CN217715699U - 真空干燥装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种真空干燥装置。本实用新型的真空干燥装置包括箱体、承载机构以及导流机构；箱体具有能够预设真空度以及预设温度的真空干燥腔，承载机构活动设置于真空干燥腔内以用于承载待干燥物件，导流机构包括层叠设置的第一导流件与第二导流件，第一导流件上设置有若干个第一导流孔，第二导流件上设置有若干个第二导流孔，第一导流孔与第一导流孔在承载机构上的正投影不完全重叠。本实用新型的真空干燥装置可实现精细控制溶剂挥发方向，实现待干燥物件上不同区域以及待干燥物件的像素坑内不同区域的溶剂挥发程度均匀分布。

Description

真空干燥装置

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，特别是涉及一种真空干燥装置。

背景技术

显示器件例如OLED器件制作工艺中，某些功能材料如空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)以及发光层材料(EML)等功能性材料可采用喷墨打印工艺。显示器件效率的影响因素中，各功能层材料的成膜均匀性是很重要的考察点。按照显示器件制作工艺中对墨水材料成膜的均匀性的影响，主要为三个工艺步骤：一是喷墨打印工艺，其墨滴体积、滴落角度控制的精确性对像素坑内墨水材料的成膜的均匀性有重要影响；二是减压干燥工艺，在墨水中的溶剂成分挥发速率以及腔体内的气压控制等对墨水材料成膜的均匀性也有重要影响。三是烘烤工艺，针对玻璃基板加热的均匀性对墨水材料的均匀成膜有重要影响。

目前，针对大尺寸的基板会存在问题：基板上先进行喷墨打印的区域和最后进行喷墨打印的区域因为间隔时间过长，导致墨水材料的干燥程度差异太大，导致进行后续的减压干燥工艺后，会出现成膜膜质不均匀；另外一方面，在像素坑内的墨水边缘与中心部因为蒸发速率不同，往往会出现像素坑内四周堆积或者中心部堆积等不均匀的成膜现象。

实用新型内容

基于此，有必要针对传统技术中存在具体到各个像素内的微观成膜不均，以及各个像素内的整面基底不同区域的成膜不均匀的问题，提供一种真空干燥装置。

一种真空干燥装置，包括：

箱体，所述箱体具有能够预设真空度以及预设温度的真空干燥腔；

承载机构，所述承载机构活动设置于所述真空干燥腔内以用于承载待干燥物件；以及

导流机构，所述导流机构设置在所述真空干燥腔内，且与所述承载机构相对设置，所述导流机构包括层叠设置的第一导流件与第二导流件，所述第一导流件上设置有若干个第一导流孔，所述第二导流件上设置有若干个第二导流孔，所述第一导流孔与所述第一导流孔在所述承载机构上的正投影不完全重叠。

在其中一些实施例中，所述第一导流件的数量为多个，所述第二导流件的数量为多个，所述第一导流件与所述第二导流件交替间隔分布，且所述第一导流件与所述第二导流件之间的水平位置可调和/或所述第一导流件与所述第二导流件之间的垂直间距可调。

在其中一些实施例中，所述第一导流孔在所述第一导流件上呈矩阵分布；

所述第二导流孔在所述第二导流件上呈矩阵分布；所述第一导流件上的任一所述第一导流孔与所述第二导流件上的任一所述第二导流孔在所述承载机构上的正投影不完全重叠；

所述第一导流孔与所述第二导流孔均相对于所述箱体沿竖直方向延伸。

在其中一些实施例中，所述第一导流孔的孔径与所述第二导流孔的孔径相同，所述第一导流孔的孔径与所述第二导流孔的孔径为1mm-50mm。

在其中一些实施例中，所述真空干燥装置还包括支撑机构，所述支撑机构设置在所述真空干燥腔内，所述支撑机构用于承载所述第一导流件与所述第二导流件。

在其中一些实施例中，所述支撑机构包括：

第一支撑件，所述第一支撑件连接于所述真空干燥腔的内壁，所述第一导流件活动连接于所述第一支撑件；

第二支撑件，所述第二支撑件连接于所述真空干燥腔的内壁，所述第二导流件活动连接于所述第二支撑件。

在其中一些实施例中，所述真空干燥装置还包括移动机构，所述移动机构连接于各个所述第一导流件或者各个所述第二导流件，所述移动机构连接用于驱动各个所述第一导流件同步移动或者各个所述第二导流件同步移动，以调节相邻的所述第一导流孔与所述第二导流孔之间的水平位置和/或垂直间距。

在其中一些实施例中，所述移动机构驱动各个所述第一导流件同步移动的距离或者各个所述第二导流件同步移动的距离为1/4S-1/2S，其中S为相邻的所述第一导流孔与所述第二导流孔之间的最大水平间距。

在其中一些实施例中，所述真空干燥装置还包括冷凝板，所述冷凝板设置于所述真空干燥腔内且位于所述导流机构的上方。

在其中一些实施例中，所述真空干燥装置还包括升降机构，所述升降机构连接于所述承载机构以用于驱动所述承载机构升降运动。

在其中一些实施例中，所述承载机构的用于承载待干燥物件的承载台面与所述冷凝板之间的距离为21～60mm。

上述的真空干燥装置，通过设置了层叠结构且间隔的第一导流件与第二导流件，并且第一导流件上的第一导流孔与第二导流件上的第二导流孔呈错位分布，可实现精细控制溶剂挥发方向，实现待干燥物件上不同区域以及待干燥物件的像素坑内不同区域的溶剂挥发程度均匀分布。上述的真空干燥装置，在干燥工艺中规避了待干燥物件如玻璃基板上不同区域以及像素内像素边缘与像素中心部的干燥氛围不同的问题，提高了玻璃基板上整面区域的膜厚均匀性。在显示器件的干燥工艺中，可以有效避免喷墨打印工艺中因墨水溶剂在玻璃基板四周与中心位置干燥情况不同的问题以及像素边缘与像素中心位置干燥情况不同的问题，保证了显示器件制作中的干燥工艺稳定性，进而确保了经过干燥工艺后，墨水材料在玻璃基板整面性上的膜厚均匀性。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单的介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对本领域技术人员来说，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

为了更完整地理解本申请及其有益效果，下面将结合附图来进行说明。其中，在下面的描述中相同的附图标号表示相同部分。

图1为本实用新型一实施例所述的真空干燥装置整体结构侧面示意图；

图2为本实用新型一实施例所述的真空干燥装置的导流机构侧面示意图；

图3为本实用新型一实施例所述的真空干燥装置的导流机构俯视示意图；

图4为本实用新型一实施例所述的真空干燥装置的导流机构与移动机构配合示意图。

附图标记说明

10、真空干燥装置；100、箱体；101、真空干燥腔；200、承载机构；300、导流机构；301、第一导流件；3011、第一导流孔；302、第二导流件；3021、第二导流孔；401、第一支撑件；402、第二支撑件；500、冷凝板；600、升降机构；20、待干燥物件。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

在本实用新型的描述中，若干的含义是一个以上，多个的含义是两个以上，大于、小于、超过等理解为不包括本数，以上、以下、以内等理解为包括本数。如果有描述到第一、第二只是用于区分技术特征为目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

本申请实施例提供一种真空干燥装置10，以解决传统技术中存在具体到各个像素内的微观成膜不均，以及各个像素内的整面基底不同区域的成膜不均匀的问题。以下将结合附图对进行说明。

本申请实施例提供的真空干燥装置10，示例性的，请参阅图1所示，图1为本申请实施例提供的真空干燥装置10的结构示意图。本申请的真空干燥装置10能够用于发光器件例如OLED器件制作工艺中成膜干燥用途。

为了更清楚的说明真空干燥装置10的结构，以下将结合附图对真空干燥装置10进行介绍。

示例性的，请参阅图1所示，一种真空干燥装置10，包括箱体100、承载机构200以及导流机构300。箱体100具有能够预设真空度以及预设温度的真空干燥腔101。承载机构200活动设置于真空干燥腔101内以用于承载待干燥物件20，其中，待干燥物件20可以是各种材质的基板如玻璃基板。导流机构300设置在真空干燥腔101内，且与承载机构200相对设置。导流机构300包括层叠设置的第一导流件301与第二导流件302。第一导流件301上设置有若干个第一导流孔3011，第二导流件302上设置有若干个第二导流孔3021。参见图2所示，第一导流件301与第二导流件302重叠设置于真空干燥腔101内，第一导流孔3011与第二导流孔3021均相对于箱体100呈竖直方向延伸。第一导流孔3011与第一导流孔3011在所述承载机构上的正投影不完全重叠。其中，需要说明的是，第一导流孔3011与第一导流孔3011在承载机构200上的正投影不完全重叠可以是部分重叠或者完全不重叠。

在其中一些实施例中，参见图2所示，第一导流件301呈板状结构。第二导流件302呈板状结构。

在其中一些实施例中，参见图3所示，第一导流件301的数量为多个，第二导流件302的数量为多个，第一导流件301与第二导流件302交替间隔分布。且第一导流件301与第二导流件302之间的水平位置可调和/或第一导流件301与第二导流件302之间的垂直间距可调。需要说明的是，水平位置指的是图2所示角度左右方向上的位置，垂直间距指的是图2所示角度上下方向上的间距。

在其中一些实施例中，第一导流孔3011在第一导流件301上呈矩阵分布。第二导流孔3021在第二导流件302上呈矩阵分布。需要说明的是，上述的矩阵分布可以是多行多列分布、同心圆分布等分布结构。第一导流件301上的任一所述第一导流孔3011与第二导流件302上的任一第二导流孔3021在承载机构200上的正投影不完全重叠。

例如，在其中一个具体实施例中，第一导流孔3011在第一导流件301上呈多行多列分布；第二导流孔3021在第二导流件302上呈多行多列分布。参见图3所示的角度，第一导流件301上的任意一行的第一导流孔3011与第二导流件302上的任意一行的第二导流孔3021错位也即在承载机构200上的正投影不完全重叠，第一导流件301上的任意一列的第一导流孔3011与第二导流件302上的任意一列的第二导流孔3021错位也即在承载机构200上的正投影不完全重叠。

不难理解，在其他实施例中，第一导流孔3011在第一导流件301上的分布规则、第二导流孔3021在第二导流件302上的分布规则还可以根据需要进行设置，只要能够实现移动第一导流件301或者第二导流件302时，能够使得相邻的第一导流孔3011与第二导流孔3021之间的位置发生一致性变化即可。

在其中一些实施例中，第一导流孔3011的孔径与第二导流孔3021的孔径相同。参见图3所示，第一导流孔3011与第二导流孔3021均呈圆形柱状孔。第一导流孔3011的孔径与第二导流孔3021的孔径为1mm-50mm。

在其中一些实施例中，真空干燥装置10还包括支撑机构。支撑机构设置在真空干燥腔101内，支撑机构用于承载第一导流件301与第二导流件302。

在其中一些实施例中，支撑机构包括第一支撑件401。第一支撑件401连接于真空干燥腔101的内壁，第一导流件301活动连接于第一支撑件401。第一支撑件401可以是支撑脚、支撑板等结构。

在其中一些实施例中，支撑机构包括第二支撑件402，第二支撑件402连接于真空干燥腔101的内壁，第二导流件302活动连接于第二支撑件402。第二支撑件402可以是支撑脚、支撑板等结构。

在其中一些实施例中，真空干燥装置10还包括移动机构。移动机构连接于各个第一导流件301或者各个第二导流件302，移动机构连接用于驱动各个第一导流件301同步移动或者各个第二导流件302同步移动，以实现调节相邻的第一导流孔3011与第二导流孔3021之间的水平间距。移动机构在附图1-附图4中均未示出。移动机构可以是驱动电机、伸缩气缸等驱动机构。

例如，在其中一个具体示例中，移动机构连接于各个第一导流件301，移动机构连接用于驱动各个第一导流件301同步移动，以实现调节相邻的第一导流孔3011与第二导流孔3021之间的水平间距。第二导流件302相对于箱体100位置不变，通过移动第一导流件301实现相邻的第一导流孔3011与第二导流孔3021之间的位置和/或垂直间距。

在其中一些实施例中，移动机构驱动各个第一导流件301同步移动的距离或者各个第二导流件302同步移动的距离为1/4S-1/2S，其中S为相邻的所述第一导流孔与所述第二导流孔之间的最大水平间距。该最大水平间距可以是初始状态时相邻的第一导流孔3011与第二导流孔3021之间的水平间距，需要说明的是，初始状态时指的时在未加工时第一导流件301与第二导流件302的原始复位状态。例如，在其中一个具体示例中，设置移动机构驱动各个第二导流件302同步移动的距离为1/4S，也即参照图4所示，移动机构驱动各个第二导流件302同步向左或者向右移动的距离1/4S。上述实施例中，设置移动机构能够自动调节相邻的第一导流孔3011与第二导流孔3021之间的水平间距，以最大化提高墨水材料在玻璃基板整面性上的膜厚均匀性；第一导流件301向打印起始段横向移动，打印起始段区域的第一导流孔3011、第二导流孔3021的密集程度大于打印结束段区域，如此溶剂氛围挥发的速率达到平衡，减缓了打印起始段区域的墨水溶剂挥发速率，可以将整面玻璃基板上的蒸发氛围差异降低，避免了整面玻璃基板上不同区域干燥氛围不同的问题，从而保证了在干燥工艺时成膜均匀性。

在其中一些实施例中，真空干燥装置10还包括冷凝板500。冷凝板500设置于真空干燥腔101内且位于导流机构300的上方。冷凝板500的面积与导流机构300水平的面积相同，进一步地，冷凝板500水平的形状、尺寸分别与导流机构300水平状态的形状、尺寸相同。也即冷凝板500能够覆盖整个导流机构300。

在其中一些实施例中，真空干燥装置10还包括升降机构600。升降机构600连接于承载机构200以用于驱动承载机构200升降运动。例如，在其中一个具体示例中，升降机构600可以是升降驱动气缸、丝杠组件、驱动电机等。上述实施例设置升降机构600，可以用于自动调节承载机构200的承载台面与冷凝板500之间的间距。

在其中一些实施例中，承载机构200的用于承载待干燥物件20的承载台面与冷凝板500之间的距离为21～60mm。例如，在其中一个具体示例中，承载待干燥物件20的承载台面与冷凝板500之间的距离为21mm，在另一个具体示例中，承载待干燥物件20的承载台面与冷凝板500之间的距离为60mm。

上述的真空干燥装置10在使用时，上述的承载结构的承载台面的温度设定为T1，冷凝板500的温度设定为T2，其中，T2＜T1。控制升降机构600驱动承载机构200升降运动以实现承载台面上承载的待干燥物件20与冷凝板500之间的距离为21mm。

上述的真空干燥装置10，通过设置了层叠结构的第一导流件301与第二导流件302，并且第一导流件301上的第一导流孔3011与第二导流件302上的第二导流孔3021呈错位分布，可实现精细控制溶剂挥发方向，实现待干燥物件20上不同区域以及待干燥物件20的像素坑内不同区域的溶剂挥发程度均匀分布。上述的真空干燥装置10，在干燥工艺中规避了待干燥物件20如玻璃基板上不同区域以及像素内像素边缘与像素中心部的干燥氛围不同的问题，提高了玻璃基板上整面区域的膜厚均匀性。在显示器件的干燥工艺中，可以有效避免喷墨打印工艺中因墨水溶剂在玻璃基板四周与中心位置干燥情况不同的问题以及像素边缘与像素中心位置干燥情况不同的问题，保证了显示器件制作中的干燥工艺稳定性，进而确保了经过干燥工艺后，墨水材料在玻璃基板整面性上的膜厚均匀性。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (11)

1.一种真空干燥装置，其特征在于，包括：

箱体，所述箱体具有能够预设真空度以及预设温度的真空干燥腔；

承载机构，所述承载机构活动设置于所述真空干燥腔内以用于承载待干燥物件；以及

导流机构，所述导流机构设置在所述真空干燥腔内，且与所述承载机构相对设置，所述导流机构包括层叠设置的第一导流件与第二导流件，所述第一导流件上设置有若干个第一导流孔，所述第二导流件上设置有若干个第二导流孔，所述第一导流孔与所述第一导流孔在所述承载机构上的正投影不完全重叠。

2.根据权利要求1所述的真空干燥装置，其特征在于，所述第一导流件的数量为多个，所述第二导流件的数量为多个，所述第一导流件与所述第二导流件交替间隔分布，且所述第一导流件与所述第二导流件之间的水平位置可调和/或所述第一导流件与所述第二导流件之间的垂直间距可调。

3.根据权利要求1所述的真空干燥装置，其特征在于，所述第一导流孔在所述第一导流件上呈矩阵分布；

所述第二导流孔在所述第二导流件上呈矩阵分布；

所述第一导流件上的任一所述第一导流孔与所述第二导流件上的任一所述第二导流孔在所述承载机构上的正投影不完全重叠；

所述第一导流孔与所述第二导流孔均相对于所述箱体沿竖直方向延伸。

4.根据权利要求1-3任意一项所述的真空干燥装置，其特征在于，所述第一导流孔的孔径与所述第二导流孔的孔径相同，所述第一导流孔的孔径与所述第二导流孔的孔径为1mm-50mm。

5.根据权利要求1-3任意一项所述的真空干燥装置，其特征在于，所述真空干燥装置还包括：

支撑机构，所述支撑机构设置在所述真空干燥腔内，所述支撑机构用于承载所述第一导流件与所述第二导流件。

6.根据权利要求5所述的真空干燥装置，其特征在于，所述支撑机构包括：

第一支撑件，所述第一支撑件连接于所述真空干燥腔的内壁，所述第一导流件活动连接于所述第一支撑件；

第二支撑件，所述第二支撑件连接于所述真空干燥腔的内壁，所述第二导流件活动连接于所述第二支撑件。

7.根据权利要求6所述的真空干燥装置，其特征在于，所述真空干燥装置还包括：

移动机构，所述移动机构连接于各个所述第一导流件或者各个所述第二导流件，所述移动机构连接用于驱动各个所述第一导流件同步移动或者各个所述第二导流件同步移动，以调节相邻的所述第一导流孔与所述第二导流孔之间的水平位置和/或垂直间距。

8.根据权利要求7所述的真空干燥装置，其特征在于，所述移动机构驱动各个所述第一导流件同步移动的距离或者各个所述第二导流件同步移动的距离为1/4S-1/2S，其中S为相邻的所述第一导流孔与所述第二导流孔之间的最大水平间距。

9.根据权利要求1-3、6-8任意一项所述的真空干燥装置，其特征在于，所述真空干燥装置还包括：

冷凝板，所述冷凝板设置于所述真空干燥腔内且位于所述导流机构的上方。

10.根据权利要求9所述的真空干燥装置，其特征在于，所述承载机构的用于承载待干燥物件的承载台面与所述冷凝板之间的距离为21～60mm。

11.根据权利要求1-3、6-8、10任意一项所述的真空干燥装置，其特征在于，所述真空干燥装置还包括：

升降机构，所述升降机构连接于所述承载机构以用于驱动所述承载机构升降运动。

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