CN209987590U - 真空干燥装置 - Google Patents
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Abstract
本申请提供了一种真空干燥装置,该真空干燥装置包括真空腔室及位于真空腔室内部的支撑件,所述真空腔室包括抽气口,所述抽气口与真空腔室连通,所述抽气口位于真空腔室的侧部,用于抽取所述真空腔室内部的气体或向所述真空腔室内部填充气体;所述侧部至少包括两个抽气口,所述侧部的各抽气口高度相等,关于真空腔室的垂直中心轴线对称分布;所述支撑件位于真空腔室的下方,用于承载表面涂覆有功能墨水的基板。该真空干燥装置设有多个抽气口,位于真空腔室的侧部,有利于在抽气干燥过程中均衡基板中部区域与边缘区域的气流,促使基板各处溶剂挥发速度稳定,提高了成膜均匀性。
Description
技术领域
本申请属于显示技术领域,尤其涉及一种真空干燥装置。
背景技术
在显示技术领域中,量子点由于具有色域宽、色纯度高、发光波长可调、易合成加工等优异的光学性质和电学性质,被广泛应用于量子点发光二极管(QLED)等光电器件中。
喷墨打印技术被认为是降低大尺寸QLED显示成本的有效方式。在QLED的打印工艺中,将器件功能材料的墨滴打印至像素界定层指定的像素坑后,需要对打印后的湿膜进行真空干燥以除去膜层中的溶剂。真空干燥装置的结构设计会直接影响膜层的厚度均匀性。如果厚度均匀性差,则容易导致器件发光不均匀,或者存在漏电流,影响器件性能。因此,需要提供新型的真空干燥装置以满足大尺寸基板的干燥要求。
实用新型内容
针对上述技术问题,本申请提供一种真空干燥装置。
本申请提供的真空干燥装置包括真空腔室及位于真空腔室内部的支撑件,所述真空腔室包括抽气口,所述抽气口与真空腔室连通,所述抽气口位于真空腔室的侧部,用于抽取所述真空腔室内部的气体或向所述真空腔室内部填充气体;所述侧部至少包括两个抽气口,所述侧部的各抽气口高度相等,关于真空腔室的垂直中心轴线对称分布。
进一步地,所述侧部抽气口为2~6个。
进一步地,所述侧部抽气口的高度低于支撑件的高度。
进一步地,所述侧部抽气口与基板之间的水平距离不少于抽气口的内径。
进一步地,所述抽气口均设有相应控制阀。
进一步地,所述支撑件包括支撑板和多个支撑柱,所述支撑柱一端安装在真空腔室的底部,另一端连接于支撑板,所述支撑板承载表面涂覆有功能墨水的基板。
进一步地,所述支撑件的高度可调节,所述支撑件的高度占所述真空腔室高度的1/5至4/5。
进一步地,所述真空干燥装置还包括真空度检测元件。
有益效果:本申请提供了一种新型真空干燥装置,满足基于喷墨打印的大尺寸基板的干燥要求。该真空干燥装置设有多个抽气口,位于真空腔室的侧部,有利于在抽气干燥过程中均衡基板中部区域与边缘区域的气流,促使基板各处溶剂挥发速度稳定,提高了成膜均匀性。
附图说明
图1为本申请中一个实施方式的真空干燥装置的结构示意图之一;
图2为本申请中一个实施方式的侧部抽气口的结构示意图之一;
图3为本申请中一个实施方式的侧部抽气口的结构示意图之二;
图4为本申请中一个实施方式的侧部抽气口的结构示意图之三;
图5为本申请中一个实施方式的真空干燥装置的结构示意图之二;
图6为本申请中一个实施方式的真空干燥装置的结构示意图之三。
在附图中相同的部件使用了相同的附图标记。附图仅示意性地显示了本申请的实施方案。
具体实施方式
下面将结合本申请实施方式,对本申请实施例中的技术方案进行详细地描述。应注意的是,所描述的实施方式仅仅是本申请一部分实施方式,而不是全部实施方式。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
在本实用新型的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
参见图1,本实用新型提供一种真空干燥装置,包括真空腔室100及位于真空腔室内部的支撑件200,所述真空腔室100包括抽气口,所述抽气口与真空腔室100连通,所述抽气口位于真空腔室100的侧部,用于抽取所述真空腔室100内部的气体或向所述真空腔室100内部填充气体;所述支撑件200位于真空腔室100的下方,用于承载表面涂覆有功能墨水的基板400。
现有技术中的真空干燥装置是在腔体的上方开孔,工作时抽气气流会发生急剧变化,基板上膜层在干燥成膜过程中边缘区域的干燥速率大于中间区域的干燥速率,容易导致膜层的内部形成湍流,导致成膜不均匀。本实用新型在真空腔室侧部设有关于腔室垂直中心轴线对称分布的一组抽气口,抽气口相互独立设置,可以任意选择需要工作的单个或多个抽气口,有效避免了腔室上方开口时抽气气流较大,基板表面各区域气流不稳定的现象。
真空腔室100中气体抽速过快或者过慢,均会引起基板各处在干燥成膜过程中由于溶剂蒸发分离速度不同,而导致成膜不均匀,影响后续工艺。本实用新型的抽气口通过控制阀与真空腔室100连通,用于控制抽气或者进气时的气流通量。
侧部抽气口311与312的高度低于支撑件200。同时,侧部抽气口与基板400之间的水平距离不少于抽气口的内径。通过上述设置,可以使各抽气口相对于待干燥的基板400在水平方向和竖直方向上均保持一定距离,有利于真空腔室内形成平缓稳定的气流,避免基板不同区域的表面气流差距大而引起成膜不均匀。
支撑件200包括支撑板211和多个支撑柱212,所述支撑柱212一端安装在真空腔室100的底部,另一端连接于支撑板211。支撑件200的支撑板211用于承载待干燥的基板。所有支撑柱212的高度可自动调节,进而调控基板400在真空腔体100中的位置,有利于向不同组分的功能墨水提供相应合适的干燥环境。
本实用新型中所述功能墨水是指包含功能性材料,打印后能够形成发光器件相应功能层的墨水。所述功能层包括空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子注入层或电子传输层中至少一种。对于表面涂覆有功能墨水的基板400,在真空腔室100处于负压状态时,功能墨水中溶剂的沸点会随着环境真空度的提高而降低,从而蒸发分离。
在一个具体的实施方式中,通过侧部抽气口311及312对真空腔室100内部的气体进行抽取。抽气口位于基板400下方,且与基板边缘具有适当距离。通过控制阀调整抽气气流量,有利于真空腔室内部形成较为稳定的气体流场,使得基板中间区域和边缘区域的溶剂蒸发分离速度相对均衡,进一步促进样品均匀快速成膜。
本实用新型侧部的一组抽气口不仅可以设置两个,也可以设置多个呈对称分布的抽气口。在一个具体的实施方式中,侧部设置有三个抽气口313、314、315,每个抽气口垂直高度相等,并且关于腔体中心轴线均匀分布,图3为该组抽气口的俯视结构示意图。
在一个具体的实施方式中,侧部设置有四个抽气口316、317、318、319,每个抽气口垂直高度相等,并且关于腔体中心轴线均匀分布,图4为该组抽气口的俯视结构示意图。
本实用新型所有的抽气口不仅可以抽取真空腔室内部的气体,同时可用于向真空腔室内部填充气体。考虑到如果从底部或基板下方进气时,气流可能会对基板产生不良影响,在真空腔室侧部可另设进气口611,该进气口611位于基板上方,如图5。
在一个具体的实施方式中,真空腔室侧部设置两个进气口611及612,如图6。两个进气口关于真空腔室的中心轴线呈对称分布,保证进气时内部腔室内气流的均匀稳定性。
本实用新型的真空干燥装置还包括真空度检测元件500,用于监控真空腔室内的真空度,便于及时调整抽速或进速。
本实用新型提供的真空干燥装置,满足基于喷墨打印的大尺寸基板的干燥要求。该真空干燥装置设有多个抽气口,位于真空腔室的侧部,有利于在抽气干燥过程中均衡基板中部区域与边缘区域的气流,促使基板各处溶剂挥发速度稳定,形成厚度均匀的功能层,有效改善了大尺寸QLED器件漏电流,发光不均匀等问题,进而提高器件的发光性能。
尽管发明人已经对本申请的技术方案做了较详细的阐述和列举,应当理解,对于本领域技术人员来说,对上述实施例作出修改和/或变通或者采用等同的替代方案是显然的,都不能脱离本申请精神的实质,本申请中出现的术语用于对本申请技术方案的阐述和理解,并不能构成对本申请的限制。
Claims (8)
1.一种真空干燥装置,其特征在于,包括真空腔室及位于真空腔室内部的支撑件,
所述真空腔室包括抽气口,所述抽气口与真空腔室连通,所述抽气口位于真空腔室的侧部,用于抽取所述真空腔室内部的气体或向所述真空腔室内部填充气体;所述侧部至少包括两个抽气口,所述侧部的各抽气口高度相等,关于真空腔室的垂直中心轴线对称分布;
所述支撑件位于真空腔室的下方,用于承载表面涂覆有功能墨水的基板。
2.根据权利要求1所述的真空干燥装置,其特征在于,所述抽气口为2~6个。
3.根据权利要求2所述的真空干燥装置,其特征在于,所述抽气口的高度低于支撑件的高度。
4.根据权利要求2所述的真空干燥装置,其特征在于,所述抽气口与基板之间的水平距离不少于抽气口的内径。
5.根据权利要求1~4任一所述的真空干燥装置,其特征在于,所述抽气口均设有相应控制阀。
6.根据权利要求1所述的真空干燥装置,其特征在于,所述支撑件包括支撑板和多个支撑柱,所述支撑柱一端安装在真空腔室的底部,另一端连接于支撑板,所述支撑板承载表面涂覆有功能墨水的基板。
7.根据权利要求6所述的真空干燥装置,其特征在于,所述支撑件的高度可调节,所述支撑件的高度占所述真空腔室高度的1/5至4/5。
8.根据权利要求1所述的真空干燥装置,其特征在于,所述真空干燥装置还包括真空度检测元件。
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CN201920302303.7U CN209987590U (zh) | 2019-03-11 | 2019-03-11 | 真空干燥装置 |
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Cited By (1)
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---|---|---|---|---|
CN113733764A (zh) * | 2021-08-23 | 2021-12-03 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 真空干燥装置 |
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- 2019-03-11 CN CN201920302303.7U patent/CN209987590U/zh active Active
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