CN217579045U - 一种速率可控的电子束蒸发源 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种速率可控的电子束蒸发源，涉及镀膜加工领域，包括蒸发源台，蒸发源台的底部固定连接有底座，蒸发源台的一侧固定连接有电子枪，电子枪的一侧固定连接有电线，电线的一端固定连接有电子加速极，蒸发源台的顶端位于电子加速极的一侧活动连接有坩埚，坩埚的一侧设有收集极与蒸发源台固定连接，蒸发源台位于收集极的底部开设有水冷槽，底座的顶端位于底座的四周固定连接有支撑柱一，支撑柱一固定连接有放置板；该速率可控的电子束蒸发源，通过对坩埚进行固定，防止工作过程中坩埚偏移影响电子束的角度，更好的使膜材中的原子或分子从表面汽化溢出后入射到基片表面凝结成膜。

Description

一种速率可控的电子束蒸发源

技术领域

本实用新型涉及镀膜加工技术，具体涉及一种速率可控的电子束蒸发源。

背景技术

在真空镀膜设备中, 电子束蒸发源虽远较电阻加热式蒸发源复杂, 但因其能蒸镀难熔材料, 膜层纯度高, 而优于电阻加热蒸发源。电子束加热的蒸镀源有直枪型电子枪和e型电子枪两种、由电子发射源、电子加速电源、坩埚、磁场线圈、冷却水套等组成。膜料放入水冷坩埚中，电子束自源发出，用磁场线圈使电子束聚焦和偏转，对膜料进行轰击和加热。

现有的电子束蒸发源在进行使用时，坩埚固定不够稳固，内部的物质会洒出，造成浪费，且坩埚固定不够稳固会直接改变电子束的角度，影响镀膜效果。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种速率可控的电子束蒸发源，以解决现有技术中的上述不足之处。

为了实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种速率可控的电子束蒸发源，包括蒸发源台，其特征在于，所述蒸发源台的底部固定连接有底座，所述蒸发源台的一侧固定连接有电子枪，所述电子枪的一侧固定连接有电线，所述电线的一端固定连接有电子加速极，所述蒸发源台的顶端位于电子加速极的一侧活动连接有坩埚，所述坩埚的一侧活动连接有收集极，且收集极与蒸发源台固定连接，所述蒸发源台位于收集极的一侧底部开设有水冷槽，所述底座的顶端位于底座的四周固定连接有支撑柱一，所述支撑柱一的顶部固定连接有放置板。

进一步地，所述蒸发源台的顶端位于坩埚的一侧固定连接有支撑柱二，所述支撑柱二的表面转动连接有转盘，所述转盘的一端固定连接有挡板。

进一步地，所述放置板的中部开设有沉孔，所述沉孔的内部滑动连接有基片，所述基片为凸型结构。

进一步地，所述坩埚的表面开设有侧边槽，所述侧边槽的内部设有橡胶防滑层。

进一步地，所述侧边槽的两侧抵接有夹板，所述夹板的表面设有橡胶防滑层。

进一步地，所述夹板的一侧固定连接有伸缩杆，所述伸缩杆的一端固定连接有推杆电机，所述推杆电机固定于蒸发源台中。

与现有技术相比，本实用新型提供的一种速率可控的电子束蒸发源，通过夹板伸缩对坩埚进行固定，防止工作过程中坩埚偏移，进而影响电子束照射角度的问题，更好的使膜材中的原子或分子从表面汽化溢出后入射到基片表面凝结成膜。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例提供的整体结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的支撑柱二、挡板和转盘结构俯视图；

图3为本实用新型实施例提供的坩埚的夹持结构示意图。

附图标记说明：

1、蒸发源台；2、底座；3、电子枪；4、电子加速极；5、坩埚；6、收集极；7、水冷槽；8、支撑柱一；9、放置板；10、基片；11、支撑柱二；12、挡板；13、转盘；14、推杆电机；15、伸缩杆；16、夹板；17、侧边槽。

具体实施方式

为了使本领域的技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面将结合附图对本实用新型作进一步的详细介绍。

请参阅图1-3，一种速率可控的电子束蒸发源，包括蒸发源台1，其特征在于，蒸发源台1的底部固定连接有底座2，蒸发源台1的一侧固定连接有电子枪3，电子枪3的一侧固定连接有电线，电线的一端固定连接有电子加速极4，蒸发源台1的顶端位于电子加速极4的一侧活动连接有坩埚5，坩埚5的一侧活动连接有收集极6，且收集极6与蒸发源台1固定连接，蒸发源台1位于收集极6的一侧底部开设有水冷槽7，底座2的顶端位于底座2的四周固定连接有支撑柱一8，支撑柱一8的顶部固定连接有放置板9。

本实施例中，蒸发源台1的顶端位于坩埚5的一侧固定连接有支撑柱二11，支撑柱二11的表面转动连接有转盘13，转盘13的一端固定连接有挡板12，通过设有转盘13，转盘13带动挡板12进行转动，可以对坩埚5中发散处的电子束进行隔离，方便对基片进行更换。

本实施例中，放置板9的中部开设有沉孔，沉孔的内部滑动连接有基片10，基片10为凸型结构，通过在放置板9的中部开设有沉孔，提高基片10的放置稳固性。

本实施例中，坩埚5的表面开设有侧边槽17，侧边槽17的内部设有橡胶防滑层，通过在侧边槽17的内部设有橡胶防滑层，提高夹持的稳固性。

本实施例中，侧边槽17的两侧抵接有夹板16，夹板16的表面设有橡胶防滑层，通过在夹板16的表面设有橡胶防滑层，与侧边槽17配合使用，进一步提高夹持的稳固性。

本实施例中，夹板16的一侧固定连接有伸缩杆15，伸缩杆15的一端固定连接有推杆电机14，推杆电机14固定于蒸发源台1中，通过伸缩杆15的伸缩，可以控制夹板16伸进侧边槽17中，对坩埚5进行稳固夹持。

工作原理：使用时，通过电子枪3工作，将电子束通过电子加速极4转递给坩埚5，在坩埚5内部放入膜料，通过电子束对膜料进行轰击与加热，之后加热后的膜料扩散到上方的基片10上，挡板12通过转盘13转动，可以对膜料的扩散进行阻挡，向旁边扩散的膜料通过收集极6的折射，将其重新转递给坩埚5，通过水冷槽7内部的水对坩埚5的热量进行冷却，在坩埚5的放置工作中，推杆电机14控制伸缩杆15工作，将一端的夹板16伸进侧边槽17中，对坩埚5进行稳固夹持。

以上只通过说明的方式描述了本实用新型的某些示范性实施例，毋庸置疑，对于本领域的普通技术人员，在不偏离本实用新型的精神和范围的情况下，可以用各种不同的方式对所描述的实施例进行修正。因此，上述附图和描述在本质上是说明性的，不应理解为对本实用新型权利要求保护范围的限制。

Claims (6)

1.一种速率可控的电子束蒸发源，包括蒸发源台（1），其特征在于，所述蒸发源台（1）的底部固定连接有底座（2），所述蒸发源台（1）的一侧固定连接有电子枪（3），所述电子枪（3）的一侧固定连接有电线，所述电线的一端固定连接有电子加速极（4），所述蒸发源台（1）的顶端位于电子加速极（4）的一侧活动连接有坩埚（5），所述坩埚（5）的一侧活动连接有收集极（6），且收集极（6）与蒸发源台（1）固定连接，所述蒸发源台（1）位于收集极（6）的一侧底部开设有水冷槽（7），所述底座（2）的顶端位于底座（2）的四周固定连接有支撑柱一（8），所述支撑柱一（8）的顶部固定连接有放置板（9）。

2.根据权利要求1所述的一种速率可控的电子束蒸发源，其特征在于，所述蒸发源台（1）的顶端位于坩埚（5）的一侧固定连接有支撑柱二（11），所述支撑柱二（11）的表面转动连接有转盘（13），所述转盘（13）的一端固定连接有挡板（12）。

3.根据权利要求1所述的一种速率可控的电子束蒸发源，其特征在于，所述放置板（9）的中部开设有沉孔，所述沉孔的内部滑动连接有基片（10），所述基片（10）为凸型结构。

4.根据权利要求1所述的一种速率可控的电子束蒸发源，其特征在于，所述坩埚（5）的表面开设有侧边槽（17），所述侧边槽（17）的内部设有橡胶防滑层。

5.根据权利要求4所述的一种速率可控的电子束蒸发源，其特征在于，所述侧边槽（17）的两侧抵接有夹板（16），所述夹板（16）的表面设有橡胶防滑层。

6.根据权利要求5所述的一种速率可控的电子束蒸发源，其特征在于，所述夹板（16）的一侧固定连接有伸缩杆（15），所述伸缩杆（15）的一端固定连接有推杆电机（14），所述推杆电机（14）固定于蒸发源台（1）中。

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