CN217668649U - 一种用于对工件表面金刚石薄膜的研磨抛光装置 - Google Patents
一种用于对工件表面金刚石薄膜的研磨抛光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN217668649U CN217668649U CN202221042283.2U CN202221042283U CN217668649U CN 217668649 U CN217668649 U CN 217668649U CN 202221042283 U CN202221042283 U CN 202221042283U CN 217668649 U CN217668649 U CN 217668649U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- grinding
- diamond film
- gear
- group
- placing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000010432 diamond Substances 0.000 title claims abstract description 59
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 59
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 17
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 37
- 210000001503 joint Anatomy 0.000 claims description 5
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 claims 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 244000309464 bull Species 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 3
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Abstract
本实用新型公开了一种用于对工件表面金刚石薄膜的研磨抛光装置,属于金刚石薄膜抛光技术领域,解决了现有的金刚石薄膜研磨抛光存在研磨质量差和工作效率低的问题,其技术要点是:底板上设置有便于放置的放置盘,放置盘与底板的连接处设置有旋转驱动机构,放置盘的上方设置有研磨盘,升降板与支撑架的连接处设置有升降驱动机构,升降板与下方的连接处设置有防护组,第一驱动组驱动旋转组运作,便于驱动放置盘上的若干个金刚石薄膜旋转,第二驱动组驱动升降组运作,实现升降板带动研磨盘下降完成对放置盘上金刚石薄膜的研磨抛光操作,防护组避免了研磨盘的过度下降造成对放置盘上金刚石薄膜的过度打磨操作,具有研磨质量好和工作效率高的优点。
Description
技术领域
本实用新型涉及金刚石薄膜抛光领域,具体是涉及一种用于对工件表面金刚石薄膜的研磨抛光装置。
背景技术
金刚石薄膜,通常以甲烷、乙炔等碳氢化合物为原料,用热灯丝裂解、微波等离子体气相淀积、电子束离子束轰击镀膜等技术,在硅、碳化硅、碳化钨、氧化铝、石英、玻璃、钼、钨、钽等各种基板上反应生长而成。不仅具有金刚石的硬度,还有良好的导热性、良好的从紫外到红外的光学透明性和高度的化学稳定性。
在机械工业制造和光学应用领域,经常会使用到金刚石,由于天然金刚石的价格非常高,而且力学性能差,实际应用非常有限,但是随着人造金刚石的产生,使金刚石在生产生活中的应用越来越多,人造金刚石的价格合理,使用方便,力学性能超过天然金刚石,所以受到了工业多领域的关注,在人造金刚石的制造工艺中,广泛应用气相沉积法制造金刚石薄膜的制造工艺。
现有的金刚石薄膜生成后的表面非常粗糙不平,必须对金刚石薄膜进行抛光处理,现有的抛光处理一般是通过研磨机进行研磨,研磨质量较差,且只能进行单一的研磨抛光操作,工作效率低,无法满足实际使用所需。
由上可见,现有的金刚石薄膜研磨抛光存在研磨质量差和工作效率低的缺点,难以得到推广应用。
因此,需要提供一种用于对工件表面金刚石薄膜的研磨抛光装置,旨在解决上述问题。
实用新型内容
针对现有技术存在的不足,本实用新型实施例的目的在于提供一种用于对工件表面金刚石薄膜的研磨抛光装置,以解决上述背景技术中的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种用于对工件表面金刚石薄膜的研磨抛光装置,包括底板和支撑架,所述支撑架固定安装于底板上,所述底板上设置有便于放置若干个金刚石薄膜的放置盘,所述放置盘上开设有若干便于放置金刚石薄膜的放置槽,所述放置盘与底板的连接处设置有旋转驱动机构,所述旋转驱动机构包括旋转组和第一驱动组,所述放置盘的上方设置有便于研磨抛光的研磨盘,所述研磨盘固定安装于升降板上,所述升降板与支撑架的连接处设置有升降驱动机构,所述升降驱动机构包括升降组和第二驱动组,所述升降板与下方的连接处设置有防护组。
作为本实用新型进一步的方案,所述旋转组包括第一导向块、第一固定板、主轴、齿轮圈、转动齿轮和连接轴,所述放置盘通过主轴分别转动连接于底板和第一固定板上,所述第一固定板固定安装于支撑架上,所述放置盘通过若干个第一导向块转动连接于第一固定板上,所述主轴上固定连接有齿轮圈,所述齿轮圈内设置有若干与转动齿轮相啮合的齿牙,所述转动齿轮通过连接轴转动连接于底板上。
作为本实用新型进一步的方案,所述第一驱动组包括从动锥齿轮、第一电机和主动锥齿轮,所述从动锥齿轮固定连接于连接轴上,所述从动锥齿轮上啮合连接有主动锥齿轮,所述主动锥齿轮固定连接有第一电机的输出轴,所述第一电机固定安装于底板上。
作为本实用新型进一步的方案,所述防护组包括按压柱、按压杆、弹簧和按压套,所述按压套分别固定连接于升降板上,所述按压柱分别固定连接于第一固定板上,所述按压柱上滑动连接有按压杆,所述按压杆与按压柱的连接处设置有弹簧,所述按压套分别与按压杆相适配对接。
作为本实用新型进一步的方案,所述升降组包括连杆、第二导向块、丝杆、丝杆套筒和第二固定板,所述丝杆套筒通过轴承分别转动连接于第二固定板上,所述第二固定板分别固定连接于支撑架上,所述丝杆套筒上啮合连接有丝杆,所述丝杆的一端固定连接有第二导向块,所述第二导向块通过滑块分别滑动连接于支撑架上,所述第二导向块上铰接有连杆的一端,所述连杆的另一端分别铰接于升降板上。
作为本实用新型进一步的方案,所述第二驱动组包括从动齿轮、主动齿轮和第二电机,所述从动齿轮分别固定连接于丝杆套筒上,所述从动齿轮上啮合连接有主动齿轮,所述主动齿轮固定连接有第二电机的输出轴,所述第二电机固定安装于支撑架的顶部。
综上所述,本实用新型实施例与现有技术相比具有以下有益效果:
本实用新型通过底板上设置有便于放置若干个金刚石薄膜的放置盘,放置盘上开设有若干便于放置金刚石薄膜的放置槽,放置盘与底板的连接处设置有旋转驱动机构,旋转驱动机构包括旋转组和第一驱动组,通过设置有第一驱动组驱动旋转组运作,便于驱动放置盘上的若干个金刚石薄膜旋转,为后续的研磨抛光提供了便利;
放置盘的上方设置有便于研磨抛光的研磨盘,研磨盘固定安装于升降板上,升降板与支撑架的连接处设置有升降驱动机构,升降驱动机构包括升降组和第二驱动组,通过设置有第二驱动组驱动升降组运作,实现升降板带动研磨盘下降完成对放置盘上金刚石薄膜的研磨抛光操作,便于调节使用;
升降板与下方的连接处设置有防护组,通过设置有防护组避免了研磨盘的过度下降造成对放置盘上金刚石薄膜的过度打磨操作,研磨质量好,工作效率高。
为更清楚地阐述本实用新型的结构特征和功效,下面结合附图与具体实施例来对本实用新型进行详细说明。
附图说明
图1为实用新型实施例的结构示意图。
图2为实用新型实施例的部分仰视结构示意图。
图3为实用新型实施例中升降板的连接结构示意图。
图4为实用新型实施例中按压柱与按压杆的连接结构示意图。
附图标记:1、底板;2、支撑架;3、放置盘;4、放置槽;5、金刚石薄膜;6、第一导向块;7、第一固定板;8、主轴;9、齿轮圈;10、转动齿轮;11、连接轴;12、从动锥齿轮;13、第一电机;14、按压柱;15、按压杆;16、弹簧;17、研磨盘;18、升降板;19、按压套;20、连杆;21、第二导向块;22、丝杆;23、丝杆套筒;24、第二固定板;25、从动齿轮;26、主动齿轮;27、第二电机;28、主动锥齿轮。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
以下结合具体实施例对本实用新型的具体实现进行详细描述。
实施例1
参见图1和图2,一种用于对工件表面金刚石薄膜的研磨抛光装置,包括底板1和支撑架2,所述支撑架2固定安装于底板1上,所述底板1上设置有便于放置若干个金刚石薄膜5的放置盘3,所述放置盘3上开设有若干便于放置金刚石薄膜5的放置槽4,所述放置盘3与底板1的连接处设置有旋转驱动机构,所述旋转驱动机构包括旋转组和第一驱动组。
进一步,所述旋转组包括第一导向块6、第一固定板7、主轴8、齿轮圈9、转动齿轮10和连接轴11,所述放置盘3通过主轴8分别转动连接于底板1和第一固定板7上,所述第一固定板7固定安装于支撑架2上,所述放置盘3通过若干个第一导向块6转动连接于第一固定板7上,所述主轴8上固定连接有齿轮圈9,所述齿轮圈9内设置有若干与转动齿轮10相啮合的齿牙,所述转动齿轮10通过连接轴11转动连接于底板1上。
进一步,所述第一驱动组包括从动锥齿轮12、第一电机13和主动锥齿轮28,所述从动锥齿轮12固定连接于连接轴11上,所述从动锥齿轮12上啮合连接有主动锥齿轮28,所述主动锥齿轮28固定连接有第一电机13的输出轴,所述第一电机13固定安装于底板1上。
优选的,将需要进行研磨抛光的金刚石薄膜分别放置于放置盘3上的放置槽4内,第一电机13的输出轴驱使主动锥齿轮28旋转,主动锥齿轮28在与从动锥齿轮12啮合连接的关系下驱使连接轴11上的转动齿轮10旋转,转动齿轮10在与齿轮圈9啮合连接的关系下驱使主轴8上的放置盘3在第一导向块6的导向连接作用下进行旋转运作,便于后续对金刚石薄膜的研磨抛光操作。
实施例2
请参阅图1~图4,一种用于对工件表面金刚石薄膜的研磨抛光装置,包括底板1和支撑架2,所述支撑架2固定安装于底板1上,所述底板1上设置有便于放置若干个金刚石薄膜5的放置盘3,所述放置盘3上开设有若干便于放置金刚石薄膜5的放置槽4,所述放置盘3的上方设置有便于研磨抛光的研磨盘17,所述研磨盘17固定安装于升降板18上,所述升降板18与支撑架2的连接处设置有升降驱动机构,所述升降驱动机构包括升降组和第二驱动组,所述升降板18与下方的连接处设置有防护组。
进一步,所述防护组包括按压柱14、按压杆15、弹簧16和按压套19,所述按压套19分别固定连接于升降板18上,所述按压柱14分别固定连接于第一固定板7上,所述按压柱14上滑动连接有按压杆15,所述按压杆15与按压柱14的连接处设置有弹簧16,所述按压套19分别与按压杆15相适配对接。
进一步,所述升降组包括连杆20、第二导向块21、丝杆22、丝杆套筒23和第二固定板24,所述丝杆套筒23通过轴承分别转动连接于第二固定板24上,所述第二固定板24分别固定连接于支撑架2上,所述丝杆套筒23上啮合连接有丝杆22,所述丝杆22的一端固定连接有第二导向块21,所述第二导向块21通过滑块分别滑动连接于支撑架2上,所述第二导向块21上铰接有连杆20的一端,所述连杆20的另一端分别铰接于升降板18上。
进一步,所述第二驱动组包括从动齿轮25、主动齿轮26和第二电机27,所述从动齿轮25分别固定连接于丝杆套筒23上,所述从动齿轮25上啮合连接有主动齿轮26,所述主动齿轮26固定连接有第二电机27的输出轴,所述第二电机27固定安装于支撑架2的顶部。
优选的,所述第二电机27为正反电机。
优选的,对放置盘3上的金刚石薄膜进行研磨抛光时,第二电机27的输出轴驱使主动齿轮26旋转,主动齿轮26在与从动齿轮25啮合连接的关系下驱使丝杆套筒23旋转,丝杆套筒23在与丝杆22螺纹连接的关系下驱使丝杆22分别带动第二导向块21进行收缩移动,在连杆20的铰接关系下实现升降板18带动研磨盘17下降,且按压套19分别与按压杆15对接,同时放置盘3内可放入若干研磨料,从而实现研磨盘17对放置盘3上的若干个金刚石薄膜5的研磨抛光操作。
优选的,设置的按压套19分别与按压柱14、按压杆15和弹簧16的对接避免了研磨盘17的过度下降造成对放置盘3上金刚石薄膜5的过度打磨操作,研磨质量好,工作效率高。
本实施例的其余结构部分与实施例1相同。
本实用新型的工作原理是:将需要进行研磨抛光的金刚石薄膜分别放置于放置盘3上的放置槽4内,第一电机13的输出轴驱使主动锥齿轮28旋转,主动锥齿轮28在与从动锥齿轮12啮合连接的关系下驱使连接轴11上的转动齿轮10旋转,转动齿轮10在与齿轮圈9啮合连接的关系下驱使主轴8上的放置盘3在第一导向块6的导向连接作用下进行旋转运作,便于后续对金刚石薄膜的研磨抛光操作;对放置盘3上的金刚石薄膜进行研磨抛光时,第二电机27的输出轴驱使主动齿轮26旋转,主动齿轮26在与从动齿轮25啮合连接的关系下驱使丝杆套筒23旋转,丝杆套筒23在与丝杆22螺纹连接的关系下驱使丝杆22分别带动第二导向块21进行收缩移动,在连杆20的铰接关系下实现升降板18带动研磨盘17下降,且按压套19分别与按压杆15对接,同时放置盘3内可放入若干研磨料,从而实现研磨盘17对放置盘3上的若干个金刚石薄膜5的研磨抛光操作,且设置的按压套19分别与按压柱14、按压杆15和弹簧16的对接避免了研磨盘17的过度下降造成对放置盘3上金刚石薄膜5的过度打磨操作,研磨质量好,工作效率高。
需要特别说明的是,本申请中部件均为通用标准件或本领域技术人员通晓的部件,其有效解决了现有的金刚石薄膜研磨抛光存在研磨质量差和工作效率低的问题。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种用于对工件表面金刚石薄膜的研磨抛光装置,包括底板(1)和支撑架(2),所述支撑架(2)固定安装于底板(1)上,其特征在于,所述底板(1)上设置有便于放置若干个金刚石薄膜(5)的放置盘(3),所述放置盘(3)上开设有若干便于放置金刚石薄膜(5)的放置槽(4),所述放置盘(3)与底板(1)的连接处设置有旋转驱动机构,所述旋转驱动机构包括旋转组和第一驱动组,所述放置盘(3)的上方设置有便于研磨抛光的研磨盘(17),所述研磨盘(17)固定安装于升降板(18)上,所述升降板(18)与支撑架(2)的连接处设置有升降驱动机构,所述升降驱动机构包括升降组和第二驱动组,所述升降板(18)与下方的连接处设置有防护组。
2.根据权利要求1所述的用于对工件表面金刚石薄膜的研磨抛光装置,其特征在于,所述旋转组包括第一导向块(6)、第一固定板(7)、主轴(8)、齿轮圈(9)、转动齿轮(10)和连接轴(11),所述放置盘(3)通过主轴(8)分别转动连接于底板(1)和第一固定板(7)上,所述第一固定板(7)固定安装于支撑架(2)上,所述放置盘(3)通过若干个第一导向块(6)转动连接于第一固定板(7)上,所述主轴(8)上固定连接有齿轮圈(9),所述齿轮圈(9)内设置有若干与转动齿轮(10)相啮合的齿牙,所述转动齿轮(10)通过连接轴(11)转动连接于底板(1)上。
3.根据权利要求2所述的用于对工件表面金刚石薄膜的研磨抛光装置,其特征在于,所述第一驱动组包括从动锥齿轮(12)、第一电机(13)和主动锥齿轮(28),所述从动锥齿轮(12)固定连接于连接轴(11)上,所述从动锥齿轮(12)上啮合连接有主动锥齿轮(28),所述主动锥齿轮(28)固定连接有第一电机(13)的输出轴,所述第一电机(13)固定安装于底板(1)上。
4.根据权利要求3所述的用于对工件表面金刚石薄膜的研磨抛光装置,其特征在于,所述防护组包括按压柱(14)、按压杆(15)、弹簧(16)和按压套(19),所述按压套(19)分别固定连接于升降板(18)上,所述按压柱(14)分别固定连接于第一固定板(7)上,所述按压柱(14)上滑动连接有按压杆(15),所述按压杆(15)与按压柱(14)的连接处设置有弹簧(16),所述按压套(19)分别与按压杆(15)相适配对接。
5.根据权利要求1所述的用于对工件表面金刚石薄膜的研磨抛光装置,其特征在于,所述升降组包括连杆(20)、第二导向块(21)、丝杆(22)、丝杆套筒(23)和第二固定板(24),所述丝杆套筒(23)通过轴承分别转动连接于第二固定板(24)上,所述第二固定板(24)分别固定连接于支撑架(2)上,所述丝杆套筒(23)上啮合连接有丝杆(22),所述丝杆(22)的一端固定连接有第二导向块(21),所述第二导向块(21)通过滑块分别滑动连接于支撑架(2)上,所述第二导向块(21)上铰接有连杆(20)的一端,所述连杆(20)的另一端分别铰接于升降板(18)上。
6.根据权利要求5所述的用于对工件表面金刚石薄膜的研磨抛光装置,其特征在于,所述第二驱动组包括从动齿轮(25)、主动齿轮(26)和第二电机(27),所述从动齿轮(25)分别固定连接于丝杆套筒(23)上,所述从动齿轮(25)上啮合连接有主动齿轮(26),所述主动齿轮(26)固定连接有第二电机(27)的输出轴,所述第二电机(27)固定安装于支撑架(2)的顶部。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202221042283.2U CN217668649U (zh) | 2022-05-05 | 2022-05-05 | 一种用于对工件表面金刚石薄膜的研磨抛光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202221042283.2U CN217668649U (zh) | 2022-05-05 | 2022-05-05 | 一种用于对工件表面金刚石薄膜的研磨抛光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN217668649U true CN217668649U (zh) | 2022-10-28 |
Family
ID=83736714
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202221042283.2U Active CN217668649U (zh) | 2022-05-05 | 2022-05-05 | 一种用于对工件表面金刚石薄膜的研磨抛光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN217668649U (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116394092A (zh) * | 2023-04-20 | 2023-07-07 | 恒亦达智能设备(苏州)有限公司 | 一种全自动半导体研磨设备 |
-
2022
- 2022-05-05 CN CN202221042283.2U patent/CN217668649U/zh active Active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116394092A (zh) * | 2023-04-20 | 2023-07-07 | 恒亦达智能设备(苏州)有限公司 | 一种全自动半导体研磨设备 |
CN116394092B (zh) * | 2023-04-20 | 2023-09-29 | 恒亦达智能设备(苏州)有限公司 | 一种全自动半导体研磨设备 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN217668649U (zh) | 一种用于对工件表面金刚石薄膜的研磨抛光装置 | |
CN102814765B (zh) | 回转型钎焊超硬磨料工具的布料设备及方法 | |
CN102059634A (zh) | 全工位智能化金相试样制备装置 | |
CN210549969U (zh) | 一种精密轴承内外打磨用一体机 | |
CN214109894U (zh) | 一种光学镜片加工设备 | |
CN213053964U (zh) | 一种旋转靶材表面打磨装置 | |
CN111745470A (zh) | 一种钢材料镜面抛光加工方法 | |
CN219504462U (zh) | 一种金刚石用抛光装置 | |
CN215432014U (zh) | 一种自动对中卡盘 | |
CN211709042U (zh) | 一种用于双面抛光机的组合修正轮 | |
CN217832989U (zh) | 一种卧轴矩台平面磨床 | |
CN216656608U (zh) | 一种用于齿轮生产的抛光装置 | |
CN217619896U (zh) | 一种石英玻璃制品研磨机床 | |
CN219582479U (zh) | 一种光学仪器加工打磨机构 | |
CN221111108U (zh) | 一种玻璃生产用倒角装置 | |
CN219649599U (zh) | 一种工业陶瓷抛光设备用夹持旋转结构 | |
CN218800975U (zh) | 一种cvd金刚石涂层刀具用的加工夹具 | |
CN217071998U (zh) | 一种研磨抛光机用行星运动机构 | |
CN217776625U (zh) | 一种家具生产制造用板面抛光装置 | |
CN219598966U (zh) | 一种用于玻璃生产加工的磨边设备 | |
CN201711833U (zh) | 数控水钻磨床 | |
CN216913225U (zh) | 一种镀膜制品生产加工用磨边装置 | |
CN114473815B (zh) | 一种用于碳化硅加工的单面抛光机 | |
CN212169330U (zh) | 一种高端装备制造用便于调节的激光切割夹具 | |
CN220348023U (zh) | 一种激光熔覆修复前预处理设备 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20240618 Address after: Room 3218, Building C, No. 555 Dongchuan Road, Minhang District, Shanghai, 200000 Patentee after: SHANGHAI JIAOYOU DIAMOND COATING Co.,Ltd. Country or region after: China Address before: Room F1024, 1st Floor, Building 41, No. 398, Heqing Road, Minhang District, Shanghai, 200000 Patentee before: SHANGHAI JIAOMIN PRECISION WEARABLE DEVICES CO.,LTD. Country or region before: China |