安装于机壳1内的真空腔体2、固态微波源3、波导管4、环形器水负载5和真空泵6,所述真空泵6连通真空腔体2的一侧壁;所述真空腔的另一侧壁上设有微波馈入口211,所述环形器水负载5一端连接所述固态微波源3,另一端通过所述波导管4连接所述微波馈入口211。
从上述描述可知,本实用新型的有益效果在于:本微波等离子清洗机的结构新颖、简单,有利于生产制造;本微波等离子清洗机的微波发生装置使用了固态微波源3和环形器水负载5,有效地对微波系统进行了隔离保护,大大延长了微波发生装置的使用寿命,从而提高了设备整体的稳定性和整机寿命。
进一步的,所述真空腔体2设有所述微波馈入口211的侧壁上还开设有冷却水道212,所述冷却水道212环绕所述微波馈入口211设置。
由上述描述可知,微波等离子体的温度相对较高,冷却水道212可对真空腔体3的主要发热部位进行冷却降温,防止对一些待清洗的热敏感材料工件产生不良影响。
进一步的,所述机壳1内还安装有冰水机7,所述冷却水道212的两端分别与所述冰水机7连通。
由上述描述可知,本微波等离子清洗机无需额外连接冷却循环设备。
进一步的,所述真空腔体2设有所述微波馈入口211的侧壁上还设有温度传感器23。
由上述描述可知,温度传感器23可对真空腔体2内的温度进行实时监控,以便于根据待清洗工件的材料调整温度,达到最佳处理效果。
进一步的,还包括驱动组件8和转盘24,所述转盘24转动连接于所述真空腔体2内,所述驱动组件8固定安装于所述真空腔体2下方并驱动所述转盘24旋转。
由上述描述可知,驱动组件8可驱使转盘24和转盘24上的器件缓缓转动,保证转盘24上的器件的各面都有更好更均匀的处理效果。
进一步的,所述真空腔体2包括转动连接的腔壳21和仓门22,所述腔壳21的两侧壁分别连通所述固态微波源3和真空泵6,所述仓门22与所述腔壳21的接触面上设有密封圈213。
由上述描述可知,密封圈213可增强真空腔体2的密封效果,避免真空腔体2发生漏气。
进一步的,所述仓门22上固定开设有观察窗221。
由上述描述可知,使用者可通过观察窗221对真空腔体2内的工件的清洗情况进行观察。
进一步的,所述真空泵6连通所述真空腔体2的侧壁形成真空吸孔,所述真空腔体2的内壁上固设有挡板25,所述挡板25跨设于所述真空吸孔的一端。
由上述描述可知,挡板25可使真空吸孔处的抽吸力更加分散,保证对真空腔体2的内部空间均匀地抽真空。
进一步的,所述机壳1的底部设有多个用于支撑所述机壳1的福马轮11。
由上述描述可知,福马轮11方便使用者移动本微波等离子清洗机。
进一步的,所述机壳1上还设有警示灯12。
由上述描述可知,警示灯12可向使用者提示当前的工作状态。
实施例一
请参照图1至图5,本实用新型的实施例一为:一种微波等离子清洗机,用于对工件表面进行处理,实现分子水平的玷污去除,提高工件表面活性。
所述微波等离子清洗机包括机壳1和安装于机壳1内的真空腔体2、固态微波源3、波导管4、环形器水负载5和真空泵6,所述真空泵6连通真空腔体2的一侧壁;所述真空腔的另一侧壁上设有微波馈入口211,所述环形器水负载5一端连接所述固态微波源3,另一端通过所述波导管4连接所述微波馈入口211。具体的,真空腔体2内还设有工艺气体管道。真空泵6通过一抽气管连通真空腔体2远离微波馈入口211的侧壁。机壳1上还设有PC一体机9和PLC控制设备,以便于精确控制清洗过程;PC一体机9包括控制屏,方便人机交互。机壳1上开设有安装窗口,真空腔体2设于安装窗口内。本实施例中,机壳1内通过架设两个安装板分为三层,真空腔体2安装于顶层,固态微波源3安装于第二层,真空泵6安装于底层;位于上方的安装板上开设有用于避让波导管4和抽气管的缺口。
如图5所示,所述真空腔体2设有所述微波馈入口211的侧壁上还开设有冷却水道212,所述冷却水道212环绕所述微波馈入口211设置。具体的,本实施例中,微波馈入口211呈矩形,所述冷却水道212大体上围成一矩形。容易理解的,当微波馈入口211设为其它形状时,冷却水道212可对应地围成相对应的形状。
如图2所示,所述机壳1内还安装有冰水机7,所述冷却水道212的两端分别与所述冰水机7连通。具体的,冰水机7安装于机壳1内的底层,且冰水机7受PC一体机9和PLC控制设备的控制。
如图5所示,所述真空腔体2设有所述微波馈入口211的侧壁上还设有温度传感器23。具体的,真空腔体2设有微波馈入口211的侧壁上间隔地开设有两个安装孔,两个安装孔中分别设有温度传感器23和真空规管26,以对真空腔体2内的温度和真空度进行实时监控。温度传感器23和真空规管26与PLC控制设备电连接。
如图3所示,所述微波等离子清洗机还包括驱动组件8和转盘24,所述转盘24转动连接于所述真空腔体2的内侧底面上,所述驱动组件8固定安装于所述真空腔体2下方并驱动所述转盘24旋转。具体的,转盘24呈圆形;转盘24通过一贯穿真空腔体2底壁的转轴与驱动组件8驱动连接。驱动组件8优选为电机组件,且驱动组件8与PLC控制设备电连接。
如图3和图4所示,所述真空腔体2包括转动连接的腔壳21和仓门22,所述腔壳21的两侧壁分别连通所述固态微波源3和真空泵6,所述仓门22与所述腔壳21的接触面上设有密封圈213。具体的,腔壳21呈一侧开放的矩形体状;密封圈213优选为O型密封圈213。仓门22与腔壳21的接触面上还设有微波屏蔽圈,用于防止微波泄露。仓门22靠近腔壳21的一面上设有两个环形的安装槽,其中,位于外侧的安装槽中设有所述微波屏蔽圈,位于内侧的安装槽中设有所述密封圈213。在其它实施例中,仓门22上的密封圈213可设有两个、三个或更多个。
如图3所示,所述仓门22上固定开设有观察窗221。观察窗221的一侧覆盖有视窗玻璃;视窗玻璃与仓门22之间设有至少一个密封圈213;视窗玻璃上还贴附有导电膜,防止微波外泄。
如图4所示,所述真空泵6连通所述真空腔体2的侧壁形成真空吸孔,所述真空腔体2的内壁上固设有挡板25,所述挡板25跨设于所述真空吸孔的一端。具体的,挡板25的四个角部设有通孔,真空腔体2的设有真空吸孔的内壁上对应挡板25的通孔设有螺纹孔,以使挡板25通过螺钉连接于真空腔体2内。挡板25与真空腔体2的内壁之间还设有垫块,以使挡板25与真空腔体2的内壁保持一定的间距,分散抽吸力的同时防止挡板25对抽真空过程造成阻滞。
如图1所示,所述机壳1的底部设有多个用于支撑所述机壳1的福马轮11。具体的,机壳1的底面呈矩形,机壳1底面的四个角部分别安装有一个福马轮11。
如图1所示,所述机壳1上还设有警示灯12。具体的,警示灯12与PLC控制设备电连接,用于向使用者提示本微波等离子清洗机的当前工作状态。
本实用新型实施例一的工作过程简述如下:设备运行时,在PC一体机9和PLC的控制下,冰水机7开启,通过冷却水道212冷却本微波等离子清洗机的主要发热部位,接着真空泵6开始运行,对真空腔体2进行抽真空;当腔体内真空度达到一定程度时,充入工艺气体;固态微波源3通过震荡产生的微波通过波导管4和微波馈入口211进入真空腔体2;在高频交变电磁场的作用下,工艺气体电离产生等离子体。在微波馈入的同时,电机带动转盘24及转盘24上的料盒缓缓转动,开始对器件进行清洗处理。当清洗到达一定时间后,固态微波源3关闭,真空泵6停止运行,电机带动转盘24回到原点位置。保护气体快速冲进真空腔体2内部,直至真空腔体2内的压力等于外界压力时,打开真空腔体2,取出器件,完成清洗。
综上所述,本实用新型提供的微波等离子清洗机的结构新颖、简单,有利于生产制造;本微波等离子清洗机的微波发生装置使用了固态微波源和环形器水负载,有效地对微波系统进行了隔离保护,大大延长了微波发生装置的使用寿命,从而提高了设备整体的稳定性和整机寿命。微波等离子体的温度相对较高,冷却水道可对真空腔体的主要发热部位进行冷却降温,防止对一些待清洗的热敏感材料工件产生不良影响。温度传感器可对真空腔体内的温度进行实时监控,以便于根据待清洗工件的材料调整温度,达到最佳处理效果。驱动组件可驱使转盘和转盘上的器件缓缓转动,保证转盘上的器件的各面都有更好更均匀的处理效果。密封圈可增强真空腔体的密封效果,避免真空腔体发生漏气。使用者可通过观察窗对真空腔体内的工件的清洗情况进行观察。挡板可使真空吸孔处的抽吸力更加分散,保证对真空腔体的内部空间均匀地抽真空。福马轮方便使用者移动本微波等离子清洗机。警示灯可向使用者提示当前的工作状态。
以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等同变换,或直接或间接运用在相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种微波等离子清洗机,其特征在于:包括机壳和安装于机壳内的真空腔体、固态微波源、波导管、环形器水负载和真空泵,所述真空泵连通真空腔体的一侧壁;所述真空腔的另一侧壁上设有微波馈入口,所述环形器水负载一端连接所述固态微波源,另一端通过所述波导管连接所述微波馈入口。
2.根据权利要求1所述的微波等离子清洗机,其特征在于:所述真空腔体设有所述微波馈入口的侧壁上还开设有冷却水道,所述冷却水道环绕所述微波馈入口设置。
3.根据权利要求2所述的微波等离子清洗机,其特征在于:所述机壳内还安装有冰水机,所述冷却水道的两端分别与所述冰水机连通。
4.根据权利要求1所述的微波等离子清洗机,其特征在于:所述真空腔体设有所述微波馈入口的侧壁上还设有温度传感器。
5.根据权利要求1所述的微波等离子清洗机,其特征在于:还包括驱动组件和转盘,所述转盘转动连接于所述真空腔体内,所述驱动组件固定安装于所述真空腔体下方并驱动所述转盘旋转。
6.根据权利要求1所述的微波等离子清洗机,其特征在于:所述真空腔体包括转动连接的腔壳和仓门,所述腔壳的两侧壁分别连通所述固态微波源和真空泵,所述仓门与所述腔壳的接触面上设有密封圈。
7.根据权利要求6所述的微波等离子清洗机,其特征在于:所述仓门上固定开设有观察窗。
8.根据权利要求1所述的微波等离子清洗机,其特征在于:所述真空泵连通所述真空腔体的侧壁形成真空吸孔,所述真空腔体的内壁上固设有挡板,所述挡板跨设于所述真空吸孔的一端。
9.根据权利要求1所述的微波等离子清洗机,其特征在于:所述机壳的底部设有多个用于支撑所述机壳的福马轮。
10.根据权利要求1所述的微波等离子清洗机,其特征在于:所述机壳上还设有警示灯。
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CN202221640429.3U CN217797812U (zh) | 2022-06-28 | 2022-06-28 | 一种微波等离子清洗机 |
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CN202221640429.3U CN217797812U (zh) | 2022-06-28 | 2022-06-28 | 一种微波等离子清洗机 |
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Family
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CN116251803A (zh) * | 2023-04-12 | 2023-06-13 | 东莞市晟鼎精密仪器有限公司 | 基于微波等离子干法清洗氮化硅涂层的石墨舟清洗设备 |
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2022
- 2022-06-28 CN CN202221640429.3U patent/CN217797812U/zh active Active
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CN116251803A (zh) * | 2023-04-12 | 2023-06-13 | 东莞市晟鼎精密仪器有限公司 | 基于微波等离子干法清洗氮化硅涂层的石墨舟清洗设备 |
CN116251803B (zh) * | 2023-04-12 | 2023-09-22 | 东莞市晟鼎精密仪器有限公司 | 基于微波等离子干法清洗氮化硅涂层的石墨舟清洗设备 |
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