CN217394629U - 一种多角度ktp晶体抛光设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种多角度KTP晶体抛光设备，包括底座、支撑架、打磨机构、升降调节机构、夹持机构和旋转调节机构，所述支撑架固定安装在底座上，所述打磨机构安装在升降调节机构上，所述升降调节机构安装在支撑架上用以带动打磨机构相对于支撑架进行升降，所述夹持机构安装在旋转调节机构上用以夹持晶体，所述旋转调节机构安装在底座上用以带动夹持机构相对于底座旋转。本实用新型通过升降调节机构能够带动打磨机构靠近或者远离晶体，水平电磁滑杆能够对打磨机构进行水平调节，旋转调节机构能够带动对夹持机构旋转，在对晶体进行抛光时，可以不断调节晶体抛光的角度，高光效果更好，效率也更高。

Description

一种多角度KTP晶体抛光设备

技术领域

本实用新型属于晶体抛光技术领域，尤其是一种多角度KTP晶体抛光设备。

背景技术

LBO晶体是一种化学性质稳定，不潮解，机械强度适中的晶体，常用语激光器总。

该晶体在加工过程中需要进行抛光处理，但是在现有的抛光设备中，设备可调整的自由度不足，导致抛光起来调节麻烦，难以对晶体进行多角度的全面抛光，抛光出的晶体质量不佳。

实用新型内容

本实用新型解决其技术问题是采取以下技术方案实现的：

一种多角度KTP晶体抛光设备，包括底座、支撑架、打磨机构、升降调节机构、夹持机构和旋转调节机构，所述支撑架固定安装在底座上，所述打磨机构安装在升降调节机构上，所述升降调节机构安装在支撑架上用以带动打磨机构相对于支撑架进行升降，所述夹持机构安装在旋转调节机构上用以夹持晶体，所述旋转调节机构安装在底座上用以带动夹持机构相对于底座旋转。

所述支撑架包括相互平行设置的第一立柱和第二立柱，所述第一立柱和第二立柱的相对侧立面上均开设有竖直滑孔。

所述升降调节机构包括升降电磁滑杆、导向杆和升降座，所述升降电磁滑杆安装在第一立柱中，所述导向杆安装在第二立柱中，所述升降座的一端滑动穿设过第一立柱上的竖直滑孔并与升降电磁滑杆的滑动端相接，所述升降座的另一端滑动穿设过第二立柱上的竖直滑孔并滑动套装在导向杆上。

所述升降座中设置有水平电磁滑杆，所述升降座的底面开设有水平滑孔。

所述打磨机构包括连接杆、打磨电机和打磨头，所述连接杆的顶端滑动穿过升降座上的水平滑孔并与水平电磁滑杆的移动端相接，所述打磨电机安装在连接杆的底端，所述打磨头接设在打磨电机的输出轴上。

所述旋转调节机构包括第一支撑座、第二支撑座、转动杆、蜗轮、蜗杆和旋转电机，所述转动杆转动穿设在第二支撑座中，所述蜗轮套装在转动杆上，所述蜗杆转动安装在第二支撑座上且与蜗轮相啮合，所述旋转电机安装在第二支撑座且与蜗杆相接，所述第一支撑座中开设有穿孔。

所述夹持机构包括夹持气缸、滑动杆、第一夹块和第二夹块，所述滑动杆滑动穿设在第一支撑座上的穿孔中，所述第一夹块转动安装在滑动杆靠近第二支撑座的一端，所述夹持气缸的缸体固定在第一支撑座上且其伸缩杆与滑动杆相接，所述第二夹块固定安装在转动杆上。

所述滑动杆的两侧设置有燕尾块，所述穿孔中开设有燕尾槽，所述燕尾块滑动嵌设在燕尾槽中。

所述第一夹块和第二夹块中均固定有橡胶垫。

本实用新型的有益效果是：通过升降调节机构能够带动打磨机构靠近或者远离晶体，水平电磁滑杆能够对打磨机构进行水平调节，旋转调节机构能够带动对夹持机构旋转，在对晶体进行抛光时，可以不断调节晶体抛光的角度，高光效果更好，效率也更高。

附图说明

图1是整体结构主视示意图；

图2是第一支撑座上穿孔示意图；

图3是第一夹块上橡胶垫示意图。

其中，1、底座；2、支撑架；3、第一立柱；4、第二立柱；5、竖直滑孔；6、升降电磁滑杆；7、导向杆；8、升降座；9、水平电磁滑杆；10、水平滑孔；11、连接杆；12、打磨电机；13、打磨头；14、第一支撑座；15、第二支撑座；16、转动杆；17、蜗轮；18、蜗杆；19、旋转电机；20、穿孔；21、夹持气缸；22、滑动杆；23、第一夹块；24、第二夹块；25、燕尾块；26、燕尾槽；27、橡胶垫。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型做进一步详述：

如图1、图2、图3所示，本实用新型提出了一种多角度KTP晶体抛光设备，包括底座1、支撑架2、打磨机构、升降调节机构、夹持机构和旋转调节机构，其中支撑架2固定安装在底座1上，打磨机构安装在升降调节机构上，升降调节机构安装在支撑架2上并且可以带动打磨机构相对于支撑架2进行升降，夹持机构安装在旋转调节机构上用以夹持晶体，旋转调节机构安装在底座1上用以带动夹持机构相对于底座旋转，在晶体打磨时，通过升降调节机构能够打动打磨机构靠近或者远离晶体，从而控制打磨作业的进行和停止，旋转调节机构能够带动夹持机构相对于底座1进行旋转，从而使得晶体旋转，进行充分打磨抛光。

进一步的，在一些示例中，支撑架2包括相互平行设置的第一立柱3和第二立柱4，第一立柱3和第二立柱4的相对侧立面上均开设有竖直滑孔5，升降调节机构包括升降电磁滑杆6、导向杆7和升降座8，升降电磁滑杆6安装在第一立柱3中，导向杆7安装在第二立柱4中，升降座8的一端滑动穿设过第一立柱3上的竖直滑孔5并与升降电磁滑杆6的滑动端相接，升降座8的另一端滑动穿设过第二立柱4上的竖直滑孔5并滑动套装在导向杆7上，因此当升降电磁滑杆6的移动端沿着杆体移动时，可以带动升降座8同步运动，并且在此过程中，导向杆7能够起到导向的作用。

进一步的，在一些示例中，升降座中设置有水平电磁滑杆9，升降座8的底面开设有水平滑孔10，打磨机构包括连接杆11、打磨电机12和打磨头13，连接杆11的顶端滑动穿过升降座8上的水平滑孔10并与水平电磁滑杆9的移动端相接，打磨电机12安装在连接杆11的底端，打磨头13接设在打磨电机12的输出轴上。通过水平电磁滑杆9移动端的移动可以带动连接杆11在水平滑孔10中滑动，进而改变打磨头13的位置，配合升降调节机构，能够使得打磨头13沿着晶体的表面进行流畅的打磨抛光，提高抛光的效果。

进一步的，在一些示例中，旋转调节机构包括第一支撑座14、第二支撑座15、转动杆16、蜗轮17、蜗杆18和旋转电机19，转动杆16转动穿设在第二支撑座15中，蜗轮17套装在转动杆16上，蜗杆18转动安装在第二支撑座15上且与蜗轮17相啮合，旋转电机19安装在第二支撑座15且与蜗杆18相接，第一支撑座14中开设有穿孔20，夹持机构包括夹持气缸21、滑动杆22、第一夹块23和第二夹块24，滑动杆22滑动穿设在第一支撑座14上的穿孔中，第一夹块23转动安装在滑动杆22靠近第二支撑座24的一端，夹持气缸21的缸体固定在第一支撑座14上且其伸缩杆与滑动杆22相接，第二夹块24固定安装在转动杆16上，滑动杆16的两侧设置有燕尾块25，穿孔20中开设有燕尾槽26，燕尾块25滑动嵌设在燕尾槽26中，第一夹块23和第二夹块24中均固定有橡胶垫27。

在对晶体进行夹持时，首先通过夹持气缸21带动滑动杆22在第一支撑座14中滑动，使得第一夹块23远离第二夹块24，然后将晶体放置在第一夹块23和第二夹块24之间，然后在通过夹持气缸21带动第一夹块23靠近第二夹块24，从而将晶体夹紧，夹紧之后，当需要晶体旋转时，启动旋转电机19带动蜗杆18转动，由于蜗轮17与蜗杆18相啮合，因此蜗轮17也随之旋转，进而使得转动杆16在第二支撑座15中转动，从而带动第二夹块24旋转，由于第一夹块23转动安装在滑动杆22上，因此第一夹块23在晶体旋转的时候也能在滑动杆22上旋转。

蜗轮17蜗杆18的传动方式只能是蜗杆18带动蜗轮17旋转，因此在打磨过程中，打磨头13对晶体施加的切向力是无法带动晶体旋转的，因此能够避免打磨错位。

燕尾块25和燕尾槽26的配合，能够使得滑动杆22稳定在第一支撑座14中滑动，而第一夹块23和第二夹块24中的橡胶垫27则能稳定夹持效果。

需要强调的是，本实用新型所述的实施例是说明性的，而不是限定性的，因此本实用新型包括并不限于具体实施方式中所述的实施例，凡是由本领域技术人员根据本实用新型的技术方案得出的其他实施方式，同样属于本实用新型保护的范围。

Claims (9)

1.一种多角度KTP晶体抛光设备，其特征在于：包括底座、支撑架、打磨机构、升降调节机构、夹持机构和旋转调节机构，所述支撑架固定安装在底座上，所述打磨机构安装在升降调节机构上，所述升降调节机构安装在支撑架上用以带动打磨机构相对于支撑架进行升降，所述夹持机构安装在旋转调节机构上用以夹持晶体，所述旋转调节机构安装在底座上用以带动夹持机构相对于底座旋转。

2.根据权利要求1所述的一种多角度KTP晶体抛光设备，其特征在于：所述支撑架包括相互平行设置的第一立柱和第二立柱，所述第一立柱和第二立柱的相对侧立面上均开设有竖直滑孔。

3.根据权利要求2所述的一种多角度KTP晶体抛光设备，其特征在于：所述升降调节机构包括升降电磁滑杆、导向杆和升降座，所述升降电磁滑杆安装在第一立柱中，所述导向杆安装在第二立柱中，所述升降座的一端滑动穿设过第一立柱上的竖直滑孔并与升降电磁滑杆的滑动端相接，所述升降座的另一端滑动穿设过第二立柱上的竖直滑孔并滑动套装在导向杆上。

4.根据权利要求3所述的一种多角度KTP晶体抛光设备，其特征在于：所述升降座中设置有水平电磁滑杆，所述升降座的底面开设有水平滑孔。

5.根据权利要求4所述的一种多角度KTP晶体抛光设备，其特征在于：所述打磨机构包括连接杆、打磨电机和打磨头，所述连接杆的顶端滑动穿过升降座上的水平滑孔并与水平电磁滑杆的移动端相接，所述打磨电机安装在连接杆的底端，所述打磨头接设在打磨电机的输出轴上。

6.根据权利要求1所述的一种多角度KTP晶体抛光设备，其特征在于：所述旋转调节机构包括第一支撑座、第二支撑座、转动杆、蜗轮、蜗杆和旋转电机，所述转动杆转动穿设在第二支撑座中，所述蜗轮套装在转动杆上，所述蜗杆转动安装在第二支撑座上且与蜗轮相啮合，所述旋转电机安装在第二支撑座且与蜗杆相接，所述第一支撑座中开设有穿孔。

7.根据权利要求6所述的一种多角度KTP晶体抛光设备，其特征在于：所述夹持机构包括夹持气缸、滑动杆、第一夹块和第二夹块，所述滑动杆滑动穿设在第一支撑座上的穿孔中，所述第一夹块转动安装在滑动杆靠近第二支撑座的一端，所述夹持气缸的缸体固定在第一支撑座上且其伸缩杆与滑动杆相接，所述第二夹块固定安装在转动杆上。

8.根据权利要求7所述的一种多角度KTP晶体抛光设备，其特征在于：所述滑动杆的两侧设置有燕尾块，所述穿孔中开设有燕尾槽，所述燕尾块滑动嵌设在燕尾槽中。

9.根据权利要求7所述的一种多角度KTP晶体抛光设备，其特征在于：所述第一夹块和第二夹块中均固定有橡胶垫。

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