CN217393199U - 一种等离子清洗机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种等离子清洗机,包括机座,所述机座上设有清洗机构,所述清洗机构的一侧设有上料机构,所述上料机构包括两条平行间距设置的上料输送带和驱动上料输送带向清洗机构方向活动的上料驱动件,两条上料输送带之间设有移料机构,所述移料机构包括升降座、控制升降座上下活动的升降驱动件、设在升降座上的移料驱动件和由移料驱动件控制沿上料方向来回活动的移料托板,所述移料托板的上表面设有间距设置出料推块和进料推块。通过在两条上料输送带之间设置移料机构,在移料机构的移料托板上设置出料推块和进料推块,提高了物料的输送速度,进而提高了物料的清洗效率;同时,优化了设备结构,缩小了设备体积,降低了设备的制造成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及清洗设备技术领域,具体涉及一种等离子清洗机。
背景技术
在芯片行业中,基板、引线框架等料条在生产时通常会遗留有溢胶、氧化物等污染物,进而影响焊线效果,目前主要是通常等离子清洗机对料条进行清洗。
现有的等离子清洗机通常是在清洗机构的两侧设置输送机构,并在清洗机构的侧旁设置机械手,从而实现将物料输入或输出清洗机构,这样的结构排布不合理,导致物料的清洗速度过慢,清洗效率较低。
实用新型内容
本实用新型针对现有技术存在之缺失,提供一种等离子清洗机,其能简化等离子清洗机结构,提高清洗效率,降低清洗机生产成本。
为实现上述目的,本实用新型采用如下之技术方案:
一种等离子清洗机,包括机座,所述机座上设有清洗机构,所述清洗机构的一侧设有上料机构,所述上料机构包括两条平行间距设置的上料输送带和驱动上料输送带向清洗机构方向活动的上料驱动件,两条上料输送带之间设有移料机构,所述移料机构包括升降座、控制升降座上下活动的升降驱动件、设在升降座上的移料驱动件和由移料驱动件控制沿上料方向来回活动的移料托板,所述移料托板的上表面设有间距设置出料推块和进料推块。通过在两条上料输送带之间设置移料机构,在移料机构的移料托板上设置出料推块和进料推块,从而利用移料托板的活动同时带动料推块和进料推块移动,利用出料推块将清洗机构内清洗完成的物料推出,同时利用进料推块将上料输送带输送的物料推入清洗机构内,提高了物料的输送速度,进而提高了物料的清洗效率;同时,优化了设备结构,缩小了设备体积,降低了设备的制造成本。
作为一种优选方案,所述清洗机构包括由上腔体和下腔体形成的清洗腔、真空泵,以及控制上腔体和下腔体开合的合腔驱动件,所述上腔体内设有上电极板,所述下腔体内设有下电极板,所述真空泵通过真空管与清洗腔连接。
作为一种优选方案,所述机座上设有若干竖向设置的导向柱,所述导向柱的上端设有安装板,所述上腔体和下腔体依次设于安装板的下方,并且所述上腔体通过导向套与导向柱滑动连接,所述合腔驱动件设于安装板上,所述上腔体与合腔驱动件连接,并可由合腔驱动件控制沿导向柱上下活动。
作为一种优选方案,所述下电极板上设有间距平行设置的物料定位板,所述物料定位板相对的一侧设有物料定位台阶,所述物料定位板的物料定位台阶之间形成物料存放位,所述物料存放位的下方形成可供移料托板伸入活动的空间。
作为一种优选方案,所述出料推块和进料推块与移料托板可拆式连接或一体成型连接,所述进料推块和出料推块沿上料输送带的活动方向依次设置。
作为一种优选方案,所述上料机构还包括有上料调幅组件、第一上料支架和第二上料支架,两条所述上料输送带分别设于第一上料支架和第二上料支架上,所述上料调幅组件包括上料调幅电机和由上料调幅电机驱动转动的上料调幅丝杆,所述第一上料支架和/或第二上料支架与上料调幅丝杆螺纹连接,并可由上料调幅丝杆控制活动。
作为一种优选方案,所述机座上设有上料调幅滑轨,所述第一上料支架和/或第二上料支架与上料调幅滑轨滑动连接。
作为一种优选方案,所述清洗机构的另一侧设有下料机构,所述下料机构包括两条平行间距设置的下料输送带、驱动下料输送带活动的下料驱动件、第一下料支架和第二下料支架,两条所述下料输送带分别设于第一下料支架和第二下料支架上,所述下料输送带的活动方向与上料输送带的活动方向相同。
作为一种优选方案,所述上料输送带的上方均设有上料挡条,所述上料输送带与上料挡条之间形成上料定位槽,上料时,物料从上料定位槽经过,并由上料输送带传送;所述下料输送带的上方均设有下料挡条,所述下料输送带与下料挡条之间形成下料定位槽,下料时,物料从下料定位槽经过,并由下料输送带传送。
作为一种优选方案,所述机座上设有下料调幅滑轨,所述第一下料支架和/或第二下料支架与下料调幅滑轨滑动连接,所述下料机构还包括有下料调幅组件,所述下料调幅组件包括下料调幅电机和由下料调幅电机驱动转动的下料调幅丝杆,所述第一下料支架和/或第二下料支架与下料调幅丝杆螺纹连接,并可由下料调幅丝杆控制活动。
本实用新型工作过程如下:
首先,上料输送带将物料输送到移料托板的上方,升降驱动件控制移料托板向上活动,使物料托于移料托板上,然后合腔驱动件控制上腔体向上移动,移料驱动件驱动移料托板伸入下电极板的物料存放位下方的空间内,出料推块将完成清洗的物料从下电极板的物料存放位推出,同时进料推块将物料推到物料存放位,接着升降驱动件控制移料托板向下活动,使物料脱离移料托板,然后移料驱动件驱动移料托板回缩到上料输送带的下方,合腔驱动件控制上腔体向下移动与下腔体合腔,真空泵对清洗腔内部抽真空后对物料进行等离子清洗,清洗完成后,重复前述步骤。
本实用新型与现有技术相比具有明显的优点和有益效果,具体而言,通过在两条上料输送带之间设置移料机构,在移料机构的移料托板上设置出料推块和进料推块,从而利用移料托板的活动同时带动料推块和进料推块移动,利用出料推块将清洗机构内清洗完成的物料推出,同时利用进料推块将上料输送带输送的物料推入清洗机构内,提高了物料的输送速度,进而提高了物料的清洗效率;同时,优化了设备结构,缩小了设备体积,降低了设备的制造成本;通过设置上料调幅组件和下料调幅组件,从而可根据物料尺寸调节上料输送带和下料输送带之间的距离,从而适配不同物料的清洗,提高设备通用性。
为更清楚地阐述本实用新型的结构特征、技术手段及其所达到的具体目的和功能,下面结合附图与具体实施例来对本实用新型作进一步详细说明:
附图说明
图1是本实用新型之实施例的组装结构图;
图2是本实用新型之实施例的上料机构和移料机构的组装结构图;
图3是本实用新型之实施例的下料机构的分解结构图;
图4是本实用新型之实施例的清洗机构的结构图。
附图标识说明:
10、机座 11、第一电机支撑板 12、第二电机支撑板
20、上料机构 21、第一上料支架 22、第二上料支架
23、上料输送带 24、上料驱动件 25、上料挡条
26、上料调幅滑轨 27、上料调幅丝杆 28、上料调幅电机
29、上料感应器 30、移料机构 31、升降驱动件
32、升降座 33、移料驱动件 34、移料滑座
35、移料托板 36、出料推块 37、进料推块
38、移料滑轨 40、清洗机构 41、上腔体
42、下腔体 43、合腔驱动件 44、真空泵
45、下电极板 451、物料定位板 452、物料定位台阶
46、安装板 47、导向柱 50、下料机构
51、第一下料支架 52、第二下料支架 53、下料输送带
54、下料驱动件 55、下料挡条 56、下料调幅滑轨
57、下料调幅丝杆 58、下料调幅电机 59、下料感应器。
具体实施方式
在本实用新型的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的位置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以视具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
如图1-4所示,一种等离子清洗机,包括机座10,所述机座10上设有清洗机构40,所述清洗机构40的一侧设有上料机构20,所述上料机构20包括两条平行间距设置的上料输送带23和驱动上料输送带23向清洗机构40方向活动的上料驱动件24,所述上料驱动件24为上料电机,两条上料输送带23之间设有移料机构30,所述移料机构30包括升降座32、控制升降座32上下活动的升降驱动件31、设在升降座32上的移料驱动件33和由移料驱动件33控制沿上料方向来回活动的移料托板35,所述移料托板35的上表面设有间距设置出料推块36和进料推块37,所述升降驱动件31为升降驱动气缸,所述移料驱动件33为移料驱动气缸,所述升降座32的上表面设有移料滑轨38,所述移料滑轨38上设有由移料驱动气缸控制滑动的移料滑座34,所述移料托板35的一端与移料滑座34固定连接,另一端向清洗机构40一侧伸出,所述移料滑轨38的延伸方向与上料输送带23的活动方向平行。
本实用新型中,所述进料推块37和出料推块36沿上料输送带23的活动方向依次设置,所述出料推块36设于移料托板35的自由端的上侧,所述出料推块36和进料推块37与移料托板35采用可拆式连接,从而可根据需要调节出料推块36和进料推块37之间的距离,从而适用不同物料的清洗。应理解为,在实际使用时出料推块36和进料推块37与移料托板35也可以是一体成型连接,即在移料托板35的上表面一体成型出上凸的出料推块36和进料推块37。
具体的,如图2所示,所述上料机构20还包括有上料调幅组件、第一上料支架21和第二上料支架22,其中一条所述上料输送带23设于第一上料支架21,另一条所述上料输送带23设于第二上料支架22上;所述上料输送带23的上方均设有上料挡条25,所述上料输送带23与上料挡条25之间形成上料定位槽,上料时,物料从上料定位槽经过,并由上料输送带23传送;所述上料调幅组件包括上料调幅电机28和由上料调幅电机28驱动转动的上料调幅丝杆27,所述第一上料支架21和/或第二上料支架22与上料调幅丝杆27螺纹连接,并可由上料调幅丝杆27控制活动。所述机座10上设有上料调幅滑轨26,所述第一上料支架21和/或第二上料支架22与上料调幅滑轨26滑动连接。
本实施例中,为了提高调幅精度,所述上料调幅滑轨26和上料调幅丝杆27均设有两条,两条上料调幅滑轨26和两条上料调幅丝杆27均相互平行设置,所述第一上料支架21设有两块向下伸出的上料支撑板,两块上料支撑板的下端分别与对应的上料调幅滑轨26滑动连接,两条上料调幅丝杆27分别与对应的上料支撑板螺纹连接,所述上料调幅电机28通过同步带(未示出)同时控制两条上料调幅丝杆27转动。所述第二上料支架22上设有用于检测物料是否到位的上料感应器29。所述第一上料支架21的一侧设有用于安装上料调幅电机28的第一电机支撑板11。
如图3所示,本实用新型中,所述清洗机构40的另一侧设有下料机构50,所述下料机构50包括两条平行间距设置的下料输送带53、驱动下料输送带53活动的下料驱动件54、第一下料支架51和第二下料支架52,两条所述下料输送带53分别设于第一下料支架51和第二下料支架52上,所述下料输送带53的活动方向与上料输送带23的活动方向相同。所述下料输送带53的上方均设有下料挡条55,所述下料输送带53与下料挡条55之间形成下料定位槽,下料时,物料从下料定位槽经过,并由下料输送带53传送。所述机座10上设有下料调幅滑轨56,所述第一下料支架51和/或第二下料支架52与下料调幅滑轨56滑动连接,所述下料机构50还包括有下料调幅组件,所述下料调幅组件包括下料调幅电机58和由下料调幅电机58驱动转动的下料调幅丝杆57,所述第一下料支架51和/或第二下料支架52与下料调幅丝杆57螺纹连接,并可由下料调幅丝杆57控制活动。
本实施例中,为了提高调幅精度,所述下料调幅滑轨56和下料调幅丝杆57均设有两条,两条下料调幅滑轨56和两条下料调幅丝杆57均相互平行设置,所述第一下料支架51设有两块向下伸出的下料支撑板,两块下料支撑板的下端分别与对应的下料调幅滑轨56滑动连接,两条下料调幅丝杆57分别与对应的下料支撑板螺纹连接,所述下料调幅电机58通过同步带(未示出)同时控制两条下料调幅丝杆57转动。所述第二下料支架52上设有下料感应器59。所述第一下料支架51的一侧设有用于安装下料调幅电机58的第二电机支撑板12。
如图4所示,所述清洗机构40包括由上腔体41和下腔体42形成的清洗腔、真空泵44,以及控制上腔体41和下腔体42开合的合腔驱动件43,所述上腔体41内设有上电极板(未示出),所述下腔体42内设有下电极板45,所述真空泵44通过真空管与清洗腔连接,用于对清洗腔进行抽真空。所述机座10上设有若干竖向设置的导向柱47,所述导向柱47的上端设有安装板46,所述上腔体41和下腔体42依次设于安装板46的下方,并且所述上腔体41通过导向套与导向柱47滑动连接,所述合腔驱动件43设于安装板46上,所述上腔体41与合腔驱动件43连接,并可由合腔驱动件43控制沿导向柱47上下活动。所述下电极板45上设有间距平行设置的物料定位板451,所述物料定位板451相对的一侧设有物料定位台阶452,所述物料定位板451的物料定位台阶452之间形成物料存放位,所述物料存放位的下方形成可供移料托板35伸入活动的空间。本实施例中,所述合腔驱动件43为气缸,在实际工作时也可选用电机代替。
本实用新型工作过程如下:
首先,上料输送带23将物料输送到移料托板35的上方,升降驱动件31控制移料托板35向上活动,使物料托于移料托板35上,然后合腔驱动件43控制上腔体41向上移动,移料驱动件33驱动移料托板35伸入下电极板45的物料存放位下方的空间内,出料推块36将完成清洗的物料从下电极板45的物料存放位推出,同时进料推块37将物料推到物料存放位,接着升降驱动件31控制移料托板35向下活动,使物料脱离移料托板35,然后移料驱动件33驱动移料托板35回缩到上料输送带23的下方,合腔驱动件43控制上腔体41向下移动与下腔体42合腔,真空泵44对清洗腔内部抽真空后对物料进行等离子清洗,清洗完成后,重复前述步骤。
综上所述,本实用新型通过在两条上料输送带之间设置移料机构,在移料机构的移料托板上设置出料推块和进料推块,从而利用移料托板的活动同时带动料推块和进料推块移动,利用出料推块将清洗机构内清洗完成的物料推出,同时利用进料推块将上料输送带输送的物料推入清洗机构内,提高了物料的输送速度,进而提高了物料的清洗效率;同时,优化了设备结构,缩小了设备体积,降低了设备的制造成本;通过设置上料调幅组件和下料调幅组件,从而可根据物料尺寸调节上料输送带和下料输送带之间的距离,从而适配不同物料的清洗,提高设备通用性。
以上所述,仅是本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,故凡是依据本实用新型的技术实际对以上实施例所作的任何修改、等同替换、改进等,均仍属于本实用新型技术方案的范围内。
Claims (10)
1.一种等离子清洗机,其特征在于,包括机座,所述机座上设有清洗机构,所述清洗机构的一侧设有上料机构,所述上料机构包括两条平行间距设置的上料输送带和驱动上料输送带向清洗机构方向活动的上料驱动件,两条上料输送带之间设有移料机构;
所述移料机构包括升降座、控制升降座上下活动的升降驱动件、设在升降座上的移料驱动件和由移料驱动件控制沿上料方向来回活动的移料托板,所述移料托板的上表面设有间距设置出料推块和进料推块。
2.根据权利要求1所述的一种等离子清洗机,其特征在于,所述清洗机构包括真空泵、由上腔体和下腔体形成的清洗腔以及控制上腔体和下腔体开合的合腔驱动件;
所述上腔体内设有上电极板,所述下腔体内设有下电极板,所述真空泵通过真空管与清洗腔连接。
3.根据权利要求2所述的一种等离子清洗机,其特征在于,所述机座上设有若干竖向设置的导向柱,所述导向柱的上端设有安装板,所述上腔体和下腔体依次设于安装板的下方,并且所述上腔体通过导向套与导向柱滑动连接,所述合腔驱动件设于安装板上,所述上腔体与合腔驱动件连接,并可由合腔驱动件控制沿导向柱上下活动。
4.根据权利要求2或3所述的一种等离子清洗机,其特征在于,所述下电极板上设有间距平行设置的物料定位板,所述物料定位板相对的一侧设有物料定位台阶,所述物料定位板的物料定位台阶之间形成物料存放位,所述物料存放位的下方形成可供移料托板伸入活动的空间。
5.根据权利要求4所述的一种等离子清洗机,其特征在于,所述出料推块和进料推块与移料托板可拆式连接或一体成型连接,所述进料推块和出料推块沿上料输送带的活动方向依次设置。
6.根据权利要求1所述的一种等离子清洗机,其特征在于,所述上料机构还包括有上料调幅组件、第一上料支架和第二上料支架,两条所述上料输送带分别设于第一上料支架和第二上料支架上,所述上料调幅组件包括上料调幅电机和由上料调幅电机驱动转动的上料调幅丝杆,所述第一上料支架和/或第二上料支架与上料调幅丝杆螺纹连接,并可由上料调幅丝杆控制活动。
7.根据权利要求6所述的一种等离子清洗机,其特征在于,所述机座上设有上料调幅滑轨,所述第一上料支架和/或第二上料支架与上料调幅滑轨滑动连接。
8.根据权利要求1所述的一种等离子清洗机,其特征在于,所述清洗机构的另一侧设有下料机构,所述下料机构包括两条平行间距设置的下料输送带、驱动下料输送带活动的下料驱动件、第一下料支架和第二下料支架,两条所述下料输送带分别设于第一下料支架和第二下料支架上,所述下料输送带的活动方向与上料输送带的活动方向相同。
9.根据权利要求1所述的一种等离子清洗机,其特征在于,所述上料输送带的上方均设有上料挡条,所述上料输送带与上料挡条之间形成上料定位槽。
10.根据权利要求8所述的一种等离子清洗机,其特征在于,所述机座上设有下料调幅滑轨,所述第一下料支架和/或第二下料支架与下料调幅滑轨滑动连接,所述下料机构还包括有下料调幅组件,所述下料调幅组件包括下料调幅电机和由下料调幅电机驱动转动的下料调幅丝杆,所述第一下料支架和/或第二下料支架与下料调幅丝杆螺纹连接,并可由下料调幅丝杆控制活动。
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