CN220432951U - 蒸镀设备 - Google Patents

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CN220432951U CN202321826289.3U CN202321826289U CN220432951U CN 220432951 U CN220432951 U CN 220432951U CN 202321826289 U CN202321826289 U CN 202321826289U CN 220432951 U CN220432951 U CN 220432951U
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carriers
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高纪凡
徐锐
张学玲
朱俊
冯志强
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Trina Solar Changzhou Technology Co ltd
Trina Solar Co Ltd
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Trina Solar Changzhou Technology Co ltd
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Abstract

本申请涉及蒸镀技术领域,特别是涉及蒸镀设备。上述蒸镀设备中,蒸镀设备至少包括蒸镀本体、蒸镀源和多个载具,通过设置多个载具,多个载具的近端彼此相向设置,多个载具的远端彼此远离设置,且载具构造为从近端向远端朝向蒸镀源倾斜地延伸,使得多个载具的布置形式大致上是倾斜的,能够提高承载的待蒸镀件的数量,进而提高生产效率和提高源材料的利用率。此外,由于载具在围绕第一轴线转动的同时能够围绕自身的中心轴线转动,能够在提高生产效率和提高源材料的利用率的基础上提高镀膜的均匀性。

Description

蒸镀设备
技术领域
本申请涉及蒸镀技术领域,特别是涉及蒸镀设备。
背景技术
蒸镀工艺被广泛地应用于电子器件的镀膜生产过程中,通过电阻加热或电子束加热等方式使源材料加热到一定温度发生蒸发或升华,气化后的源材料凝结沉积在待蒸镀件的表面而完成镀膜。在此过程中,由于镀膜的均匀性难以控制,难以对大批量的待蒸镀件进行镀膜,进而使得生产效率和源材料的利用率有待提高。
发明内容
基于此,有必要提供一种蒸镀设备,以在提高生产效率及源材料的利用率的同时提高镀膜的均匀性。
本申请实施例提供了一种蒸镀设备,包括:
蒸镀本体,蒸镀本体内设有蒸镀腔;
蒸镀源,设于蒸镀腔内;以及
多个载具,设于蒸镀腔内,且位于蒸镀源的上方,载具用于承载待蒸镀件;
其中,每一载具配置为能够围绕第一轴线转动,以及围绕该载具的中心轴线转动;
载具具有近端和远端,多个载具的近端彼此相向设置,多个载具的远端彼此远离设置;
载具构造为从近端向远端朝向蒸镀源倾斜地延伸。
在其中一个实施例中,多个载具配置为围绕第一轴线均匀布置。
在其中一个实施例中,多个载具包括多组载具组;
每一组载具组包括关于第一轴线对称设置的两个载具。
在其中一个实施例中,定义载具围绕第一轴线的转动速度为第一转动速度,定义载具围绕中心轴线的转动速度为第二转动速度;
第一转动速度小于第二转动速度。
在其中一个实施例中,第一转动速度为5r/min-20r/min,第二转动速度为10r/min-30r/min。
在其中一个实施例中,第一轴线与中心轴线呈预设角度设置;
预设角度为40°-75°。
在其中一个实施例中,蒸镀设备还包括扰流件;
扰流件沿第一轴线的延伸方向位于蒸镀源和多个载具之间;
扰流件用于选择性地通过或阻挡蒸镀材料,以调节待蒸镀件的镀膜速率。
在其中一个实施例中,扰流件配置为能够围绕第一轴线转动;或者
扰流件配置为相对于蒸镀源保持静止。
在其中一个实施例中,扰流件设置有多个,多个扰流件的数量与多个载具的数量相同;
蒸镀设备具有预设状态,蒸镀设备处于预设状态,扰流件在参考面上的正投影位于对应的一个载具在参考面上的正投影内;
参考面为垂直于第一轴线的平面。
在其中一个实施例中,蒸镀设备还包括沿第一轴线的延伸方向间隔设置的第一环形导轨和第二环形导轨;
载具的近端和远端的其中一端可活动配合于第一环形导轨,载具的近端和远端的其中另一端可活动配合于第二环形导轨,以使载具能够绕中心轴线转动;
第一环形导轨配置为能够绕第一轴线转动,以带动载具相对于第二环形导轨产生滑动,进而使得载具绕第一轴线转动。
上述蒸镀设备中,蒸镀设备至少包括蒸镀本体、蒸镀源和多个载具,通过设置多个载具,多个载具的近端彼此相向设置,多个载具的远端彼此远离设置,且载具构造为从近端向远端朝向蒸镀源倾斜地延伸,使得多个载具的布置形式大致上是倾斜的,能够提高承载的待蒸镀件的数量,进而提高生产效率和提高源材料的利用率。此外,由于载具在围绕第一轴线转动的同时能够围绕自身的中心轴线转动,能够在提高生产效率和提高源材料的利用率的基础上提高镀膜的均匀性。
附图说明
图1为本申请一实施例中蒸镀设备的结构示意图。
图2为图1中蒸镀设备的部分结构的俯视结构示意图。
附图标记说明:
蒸镀本体100,蒸镀腔R;
蒸镀源200;
载具300,近端301,远端302,第一侧s1,第二侧s2;
扰流件400;
第一环形导轨500;
第二环形导轨600;
第一轴线L1,中心轴线L2,预设角度α;
第一方向F1,参考面r,第一参考线C1,第二参考线C2。
具体实施方式
为使本申请的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本申请的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本申请。但是本申请能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本申请内涵的情况下做类似改进,因此本申请不受下面公开的具体实施例的限制。
在本申请的描述中,需要理解的是,若有出现这些术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等,这些术语指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
此外,若有出现这些术语“第一”、“第二”,这些术语仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本申请的描述中,若有出现术语“多个”,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
在本申请中,除非另有明确的规定和限定,若有出现术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等,这些术语应做广义理解。例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中,除非另有明确的规定和限定,若有出现第一特征在第二特征“上”或“下”等类似的描述,其含义可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
需要说明的是,若元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。若一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。如若存在,本申请所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的,并不表示是唯一的实施方式。
图1示出了本申请一实施例中蒸镀设备的结构示意图;为便于说明,仅示出了与本申请实施例相关的内容。
请参照图1,本申请实施例提供了一种蒸镀设备,包括蒸镀本体100、蒸镀源200和多个载具300。蒸镀本体100内设有蒸镀腔R。蒸镀源200设于蒸镀腔R内。多个载具300设于蒸镀腔R内,且位于蒸镀源200的上方。
每一载具300配置为能够围绕第一轴线L1转动,以及围绕该载具300的中心轴线L2转动。第一轴线L1可以与第一方向F1彼此平行,第一方向F1也即为图1中的竖直方向。载具300具有近端301和远端302,该多个载具300的近端301彼此相向设置,该多个载具300的远端302彼此远离设置。载具300构造为从近端301向远端302朝向蒸镀源200倾斜地延伸。也即,载具300具有靠近第一轴线L1且远离蒸镀源200的远端302,以及远离第一轴线L1且靠近蒸镀源200的近端301。可以理解的是,载具300的近端301和远端302是相对于蒸镀源200而言的。由于载具300能够围绕自身的中心轴线L2转动,相对于载具300而言,其近端301和远端302是变化的。
载具300用于承载待蒸镀件。待蒸镀件可以是基板,基板可以是用于制备电池片的构件,但不局限于此。载具300可以构造为板状结构,例如圆形板或方形板。每一载具300具有面向蒸镀源200的第一侧s1以及背向蒸镀源200的第二侧s2。待蒸镀件设于载具300位于第一侧s1的表面,待蒸镀件的待蒸镀表面朝向载具300设置,载具300位于第一侧s1的表面构造为能够显露待蒸镀件的待蒸镀表面。气化后的源材料在载具300的第一侧s1沉积在待蒸镀件的待蒸镀表面而完成镀膜。
由于载具300设置有多个且采用上述方式倾斜布置的,使得相较于水平放置载具300的方式而言,可以在有限的空间内布置更多的载具300,进而可以借助载具300承载更多的待蒸镀件,从而提高了生产效率和源材料的利用率。同时,由于载具300能够围绕第一轴线L1和其对应的中心轴线L2转动,两种转动方式相互配合,能够提高倾斜布置的载具300上承载的待蒸镀件的镀膜均匀性。由此,本申请实施例中的蒸镀设备在提高了生产效率及源材料的利用率的同时,提高了镀膜的均匀性。
在一些实施例中,请继续参照图1,该多个载具300配置为围绕第一轴线L1均匀布置。如此,通过均匀布置多个载具300的布置方式,不仅有利于提升载具300转动时的稳定性,还有利于进一步提升镀膜的均匀性。
在一些实施例中,请继续参照图1,多个载具300包括多组载具组,每一组载具组包括关于第一轴线L1对称设置的两个载具300。例如,当设置有两组载具组时,载具300总共设置有四个。又例如,当设置有一组载具组时,载具300总共设置有两个。以图1为例,示意出载具300总共设置有两个的情形。当然,在另一些实施例中,载具300总共可以设置有三个,三个载具300围绕第一轴线L1均匀布置。
如此,可以灵活配置载具300的布置方式,只要能够进一步使得载具300是均匀布置的即可,本申请实施例对此不作具体限制。
在一些实施例中,各载具300围绕其中心轴线L2转动的转动方向可以相同,也可以不同。例如,一部分载具300围绕各自的中心轴线L2绕顺时针方向转动,另一部分载具300围绕各自的中心轴线L2绕逆时针方向转动。可以理解,顺时针方向和逆时针方向是相对而言的。在各载具300围绕其中心轴线L2转动的转动方向的情况下,更有利于对载具300的转动过程进行控制。可以根据具体使用情况进行设置,本申请实施例对此不作具体限制。
在一些实施例中,定义载具300围绕第一轴线L1的转动速度为第一转动速度,定义载具300围绕中心轴线L2的转动速度为第二转动速度。第一转动速度小于第二转动速度。
由于载具300需要围绕其中心轴线L2进行转动,在第一转动速度小于第二转动速度的情况下,载具300围绕中心轴线L2的转动过程更为稳定。同时,也更有利于提高同一载具300上承载的各待蒸镀件的镀膜均匀性。
在一些实施例中,第一转动速度为5r/min-20r/min,第二转动速度为10r/min-30r/min。例如,第一转动速度可以是5r/min、6r/min、7r/min、8r/min、10r/min、15r/min、18r/min、19r/min或20r/min,第二转动速度可以是10r/min、12r/min、15r/min、18r/min、20r/min、25r/min、29r/min或30r/min。
由此,不仅可以改善因对应的转动速度过小而影响镀膜均匀性的问题,还可以改善因对应的转动速度过大而使载具300的稳定性低的问题。
在一些实施例中,请继续参照图1,第一轴线L1与中心轴线L2呈预设角度α设置。预设角度α为40°-75°。例如,预设角度α可以是40°、45°、48°、50°、55°、58°、60°、65°、68°、70°、72°或75°。
如此,通过控制预设角度α的大小,不仅能够有效改善载具300相对于水平方向过平而导致载具300数量受限的问题,还能够改善载具300相对于水平方向过陡而导致承载的待蒸镀件掉落的情形。
可以理解的是,以图1为例,水平方向与第一方向F1彼此垂直。载具300相对于水平方向过平,则是预设角度α过大。载具300相对于水平方向过陡,则是预设角度α过小。
在一些实施例中,请继续参照图1,蒸镀设备还包括扰流件400。扰流件400沿第一轴线L1的延伸方向(即图1中示意出第一方向F1)位于蒸镀源200和该多个载具300之间。扰流件400用于选择性地通过或阻挡蒸镀材料,以调节待蒸镀件的镀膜速率。
在蒸镀材料沉积至载具300上承载的待蒸镀件的表面的路径上,由于设置有扰流件400,可以对待蒸镀件的表面上沉积的蒸镀材料的速度进行控制。沿第一方向F1,待蒸镀件的表面被扰流件400遮挡的区域沉积蒸镀材料的速度,相较于待蒸镀件的表面未被扰流件400遮挡的区域沉积蒸镀材料的速度而言更慢。如此,可以对待蒸镀件的表面上镀膜速率较大的区域进行遮挡,而对待蒸镀件的表面上镀膜速率较小的区域进行显露,进而进一步提升镀膜均匀性。
在一些实施例中,请继续参照图1,扰流件400配置为能够围绕第一轴线L1转动。也即,可以通过控制扰流件400的动作来调节对应的镀膜速率。而在另一些实施例中,请继续参照图1,扰流件400配置为相对于蒸镀源200保持静止。相应地,可以对应设置扰流件400的结构形式以及布置扰流件400至对应的位置,来实现对待蒸镀件的表面上沉积的蒸镀材料的速度的控制。当然,在扰流件400转动时,也可以对应设置扰流件400的结构形式以及布置扰流件400的位置。扰流件400可以为片状结构,也可以为镂空结构。图1示意出扰流件400为片状结构的情形。
可以理解,在扰流件400转动时,会对气化后的源材料产生扰流作用,使得源材料的利用率相对于扰流件400静止时低。此外,在扰流件400配置为相对于蒸镀源200保持静止时,也更有利于通过控制载具300的转动过程来提高镀膜的均匀性。示例性的,可以将扰流件400配置为相对于蒸镀源200保持静止。扰流件400可以连接至蒸镀腔R的顶壁,悬空于载具300和蒸发源200之间。
如此,可以灵活的根据实际使用需求来设置所需要的扰流件400,本申请实施例对此不作具体限制。
图2示出了图1中蒸镀设备的部分结构的俯视结构示意图;为便于说明,仅示出了与本申请实施例相关的内容。其中,图2中的蒸镀设备处于预设状态,且,由于扰流件400位于载具300的下方,故以虚线示意出扰流件400。
在一些实施例中,扰流件400设置有多个,多个扰流件400的数量与多个载具300的数量相同。蒸镀设备具有预设状态,蒸镀设备处于预设状态,扰流件400在参考面r上的正投影位于对应的一个载具300在参考面r上的正投影内,参考面r为垂直于第一轴线L1的平面。
需要说明的是,预设状态指的是在蒸镀过程中,通过载具300的转动,扰流件400和载具300具有相对位置。也即,在预设状态下,每一个扰流件400对应一个载具300。以图2为例,示意出扰流件400和载具300均设置有两个的情形,此时,蒸镀设备处于预设状态,在第一方向F1上,扰流件400位于对应的一个载具300的前方。也就是说,扰流件400的布置大致上是均匀的,进而使得每一个扰流件400对于任一载具300上的待蒸镀件的镀膜速率的调节作用大致上是相当的,从而更有利于从整体上通过扰流件400与载具300之间的相互配合来实现不同区域的镀膜速率的控制。
在一些实施例中,请继续参照图1和图2,该多个扰流件400也可以配置为围绕第一轴线L1均匀布置。如此,可以通过扰流件400的布置形式,进一步提高镀膜均匀性。
在一些实施例中,请继续参照图1和图2,蒸镀设备处于预设状态,该多个扰流件400在参考面r上的正投影关于第一参考线C1对称,该多个载具300在参考面r上的正投影也关于第一参考线C1对称。第一参考线C1平行于参考面r,且垂直于第一方向F1。更进一步地,该多个扰流件400在参考面r上的正投影还关于第二参考线C2对称,该多个载具300在参考面r上的正投影也还关于第二参考线C2对称。第二参考线C2平行于参考面r,且垂直于第一参考线C1。如此,可以进一步提高镀膜的均匀性。当然,还可以将载具300和扰流件400构造为其他一些均匀布置的方式,只要能够进一步提高镀膜的均匀性即可,本申请实施例对此不作具体限制。
在一些实施例中,请继续参照图1和图2,蒸镀设备还包括沿第一轴线L1的延伸方向间隔设置的第一环形导轨500和第二环形导轨600。载具300的近端301和远端302的其中一端可活动配合于第一环形导轨500,载具300的近端301和远端302的其中另一端可活动配合于第二环形导轨600,以使载具300能够绕中心轴线L2转动。以图1和图2为例,示意出载具300的近端301可活动配合于第一环形导轨500,载具300的远端302可活动配合于第二环形导轨600的情形。
进一步地,第一环形导轨500配置为能够绕第一轴线L1转动,以带动载具300相对于第二环形导轨600产生滑动,进而使得载具300绕第一轴线L1转动。
如此,通过设置第一环形导轨500和第二环形导轨600,便于对载具300绕第一轴线L1的转动进行控制。通过第一环形导轨500和第二环形导轨600与载具300之间的活动配合,便于对载具300绕中心轴线L2的转动进行控制。
当然,在另一些实施例中,也可以采用其他传动机构对载具300的转动进行控制。可以通过一个驱动机构来控制各载具300的动作,相应的,该驱动机构与各载具300之间可以配合设置一些传动件。也可以通过多个驱动机构来控制各载具300的动作,也即,每一个载具300对应传动连接一个驱动机构。由于控制载具300进行转动的部件不是本申请的重点,且通过一些现有的传动装置也可以实现相应的转动过程,故在此不再赘述。可以根据具体使用情况来设置,本申请实施例对此不作具体限制。
结合上述一些实施例中示意出的内容,对本申请实施例提供的蒸镀场景进行示例性地说明。在待蒸镀件是基板且用于制备电池片时,可以通过蒸镀设备制作在基板上形成钙钛矿薄膜。可以理解,钙钛矿薄膜可以通过溶液法和蒸镀法成膜。但是在大面积成膜时,采用溶液法制备的钙钛矿薄膜的均匀性较差,导致后续制备的电池片性能较差。同时,溶液法的工艺也相对复杂,导致成本高,限制了生产效率。而采用蒸镀法制备的钙钛矿薄膜虽然可以大面积生产,但是涉及到多盐共蒸,导致镀膜速率和均匀性存在较大问题。在采用了本申请实施例提供的蒸镀设备后,不仅可以提高生产效率,还可以制作得到更为均匀的钙钛矿薄膜。
综上所述,本申请实施例通过倾斜布置多个载具300,并使载具300可以围绕第一轴线L1和对应的中心轴线L2转动,不仅能够提高承载的待蒸镀件的数量,进而提高生产效率和提高源材料的利用率,还能够提高镀膜的均匀性。进一步地,通过更为均匀地布置载具300以及控制载具300的第一转动速度和第二转动速度,在提高载具300的稳定性的同时更有利于提高镀膜的均匀性。更进一步地,通过配合使用对应的扰流件400,结合扰流件400的结构形式、布置方式以及动作方式,更有利于对镀膜速度进行调节。由此,通过上述一些实施例中所示意出的各部件之间的相互配合,本申请实施例中的蒸镀设备在提高了生产效率及源材料的利用率的同时,提高了镀膜的均匀性。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对申请专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本申请的保护范围。因此,本申请专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种蒸镀设备,其特征在于,包括:
蒸镀本体,所述蒸镀本体内设有蒸镀腔;
蒸镀源,设于所述蒸镀腔内;以及
多个载具,设于所述蒸镀腔内,且位于所述蒸镀源的上方,所述载具用于承载待蒸镀件;
其中,每一所述载具配置为能够围绕第一轴线转动,以及围绕该所述载具的中心轴线转动;
所述载具具有近端和远端,所述多个载具的近端彼此相向设置,所述多个载具的远端彼此远离设置;
所述载具构造为从所述近端向所述远端朝向所述蒸镀源倾斜地延伸。
2.根据权利要求1所述的蒸镀设备,其特征在于,所述多个载具配置为围绕所述第一轴线均匀布置。
3.根据权利要求2所述的蒸镀设备,其特征在于,所述多个载具包括多组载具组;
每一组所述载具组包括关于所述第一轴线对称设置的两个所述载具。
4.根据权利要求1所述的蒸镀设备,其特征在于,定义所述载具围绕所述第一轴线的转动速度为第一转动速度,定义所述载具围绕所述中心轴线的转动速度为第二转动速度;
所述第一转动速度小于所述第二转动速度。
5.根据权利要求4所述的蒸镀设备,其特征在于,所述第一转动速度为5r/min-20r/min,所述第二转动速度为10r/min-30r/min。
6.根据权利要求1所述的蒸镀设备,其特征在于,所述第一轴线与所述中心轴线呈预设角度设置;
所述预设角度为40°-75°。
7.根据权利要求1-6任一项所述的蒸镀设备,其特征在于,所述蒸镀设备还包括扰流件;
所述扰流件沿所述第一轴线的延伸方向位于所述蒸镀源和所述多个载具之间;
所述扰流件用于选择性地通过或阻挡蒸镀材料,以调节所述待蒸镀件的镀膜速率。
8.根据权利要求7所述的蒸镀设备,其特征在于,所述扰流件配置为能够围绕所述第一轴线转动;或者
所述扰流件配置为相对于所述蒸镀源保持静止。
9.根据权利要求8所述的蒸镀设备,其特征在于,所述扰流件设置有多个,所述多个扰流件的数量与所述多个载具的数量相同;
所述蒸镀设备具有预设状态,所述蒸镀设备处于所述预设状态,所述扰流件在参考面上的正投影位于对应的一个所述载具在所述参考面上的正投影内;
所述参考面为垂直于所述第一轴线的平面。
10.根据权利要求1-6任一项所述的蒸镀设备,其特征在于,所述蒸镀设备还包括沿所述第一轴线的延伸方向间隔设置的第一环形导轨和第二环形导轨;
所述载具的近端和远端的其中一端可活动配合于所述第一环形导轨,所述载具的近端和远端的其中另一端可活动配合于所述第二环形导轨,以使所述载具能够绕所述中心轴线转动;
所述第一环形导轨配置为能够绕所述第一轴线转动,以带动所述载具相对于所述第二环形导轨产生滑动,进而使得所述载具绕所述第一轴线转动。
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