CN217755836U - 电池真空设备及翻转机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种电池真空设备及翻转机构。所述翻转机构包括：翻转件、吸附组件与吸盘，所述翻转件与所述吸附组件安装配合，所述翻转件用于带动所述吸附组件翻转动作，所述吸盘上设有气流插件，所述吸盘与所述吸附组件安装配合，所述吸盘用于与硅片的中部部位吸附配合，且所述吸盘通过所述气流插件用于将气流引流至吸盘并从所述吸盘外流形成吸附力。相较于传统的吸嘴吸附硅片的方式，上述翻转机构利用吸盘与硅片进行真空吸附与释放，避免了多个吸嘴之间出现吸附力不均的情况，同时也能够有效避免吸嘴吸附硅片在硅片上产生多个吸痕。因此，上述翻转机构能够有效保证对于硅片的吸附效果。

Description

电池真空设备及翻转机构

技术领域

本实用新型涉及电池真空处理的技术领域，特别是涉及电池真空设备及翻转机构。

背景技术

当前异质结太阳能电池制造过程中，需要利用翻转机构对硅片进行翻转并放入花篮中，传统的翻转机构通常采用多个吸嘴对硅片的四角进行同步吸真空与破真空，以达到吸附与释放硅片的目的。但是，由于传统翻转机构所用吸嘴较多，难以保证每个吸嘴的吸附压力均衡，即多个吸嘴容易出现吸附压力差，从而影响了翻转机构对于硅片的吸附效果。

实用新型内容

基于此，有必要针对翻转机构对于硅片的吸附效果较差的问题，提供一种电池真空设备及翻转机构。

一种翻转机构。所述翻转机构包括：翻转件、吸附组件与吸盘，所述翻转件与所述吸附组件安装配合，所述翻转件用于带动所述吸附组件翻转动作，所述吸盘上设有气流插件，所述吸盘与所述吸附组件安装配合，所述吸盘用于与硅片的中部部位吸附配合，且所述吸盘通过所述气流插件用于将气流引流至吸盘并从所述吸盘外流形成吸附力。

一种电池真空设备，包括所述的翻转机构，还包括中控机构与操控台，所述中控机构与所述翻转机构电性连接，所述翻转机构可活动地装设在所述操控台上。

在其中一个实施例中，所述吸附组件包括翻转座、第一安装板与第二安装板，所述吸盘包括第一吸盘与第二吸盘，所述气流插件包括第一插管与第二插管，所述翻转座与所述翻转件安装配合，所述第一安装板的一端与所述翻转座的其中一端安装配合，所述第二安装板的一端与所述翻转座的另一端安装配合，所述第一吸盘与所述第一安装板安装配合，所述第二吸盘与所述第二安装板安装配合，且所述第一吸盘的吸附端与所述第二吸盘的吸附端相向设置，所述第一吸盘通过所述第一插管用于将气流引流至所述第一吸盘并从所述第一吸盘高速外流形成第一吸附力，所述第二吸盘通过所述第二插管用于将气流引流至所述第二吸盘并从所述第二吸盘高速外流形成第二吸附力。

在其中一个实施例中，所述吸附组件还包括第一送气件、第一控制阀与第二控制阀，所述第一送气件装设在所述翻转座上，所述第一送气件通过所述第一控制阀与所述第一插管相连通，所述第一送气件通过所述第二控制阀与所述第二插管相连通。

在其中一个实施例中，所述吸附组件还包括第二送气件、第三送气件、第三控制阀与第四控制阀，所述第二送气件与所述第三送气件均装设在所述翻转座上，所述第二送气件通过所述第三控制阀与所述第一插管相连通，所述第三送气件通过所述第四控制阀与所述第二插管相连通。

在其中一个实施例中，在所述操控台上设有对射传感器，所述对射传感器与所述中控机构电性连接，所述翻转机构还包括第一定位盘与第二定位盘，所述第一定位盘装设在所述翻转件的一端，所述第二定位盘装设在所述翻转件的另一端，沿所述第一定位盘的周向间隔设有多个第一同心孔，沿所述第二定位盘的周向间隔设有多个第二同心孔，所述第一同心孔用于与所述第二同心孔对位连通，所述对射传感器的对射激光用于穿过所述第一同心孔与所述第二同心孔。

在其中一个实施例中，所述电池真空设备还包括接近感应器，所述接近感应器装设在机台上，所述接近感应器用于检测所述机台上的硅片，且所述接近感应器与所述中控机构电性连接。

在其中一个实施例中，所述中控机构包括编码器与PLC处理器，所述编码器与所述PLC处理器电性连接，所述编码器用于识别所述对射传感器与所述接近感应器的识别信号并通过所述PLC处理器执行。

在其中一个实施例中，所述翻转机构还包括紧固件，所述翻转座通过所述紧固件与所述翻转件紧固配合。

在其中一个实施例中，所述第一插管与所述第一吸盘的中心部相连，所述第二插管与所述第二吸盘的中心部相连。

上述翻转机构在使用时，当需要对硅片进行吸附时，通过翻转件带动吸附组件翻转，直至吸盘与目标硅片相对位。然后通过在气流插件中导入气流，气流从气流插件中导入到吸盘并从吸盘高速（按照伯努利原理，气流所需达到的流速）外流，此时大气压作用于硅片，实现吸盘与硅片的非接触式吸附。此时，采用吸盘与硅片的中部吸附配合，从而可以在保证吸盘与硅片的吸附效果，无需对硅片的四角进行对应吸附。进一步地，通过翻转组件带动吸附组件翻转，吸盘吸附着的硅片会一同进行翻转，对吸盘进行去真空操作，此时便能够实现吸盘对硅片的释放。相较于传统的吸嘴吸附硅片的方式，上述翻转机构利用吸盘与硅片进行真空吸附与释放，避免了多个吸嘴之间出现吸附力不均的情况，同时也能够有效避免吸嘴吸附硅片在硅片上产生多个吸痕。因此，上述翻转机构能够有效保证对于硅片的吸附效果。

上述电池真空设备在使用时，通过操控台实现硅片的输送和处理。通过中控机构能够使得翻转机构根据硅片在操作台上的位置进行自动翻转和吸附等操作。进一步地，相较于传统的吸嘴吸附硅片的方式，上述翻转机构利用吸盘与硅片进行真空吸附与释放，避免了多个吸嘴之间出现吸附力不均的情况，同时也能够有效避免吸嘴吸附硅片在硅片上产生多个吸痕。因此，上述翻转机构能够有效保证对于硅片的吸附效果。

附图说明

图1为翻转机构的整体结构示意图；

图2为吸盘吸附时的气流流动图；

图3为第一吸盘的气流输送图；

图4为电池真空设备的电性控制图。

10、硅片，100、翻转件，110、第一定位盘，111、第一同心孔，120、第二定位盘，121、第二同心孔，200、吸附组件，210、翻转座，220、第一安装板，230、第二安装板，240、第一送气件，300、吸盘，310、第一吸盘，320、第二吸盘，310、气流插件，400、中控机构，410、编码器，420、PLC处理器，500、对射传感器，600、接近感应器。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

结合图1和图2所示，在一个实施例中，所述翻转机构包括：翻转件100、吸附组件200与吸盘300，所述翻转件100与所述吸附组件200安装配合，所述翻转件100用于带动所述吸附组件200翻转动作，所述吸盘300上设有气流插件310，所述吸盘300与所述吸附组件200安装配合，所述吸盘300用于与硅片10的中部部位吸附配合，且所述吸盘300通过所述气流插件310用于将气流引流至吸盘300并从所述吸盘300高速外流形成吸附力。

上述翻转机构在使用时，当需要对硅片10进行吸附时，通过翻转件100带动吸附组件200翻转，直至吸盘300与目标硅片10相对位。然后通过在气流插件310中导入气流，气流从气流插件310中导入到吸盘300并从吸盘300高速（根据伯努利原理，气流所需达到的流速）外流，此时大气压作用于硅片10，实现吸盘300与硅片10的非接触式吸附。此时，采用吸盘300与硅片10的中部吸附配合，从而可以在保证吸盘300与硅片10的吸附效果，无需对硅片10的四角进行对应吸附。进一步地，通过翻转组件带动吸附组件200翻转，吸盘300吸附着的硅片10会一同进行翻转，对吸盘300进行去真空操作，此时便能够实现吸盘300对硅片10的释放。相较于传统的吸嘴吸附硅片10的方式，上述翻转机构利用吸盘300与硅片10进行真空吸附与释放，避免了多个吸嘴之间出现吸附力不均的情况，同时也能够有效避免吸嘴吸附硅片10在硅片10上产生多个吸痕。因此，上述翻转机构能够有效保证对于硅片10的吸附效果。

结合图1所示，在一个实施例中，所述吸附组件200包括翻转座210、第一安装板220与第二安装板230，所述吸盘300包括第一吸盘310与第二吸盘320，所述气流插件310包括第一插管与第二插管，所述翻转座210与所述翻转件100安装配合，所述第一安装板220的一端与所述翻转座210的其中一端安装配合，所述第二安装板230的一端与所述翻转座210的另一端安装配合，所述第一吸盘310与所述第一安装板220安装配合，所述第二吸盘320与所述第二安装板230安装配合，且所述第一吸盘310的吸附端与所述第二吸盘320的吸附端相向设置，所述第一吸盘310通过所述第一插管用于将气流引流至所述第一吸盘310并从所述第一吸盘310高速外流形成第一吸附力，所述第二吸盘320通过所述第二插管用于将气流引流至所述第二吸盘320并从所述第二吸盘320高速外流形成第二吸附力。具体地，翻转件100为翻转轴或翻转电机。根据使用要求，可以确定第一安装板220与第二安装板230在翻转座210上的相对安装角度。例如：第一安装板220与第二安装板230装设在翻转座210上后，第一安装板220与第二安装板230相平行，即实现第一吸盘310与第二吸盘320对硅片10进行180°交替吸附或释放。上述这种实施方式可以有效提高翻转机构对于硅片10的处理效率。

在一个实施例中，所述第一插管与所述第一吸盘310的中心部相连，所述第二插管与所述第二吸盘320的中心部相连。具体地，上述这种实施方式有助于气流在第一吸盘310处均匀扩散流动以及第二吸盘320处均匀扩散流动，保证了第一吸盘310与第二吸盘320的吸附效果。

结合图3所示，在一个实施例中，所述吸附组件200还包括第一送气件240、第一控制阀与第二控制阀，所述第一送气件240装设在所述翻转座210上，所述第一送气件240通过所述第一控制阀与所述第一插管相连通，所述第一送气件240通过所述第二控制阀与所述第二插管相连通。所述吸附组件200还包括第二送气件、第三送气件、第三控制阀与第四控制阀，所述第二送气件与所述第三送气件均装设在所述翻转座210上，所述第二送气件通过所述第三控制阀与所述第一插管相连通，所述第三送气件通过所述第四控制阀与所述第二插管相连通。具体地，第一送气件240、第二送气件与第三送气件为送气管或送气孔。上述这种实施方式可以根据送气件内的气压大小选用一个送气件对第一插管和第二插管同时送气，或选用两个送气件分别对第一插管与第二插管进行送气。

在一个实施例中，所述翻转机构还包括紧固件，所述翻转座210通过所述紧固件与所述翻转件100紧固配合。具体地，紧固件为紧固销或紧固螺栓。上述这种实施方式可以有效保证翻转件100与翻转座210的紧固效果，保证翻转件100与翻转座210的同步程度。

在一个实施例中，一种电池真空设备，包括所述的翻转机构，还包括中控机构400与操控台，所述中控机构400与所述翻转机构电性连接，所述翻转机构可活动地装设在所述操控台上。上述电池真空设备在使用时，通过操控台实现硅片10的输送和处理。通过中控机构400能够使得翻转机构根据硅片10在操作台上的位置进行自动翻转和吸附等操作。进一步地，相较于传统的吸嘴吸附硅片10的方式，上述翻转机构利用吸盘300与硅片10进行真空吸附与释放，避免了多个吸嘴之间出现吸附力不均的情况，同时也能够有效避免吸嘴吸附硅片10在硅片10上产生多个吸痕。因此，上述翻转机构能够有效保证对于硅片10的吸附效果。

结合图4所示，在一个实施例中，在所述操控台上设有对射传感器500，所述对射传感器500与所述中控机构400电性连接，所述翻转机构还包括第一定位盘110与第二定位盘120，所述第一定位盘110装设在所述翻转件100的一端，所述第二定位盘120装设在所述翻转件100的另一端，沿所述第一定位盘110的周向间隔设有多个第一同心孔111，沿所述第二定位盘120的周向间隔设有多个第二同心孔121，所述第一同心孔111用于与所述第二同心孔121对位连通，所述对射传感器500的对射激光用于穿过所述第一同心孔111与所述第二同心孔121。具体地，利用对射传感器500对翻转机构的翻转效果进行监控，即在正常状态下翻转机构翻转完成后，对射传感器500的射频激光会经过第一同心孔111与第二同心孔121形成激光对射，此时中枢机构便能够得出翻转机构的平行度良好。当对射传感器500的对射激光无法穿过第一同心孔111与第二同心孔121时，中控机构400会进行报警操作，提醒员工及时调整。进一步地，在进行开孔时，第一同心孔111在第一定位盘110上的间隔开设角度可以为60°，以及第二同心孔121在第二定位盘120上的间隔开设角度可以为60°。或者根据实际设备的加工要求，灵活确定第一同心孔111与第二同心孔121的开设角度，以此便于配合其他设备或机台检修工作。

结合图4所示，在一个实施例中，所述电池真空设备还包括接近感应器600，所述接近感应器600装设在机台上，所述接近感应器600用于检测所述机台上的硅片10，且所述接近感应器600与所述中控机构400电性连接。所述中控机构400包括编码器410与PLC处理器420，所述编码器410与所述PLC处理器420电性连接，所述编码器410用于识别所述对射传感器500与所述接近感应器600的识别信号并通过所述PLC处理器420执行。具体地，PLC处理器420为可编程逻辑控制器。当硅片10在操控台上移动至翻转机构上方时，操控台上的接近感应器600感应到硅片10，编码器410识别接近感应器600的信号，同时，对射传感器500透过第一同心孔111与第二同心孔121实现对射，编码器410识别到对射传感器500的信号，由PLC处理器420控制翻转机构执行相应操作，将压缩空气冲入第一吸盘310或第二吸盘320中，输入的压缩空气在吸盘300内转向，在硅片10和吸盘300表面之间形成回流，气流通过第一吸盘310（或第二吸盘320）和第一插件（或第二插件）之间的缝隙流动，提高气流速度后，高速外流的气流在吸盘300与硅片10之间产生真空，吸盘300上的垫片让吸盘300和硅片10之间保持微小距离，确保气体可以顺畅流出，实现吸盘300与硅片10接触非常小的前提下完成吸附。吸真空完成后，编码器410发出信号，翻转件100运动，例如翻转180度，使吸附的硅片10也翻转180度后重新回到输送位置上。完成以上动作后，此时对射传感器500再次进行对射出激光传感，当激光可以完全实现穿过同心盘小孔后，PLC发出信号进行下一步动作，输送位置上接近感应器600感应到硅片10后，PLC处理器420会控制第一吸盘310（或第二吸盘320）执行破真空，硅片10自然回到输送位置，至此翻转机构完成一个完成的翻转过程，并不断重复此动作。需要说明的是，若翻转机构在进行任何一次吸真空与破真空时发现激光对射传感器500无法正常穿过同心盘小孔实现对射时，编码器410无法识别对射传感器500的信号，PLC处理器420会发出信号异常报警，例如：蜂鸣器异响，现场员工可第一时间通知上料员工停止送料，并对翻转机构进行调整，避免批量的不良与主机的堵板。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种翻转机构，其特征在于，所述翻转机构包括：翻转件、吸附组件与吸盘，所述翻转件与所述吸附组件安装配合，所述翻转件用于带动所述吸附组件翻转动作，所述吸盘上设有气流插件，所述吸盘与所述吸附组件安装配合，所述吸盘用于与硅片的中部部位吸附配合，且所述吸盘通过所述气流插件用于将气流引流至吸盘并从所述吸盘外流形成吸附力。

2.根据权利要求1所述的翻转机构，其特征在于，所述吸附组件包括翻转座、第一安装板与第二安装板，所述吸盘包括第一吸盘与第二吸盘，所述气流插件包括第一插管与第二插管，所述翻转座与所述翻转件安装配合，所述第一安装板的一端与所述翻转座的其中一端安装配合，所述第二安装板的一端与所述翻转座的另一端安装配合，所述第一吸盘与所述第一安装板安装配合，所述第二吸盘与所述第二安装板安装配合，且所述第一吸盘的吸附端与所述第二吸盘的吸附端相向设置，所述第一吸盘通过所述第一插管用于将气流引流至所述第一吸盘并从所述第一吸盘高速外流形成第一吸附力，所述第二吸盘通过所述第二插管用于将气流引流至所述第二吸盘并从所述第二吸盘高速外流形成第二吸附力。

3.根据权利要求2所述的翻转机构，其特征在于，所述第一插管与所述第一吸盘的中心部相连，所述第二插管与所述第二吸盘的中心部相连。

4.根据权利要求2所述的翻转机构，其特征在于，所述翻转机构还包括紧固件，所述翻转座通过所述紧固件与所述翻转件紧固配合。

5.根据权利要求2所述的翻转机构，其特征在于，所述吸附组件还包括第一送气件、第一控制阀与第二控制阀，所述第一送气件装设在所述翻转座上，所述第一送气件通过所述第一控制阀与所述第一插管相连通，所述第一送气件通过所述第二控制阀与所述第二插管相连通。

6.根据权利要求2所述的翻转机构，其特征在于，所述吸附组件还包括第二送气件、第三送气件、第三控制阀与第四控制阀，所述第二送气件与所述第三送气件均装设在所述翻转座上，所述第二送气件通过所述第三控制阀与所述第一插管相连通，所述第三送气件通过所述第四控制阀与所述第二插管相连通。

7.一种电池真空设备，其特征在于，包括权利要求1至6任意一项所述的翻转机构，还包括中控机构与操控台，所述中控机构与所述翻转机构电性连接，所述翻转机构可活动地装设在所述操控台上。

8.根据权利要求7所述的电池真空设备，其特征在于，在所述操控台上设有对射传感器，所述对射传感器与所述中控机构电性连接，所述翻转机构还包括第一定位盘与第二定位盘，所述第一定位盘装设在所述翻转件的一端，所述第二定位盘装设在所述翻转件的另一端，沿所述第一定位盘的周向间隔设有多个第一同心孔，沿所述第二定位盘的周向间隔设有多个第二同心孔，所述第一同心孔用于与所述第二同心孔对位连通，所述对射传感器的对射激光用于穿过所述第一同心孔与所述第二同心孔。

9.根据权利要求8所述的电池真空设备，其特征在于，所述电池真空设备还包括接近感应器，所述接近感应器装设在机台上，所述接近感应器用于检测所述机台上的硅片，且所述接近感应器与所述中控机构电性连接。

10.根据权利要求9所述的电池真空设备，其特征在于，所述中控机构包括编码器与PLC处理器，所述编码器与所述PLC处理器电性连接，所述编码器用于识别所述对射传感器与所述接近感应器的识别信号并通过所述PLC处理器执行。

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