CN216998557U - 一种磁控溅镀设备阴极端头底座 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种磁控溅镀设备阴极端头底座，包括底座本体；底座本体的两侧设置有密封组件；密封组件包括第一密封圈和第二密封圈；第一密封圈和第二密封圈设置在底座本体的表面；第一密封圈和第二密封圈之间设置有狭缝；狭缝内设置有抽气孔；抽气孔向底座本体的内部连通延伸设置有抽气接头；该阴极端头底座采用双层密封圈结构配合抽真空狭缝，显著提高了装配结构的密封性能。

Description

一种磁控溅镀设备阴极端头底座

技术领域

本实用新型涉及溅镀技术领域，尤其涉及一种磁控溅镀设备阴极端头底座。

背景技术

近年来，玻璃镀膜技术飞速发展，市场认可度大幅提升，镀膜设备产能不断提升，溅镀就是其中至关重要的生产环节。镀膜阴极端头安装要求很高，很容易造成安装导致的密封性不好。阴极端头旋转震动容易导致密封圈松动，进而造成漏气。阴极端头冷却水管密封圈老化，进水压力波动时，容易松动漏水，进而导致端头底座密封进灰尘漏气。所以为保证镀膜设备稳定地运行，需要确保设备在阴极端头等位置拥有稳定可靠的密封状态，有必要针对溅镀设备阴极端头底座的密封结构进行优化设计。

发明内容

发明目的：为了克服现有技术中存在的不足，本实用新型提供一种密封稳定可靠、加工效率高的磁控溅镀设备阴极端头底座。

技术方案：为实现上述目的，本实用新型的一种磁控溅镀设备阴极端头底座，包括底座本体；所述底座本体的两侧设置有密封组件；所述密封组件包括第一密封圈和第二密封圈；所述第一密封圈和所述第二密封圈设置在所述底座本体的表面；所述第一密封圈和所述第二密封圈之间设置有狭缝；所述狭缝内设置有抽气孔；所述抽气孔向所述底座本体的内部连通延伸设置有抽气接头。

进一步地，所述底座本体表面开设有第一环槽和第二环槽；所述第一密封圈配合镶嵌在所述第一环槽内部；所述第二密封圈配合镶嵌在所述第二环槽内部；所述狭缝的底部高于所述第一环槽、第二环槽的底部。

进一步地，所述第一环槽和所述第二环槽的深度为3-5mm。

进一步地，所述狭缝的深度为1-3mm。

进一步地，所述抽气接头上连通连接设置有气管；所述气管上设置有真空规和电磁阀。

进一步地，所述第一密封圈位于所述第二密封圈的外围；所述第一密封圈与所述底座本体的边缘处之间留有过渡肩部。

进一步地，所述第一环槽、第二环槽与所述狭缝等宽。

进一步地，所述狭缝宽度为4-6mm。

有益效果：本实用新型的一种磁控溅镀设备阴极端头底座，包括底座本体；所述底座本体的两侧设置有密封组件；所述密封组件包括第一密封圈和第二密封圈；所述第一密封圈和所述第二密封圈设置在所述底座本体的表面；所述第一密封圈和所述第二密封圈之间设置有狭缝；所述狭缝内设置有抽气孔；所述抽气孔向所述底座本体的内部连通延伸设置有抽气接头；该阴极端头底座采用双层密封圈结构配合抽真空狭缝，显著提高了装配结构的密封性能；同时，密封圈结构采用内嵌形式布置，且嵌槽与狭缝的槽口统一宽度，极大提升了加工效率。

附图说明

图1为磁控溅镀设备阴极端头底座整体结构示意图；

图2为图1圈出部位的剖视图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作更进一步的说明。

如图1和图2所示，一种磁控溅镀设备阴极端头底座，包括底座本体1；所述底座本体1的两侧设置有密封组件2；所述密封组件2包括第一密封圈21和第二密封圈22；所述第一密封圈21和所述第二密封圈22设置在所述底座本体1的表面；所述第一密封圈21和所述第二密封圈22之间设置有狭缝23；所述狭缝23内设置有抽气孔24；所述抽气孔24向所述底座本体1的内部连通延伸设置有抽气接头25。

阴极端头底座的作用在于同腔体单元盖板和阴极端头等部件装配；密封组件2的作用在于让阴极端头底座与其它部件的接触面之间可以形成稳定的密封配合，防止外界环境在设备工作时造成负面影响以及内部输送介质的泄漏。具体而言，密封组件2通过设置两道密封圈结构，相比于传统的单密封圈设计而言，其密封可靠性大大提升；同时，利用狭缝23内部的抽气孔24利用抽气接头25外接抽气泵，用来在第一密封圈21和第二密封圈22之间形成一个抽真空环境，从而进一步提升密封组件2整体的气密性能，图2中箭头所示为气体流动方向。

所述底座本体1表面开设有第一环槽11和第二环槽12；所述第一密封圈21配合镶嵌在所述第一环槽11内部；所述第二密封圈22配合镶嵌在所述第二环槽12内部；所述狭缝23的底部高于所述第一环槽11、第二环槽12的底部。

环槽结构的优势在于，可以让密封圈部分嵌入其中，从而相较于把密封圈直接粘贴在平面表面的形式，可以获得更牢固的安装效果；狭缝23底部高于环槽结构底部，可以让抽真空的腔室体积变小，从而提升抽气效果。

所述第一环槽11和所述第二环槽12的深度为3-5mm。

在实际制造中，第一环槽11和第二环槽12可以做成宽5mm、深4mm的槽口，既能够满足常用规格的密封圈的要求，同时又能够保证密封圈的安装牢固性。

所述狭缝23的深度为1-3mm。

狭缝23可以做成宽5mm、深2mm的槽口，一方面利用适当的宽度防止两个密封圈受压变宽后互相挤压摩擦造成损伤，另一方面也可以得到体积适当的空腔，保证抽气隔绝外接空气的效果。

所述抽气接头25上连通连接设置有气管；所述气管上设置有真空规和电磁阀。

气管的另一端与抽气泵进口端连接，真空规的作用在于可以对抽真空效果进行监测，防止工作异常发生，有利于第一时间介入，提升运行可靠性；电磁阀能够灵活控制气管的开闭。

所述第一密封圈21位于所述第二密封圈22的外围；所述第一密封圈21与所述底座本体1的边缘处之间留有过渡肩部26。

过渡肩部26的作用在于可以与装配部件压合，从而对密封组件2构成双侧的限位作用，提升密封效果。

所述第一环槽11、第二环槽12与所述狭缝23等宽。

在铣刀加工环状槽口的过程中不需要切换到头即可全部加工完毕，能够提升端头底座的加工效率。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出：对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (8)

1.一种磁控溅镀设备阴极端头底座，其特征在于：包括底座本体(1)；所述底座本体(1)的两侧设置有密封组件(2)；所述密封组件(2)包括第一密封圈(21)和第二密封圈(22)；所述第一密封圈(21)和所述第二密封圈(22)设置在所述底座本体(1)的表面；所述第一密封圈(21)和所述第二密封圈(22)之间设置有狭缝(23)；所述狭缝(23)内设置有抽气孔(24)；所述抽气孔(24)向所述底座本体(1)的内部连通延伸设置有抽气接头(25)。

2.根据权利要求1所述的磁控溅镀设备阴极端头底座，其特征在于：所述底座本体(1)表面开设有第一环槽(11)和第二环槽(12)；所述第一密封圈(21)配合镶嵌在所述第一环槽(11)内部；所述第二密封圈(22)配合镶嵌在所述第二环槽(12)内部；所述狭缝(23)的底部高于所述第一环槽(11)、第二环槽(12)的底部。

3.根据权利要求2所述的磁控溅镀设备阴极端头底座，其特征在于：所述第一环槽(11)和所述第二环槽(12)的深度为3-5mm。

4.根据权利要求2所述的磁控溅镀设备阴极端头底座，其特征在于：所述狭缝(23)的深度为1-3mm。

5.根据权利要求1所述的磁控溅镀设备阴极端头底座，其特征在于：所述抽气接头(25)上连通连接设置有气管；所述气管上设置有真空规和电磁阀。

6.根据权利要求1所述的磁控溅镀设备阴极端头底座，其特征在于：所述第一密封圈(21)位于所述第二密封圈(22)的外围；所述第一密封圈(21)与所述底座本体(1)的边缘处之间留有过渡肩部(26)。

7.根据权利要求2所述的磁控溅镀设备阴极端头底座，其特征在于：所述第一环槽(11)、第二环槽(12)与所述狭缝(23)等宽。

8.根据权利要求7所述的磁控溅镀设备阴极端头底座，其特征在于：所述狭缝(23)宽度为4-6mm。

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