CN215659750U - 喷砂装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种喷砂装置，用于对金属工件进行喷砂，所述喷砂装置包括：底座、磁体组件以及第一支撑板；所述磁体组件设置于所述底座上，所述第一支撑板覆盖于所述磁体组件上，所述磁体组件用于吸附位于所述第一支撑板上的所述金属工件。当喷枪对所述金属工件喷砂时，由于金属工件被所述磁体组件吸附，不会发生移位，使得金属工件芯轴位置可控，进而为调控喷砂距离提供条件，使得表面粗糙度可控保证喷砂的均匀性，进而为保证一致的喷砂效果提供条件。当金属工件的一面被喷砂之后，翻转金属工件至另一面进行喷砂，实现多次多面喷砂，使得金属工件表面能够被充分喷砂，不易漏喷砂。并且，所述喷砂装置结构简单、操作便捷、生产效率高。

Description

喷砂装置

技术领域

本实用新型涉及医疗器械技术领域，特别涉及一种喷砂装置。

背景技术

对于医用的涂层芯轴来说，在涂层加工前，需要对涂层芯轴的芯轴进行喷砂前处理，喷砂后的芯轴的表面的喷砂均匀性和粗糙度直接会对涂层的附着力产生重要影响。但是医用的芯轴往往因为使用需求不同而有很多规格，其形状横截面也不是常用的圆形，而是异型的，比如D型、梅花形或三角型，而且常用的芯轴不一定是直形而是弯曲的，这种异型的弯曲的芯轴的喷砂难度比常规的芯轴的喷砂难度大很多。通常，芯轴采用金属丝材制成。目前，常用的一种芯轴的喷砂方式是手持式喷砂，即不采用喷砂装置，操作者直接拿着一把芯轴进行喷砂。还有一种芯轴的喷砂方式是采用圆筒或圆柱形喷砂装置，芯轴在装置内移动换位来实现整体喷砂。

然而，手持式喷砂方法有很多弊端，由于多根芯轴之间互相接触，喷砂时芯轴间互相遮挡容易形成喷砂死角，易造成芯轴部分位置漏喷砂。若采用圆筒或圆柱形喷砂装置进行喷砂时，由于芯轴是弯曲的，芯轴易卡在喷砂装置的孔隙中而无法移动，不能实现自由换位，喷砂位置不可控，并且由于芯轴很细，操作者带着喷砂手套不方便移动芯轴，更不方便对芯轴进行换位。另外，芯轴与喷枪位置不固定容易造成不同芯轴间或者芯轴不同位置承受的喷砂压力不同。这些喷砂位置不均、喷砂时间不一致、喷砂压力不同，都会造成芯轴表面喷砂不均匀，芯轴不同位置的喷砂粗糙度相差大。

因此，开发出一种在喷砂时不易漏喷砂、芯轴位置可控，进而为调控喷砂距离提供条件，进而使得表面粗糙度可控保证喷砂的均匀性，并且操作方便的喷砂装置，已成为喷砂装置生产厂家亟待解决的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种喷砂装置，以解决在喷砂时易漏喷砂、芯轴位置不可控，进而使得芯轴表面粗糙度不可控、喷砂不均匀的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种喷砂装置，用于对金属工件进行喷砂，包括：底座、磁体组件以及第一支撑板；所述磁体组件设置于所述底座上，所述第一支撑板覆盖于所述磁体组件上，所述磁体组件用于吸附位于所述第一支撑板上的所述金属工件。

可选的，所述磁体组件包括至少两个永磁铁以及导磁金属块，所述永磁铁与所述导磁金属块间隔布置，至少两个所述永磁铁的磁极方向排布一致。

可选的，所述喷砂装置还包括第二支撑板，所述第二支撑板设置于所述磁体组件与所述第一支撑板之间。

可选的，所述第一支撑板的厚度不大于1mm，所述第二支撑板的厚度不大于1mm。

可选的，所述第一支撑板为硅胶板，所述第二支撑板为金属板。

所述喷砂装置还包括导磁压块，所述导磁压块受所述磁体组件的磁力吸附，用于固定所述金属工件的位置。

可选的，所述喷砂装置还包括喷枪夹持机构，所述喷枪夹持机构用于夹持一喷枪；所述喷枪夹持机构包括喷枪夹以及支撑架，所述喷枪夹与所述支撑架连接并围绕所述支撑架的轴向可转动。

可选的，所述支撑架包括第一支撑杆以及第二支撑杆，所述第二支撑杆可升降地设置于所述第一支撑杆，所述喷枪夹与所述第二支撑杆连接。

可选的，所述底座包括第三支撑板和升降组件；所述磁体组件设置于所述第三支撑板上，所述升降组件与所述第三支撑板连接，用于调节所述第三支撑板的升降，所述升降组件包括螺旋支杆。

可选的，所述喷砂装置还包括平移组件，所述平移组件包括滑轨以及滑轮，所述滑轮与所述底座连接，并与所述滑轨滑动连接，所述滑轮采用无轴承滑轮。

在本实用新型提供的一种喷砂装置中，所述喷砂装置用于对金属工件进行喷砂，所述喷砂装置包括：底座、磁体组件以及第一支撑板；所述磁体组件设置于所述底座上，所述第一支撑板覆盖于所述磁体组件上，所述磁体组件用于吸附位于所述第一支撑板上的所述金属工件。当喷枪对所述金属工件喷砂时，由于金属工件被所述磁体组件吸附，不会发生移位，使得金属工件芯轴位置可控，进而为调控喷砂距离提供条件，使得表面粗糙度可控保证喷砂的均匀性，进而为保证一致的喷砂效果提供条件。当金属工件的一面被喷砂之后，翻转金属工件至另一面进行喷砂，实现多次多面喷砂，使得金属工件表面能够被充分喷砂，不易漏喷砂。并且，所述喷砂装置结构简单、操作便捷、生产效率高。

附图说明

本领域的普通技术人员将会理解，提供的附图用于更好地理解本实用新型，而不对本实用新型的范围构成任何限定。其中：

图1为本实用新型一实施例的喷砂装置的示意图。

图2为本实用新型一实施例的喷砂装置的另一状态的示意图。

图3为本实用新型一实施例的喷砂装置的主视图。

图4为本实用新型一实施例的喷砂装置的左视图。

图5为本实用新型一实施例的喷砂装置的俯视图。

附图中：

10-金属工件；

100-底座，110-升降组件，120-平移组件，121-滑轨，122-滑轮，130-固定件；

200-磁体组件，210-永磁铁，220-导磁金属块；

300-第一支撑板，310-第二支撑板；

400-喷枪夹持机构，410-支撑架，411-第一支撑杆，412-第二支撑杆，420- 喷枪夹；

500-导磁压块。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、优点和特征更加清楚，以下结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步详细说明。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且未按比例绘制，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。此外，附图所展示的结构往往是实际结构的一部分。特别的，各附图需要展示的侧重点不同，有时会采用不同的比例。

如在本说明书中所使用的，单数形式“一”、“一个”以及“该”包括复数对象，除非内容另外明确指出外。如在本说明书中所使用的，术语“或”通常是以包括“和/或”的含义而进行使用的，除非内容另外明确指出外。

本实用新型实施例提供了一种喷砂装置，所述喷砂装置用于对金属工件进行喷砂，所述喷砂装置包括：底座、磁体组件以及第一支撑板；所述磁体组件设置于所述底座上，所述第一支撑板覆盖于所述磁体组件上，所述磁体组件用于吸附位于所述第一支撑板上的所述金属工件。当喷枪对所述金属工件喷砂时，由于金属工件被所述磁体组件吸附，不会发生移位，使得金属工件芯轴位置可控，进而为调控喷砂距离提供条件，使得表面粗糙度可控保证喷砂的均匀性，进而为保证一致的喷砂效果提供条件。当金属工件的一面被喷砂之后，翻转金属工件至另一面进行喷砂，实现多次多面喷砂，使得金属工件表面能够被充分喷砂，不易漏喷砂。并且，所述喷砂装置结构简单、操作便捷、生产效率高。进一步的，所述喷砂装置还包括升降组件以及平移组件，使得喷砂时金属工件的位移和速度可控、喷砂距离可控，进而使得喷砂时间以及喷砂压力可控，从而可实现喷砂后金属工件表面的粗糙度均匀且粗糙度可调节。

以下参考附图进行描述。

图1为本实用新型一实施例的喷砂装置的示意图；图2为本实用新型一实施例的喷砂装置的另一状态的示意图；图3为本实用新型一实施例的喷砂装置的主视图；图4为本实用新型一实施例的喷砂装置的左视图；图5为本实用新型一实施例的喷砂装置的俯视图。

请参考图1至图2，喷砂装置用于对金属工件10进行喷砂，尤其适用于对一种异型弯曲金属工件进行喷砂。所述金属工件10例如优选是一金属芯轴。所述喷砂装置包括：底座100、磁体组件200以及第一支撑板300。

如图1所示，所述底座100例如是一板槽，用于固定所述磁体组件200的位置，所述底座100例如采用非铁磁材质，优选采用铝材质，当然，还可以采用其他的有色金属材质等。所述底座100的大小与所述磁体组件200的大小相匹配，使得所述磁体组件200能够稳固的设置于所述底座100上。所述底座100 采用的板槽的高度与所述磁体组件200的高度一致，使得所述磁体组件200放置入底座100之后，所述第一支撑板300能够平铺于所述磁体组件200上，并与所述底座100的边缘卡接。进一步的，所述底座100还包括固定件130，所述固定件130例如是一条形材质的板，所述条形材质的板用作压板，能够将设置于所述磁体组件200上的第一支撑板300固定于所述底座100上。如图2所示，所述磁体组件200设置于所述底座100上。所述磁体组件200具有磁力。所述磁力可以理解为磁体引力。所述第一支撑板300覆盖于所述磁体组件200上，所述磁体组件200用于吸附位于所述第一支撑板300上的所述金属工件10。所述第一支撑板300用于提升所述磁体组件100的平整度以及保护所述金属工件 100不被划伤。所述第一支撑板300例如优选是硅胶材质的板，进而使得被吸附于所述第一支撑板300上的金属工件10在硅胶材质的缓冲作用下，避免金属工件10直接与磁体组件200接触，进而避免金属工件10与所述磁体组件200产生摩擦，避免被划伤产生划痕。所述第一支撑板300还可以选用其他材质，例如是兼具柔性与韧性的材质，例如是橡胶板等。由于金属工件10与磁体组件200 之间的相互作用力与两者之间的距离关系很大，金属工件10距离磁体组件200 越远，磁力线越稀疏，磁体组件200的引力就会越小，为了避免两者之间的相互作用力变小，所述第一支撑板300的厚度优选为不大于1mm。当然，在其他实施例中，本领域技术人员可以根据实际的情况对第一支撑板300的厚度以及第一支撑板300的材质进行选择。

所述金属工件100例如优选是一异型弯曲金属工件，所述异形弯曲金属工件在磁体组件10的磁力的作用下能够被笔直的贴附在所述第一支撑板300的表面，进而使得异形弯曲金属工件被直形化，在喷砂时，被直形化的异形弯曲金属工件为实现一致的喷砂效果提供便利。当喷枪对所述金属工件10进行喷砂时，金属工件10不会受到喷砂压力影响而发生移位，使得所述金属工件10在喷砂时位置可控，进而为调控喷砂距离、喷砂时间以及喷砂压力提供条件，进而使得金属工件10表面整体喷砂均匀、表面粗糙度可控以及表面粗糙度的均匀性，为实现一致的喷砂效果提供条件。当金属工件10的一面，例如异型弯曲金属工件的一面被喷砂之后，翻转金属工件10，喷枪对没有被喷砂处理的其他面进行喷砂，进而实现多次多面喷砂，避免漏喷砂的情况，使得金属工件10表面能够被充分喷砂，喷砂换位简单方便，实现了金属工件10每一面每个位置达到同样的喷砂效果，解决了异型弯曲金属工件因为弯曲、多面产生的喷砂不均匀的问题。并且，所述喷砂装置结构简单、操作便捷、生产效率高。进一步的，所述磁体组件200的磁力可以对多根金属工件10进行固定，例如可以是十根金属工件10固定，使得喷枪可以在十根金属工件10的表面进行均匀地喷砂处理，本领域技术人员可以根据实际的需求对确定所述金属工件10的数量，进而进一步提高了生产效率。

优选的，如图2所示，所述磁体组件200例如包括永磁铁210，所述永磁铁 210例如是钕铁硼磁铁或者天然磁石。更佳的，由于一整块永磁铁的定制费用高且易碎，其整体磁力太大，在安装或使用时也有具有危险，所述磁体组件200 还包括至少两个所述永磁铁210以及导磁金属块220。所述导磁金属块220优选采用铁磁性材料制成，优选是钢材料，所述永磁铁210与所述导磁金属块220 间隔布置，永磁铁210能够将所述导磁金属块220磁化，进而形成一块磁力相对整体永磁铁210磁力小的磁铁，进而提高了磁体组件200的安装或使用时的安全性。至少两个所述永磁铁210的磁极方向排布一致，例如，至少两个永磁铁100的一个面为N极或者S极的排布。进一步的，所述永磁铁210或者所述导磁金属块220的结构为条形结构，所述永磁铁210优选为条形磁铁，所述导磁金属块220优选为钢条，条形磁铁与钢条间隔优选紧密排布形成一块磁力均匀的磁体组件200。当然，所述永磁铁210与所述导磁金属块220还可以距离等距的排布。本领域技术人员根据实际情况设置永磁铁210以及导磁金属块220 之间的距离，例如若某个位置需要磁力较大，永磁铁210与导磁金属块220之间的间距较小，某个位置需要磁力较小，永磁铁210与导磁金属块220之间的间距相对变大。或者，本领域技术人员根据实际需求设置所述永磁铁210以及导磁金属块220的形状，例如是正方形或者平行四边形等。在其他实施例中，所述磁体组件200还可以是一电磁铁，通过通电产生电磁，进而对所述金属工件10进行吸附，本领域技术人员可以根据电磁铁相关的技术方案进行设置，本文不在此赘述。

更佳的，如图1与图3所示，所述喷砂装置还包括第二支撑板310，所述第二支撑板310设置于所述磁体组件200与所述第一支撑板300之间。所述第二支撑板310例如优选是金属垫片，例如优选采用薄锰钢材质制成，用于在不降低所述磁体组件200的磁力的情况下提升磁体组件200的表面的平整度，为金属工件10尤其是异形弯曲金属工件直形化提供条件。基于金属工件10与磁体组件200之间的距离越小，相互作用力越大的原因，所述第二支撑板310的厚度优选为不大于1mm，进而使得第二支撑板310对所述磁体组件200产生的磁力影响最小。当然，在其他实施例中，本领域技术人员可以根据实际的情况对第二支撑板310的厚度以及材质进行选择。

更佳的，如图1所示，所述喷砂装置还包括导磁压块500，所述导磁压块 500采用导磁材料制成，所述导磁压块500受所述磁体组件200的磁力吸附，进而使得所述导磁压块500和磁体组件200能够用于固定所述金属工件10的位置。在本实施例中，所述磁体组件200上设置一第二支撑板310，所述第二支撑板 310上设置一第一支撑板300，当喷砂时，所述金属工件10被配置在所述第一支撑板300上，采用所述导磁压块500能够固定所述金属工件10的位置，进一步防止由于喷砂压力过大，导致金属工件10发生移位的情况。所述导磁压块500优选为两个，进而可以对金属工件10的两端进行固定。所述导磁压块500的形状例如优选底部为一平整面的压块，使得所述导磁压块500能够平稳的压制金属工件10。当然，所述导磁压块500的数量还可以是一个或者三个等，所述导磁压块500的形状不予限制，可以其他的形状亦可。进一步的，所述导磁压块 500与所述金属工件10接触的面还可以设置一塑料膜，进而使得设置有塑料膜的导磁压块500避免与金属工件10直接接触，避免产生划痕。所述导磁压块500 的设置，移动和操作方便，并且进一步固定了金属工件10的位置。

优选的，如图1至图5所示，所述喷砂装置还包括喷枪夹持机构400，所述喷枪夹持机构400用于夹持一喷枪，可以固定和控制喷枪的位置，使得所述喷枪能够朝向所述金属工件10喷砂。所述喷枪夹持机构400优选包括喷枪夹420 以及支撑架410，所述喷枪夹420与所述支撑架410连接并围绕所述支撑架420 的轴向可转动。所述喷枪夹420例如优选一万向转动肘夹，从而实现喷枪的多方位的喷砂，本领域技术人员还可以选用其他类型的夹子，用于夹持固定一喷枪。所述喷枪夹420设置于所述磁体组件200吸附所述金属工件10的一侧，进而使得所述喷枪能够朝向金属工件10喷砂。所述支撑架410例如优选包括第一支撑杆411以及第二支撑杆412，所述第二支撑杆412可升降地设置于所述第一支撑杆411，所述第一支撑杆411与所述第二支撑杆412优选垂直设置，所述第二支撑杆412与所述磁体组件200的平面平行，所述第二支撑杆412与所述喷枪夹420连接，进而使得所述喷枪夹420设置于磁体组件200的一侧。进一步的，所述第二支撑杆412可移动的连接于所述第一支撑杆411，进而使得与所述第二支撑杆412连接的喷枪夹420能够沿第一支撑杆411的方向移动，进而能够控制喷枪距离所述磁体组件200的距离，进而能够控制所述喷枪的喷砂距离以及喷砂压力等。优选的，所述第一支撑杆411可以为一导磁材料，使得所述第一支撑杆411能够与一喷砂室中的磁铁的磁力吸附固定，当然，所述第一支撑杆411还可以直接焊接固定于一喷砂室中，或者其他的连接方式固定在喷砂室中。所述第一支撑杆411与第二支撑杆412不限位为垂直的方向，本领域技术人员根据实际情况进行设置。在其他实施例中，所述支撑架410还可以是其他方式的支架，例如吊装或者机械臂等。

优选的，如图1至图5所示，所述底座100包括升降组件110以及第三支撑板(未示出)。所述磁体组件200设置于所述第三支撑板上，所述升降组件 110与所述第三支撑板连接，用于调节所述第三支撑板的升降。所述第三支撑板为所述升降组件110连接磁体组件200提供平台。所述升降组件110的设置可以调节所述磁体组件200的高度，当一喷枪高度固定时，所述升降组件110能够通过调节喷砂距离进而调节喷砂压力等。所述升降组件110设置于远离所述磁体组件200吸附所述金属工件10的一侧，所述升降组件110例如优选为螺旋支杆，所述螺旋支杆设置有一丝杆，可通过旋转和固定丝杆进而调节磁体组件 200的高度。当然，所述升降组件110还可以是其他的能够控制磁体组件200升降的结构，例如是一气缸升降装置，或者是液压升降装置，还可以是滑轮提升装置等。

所述喷砂装置还包括平移组件120，所述平移组件120与所述底座100连接，用于调节所述磁体组件200的水平移动。优选的，所述平移组件120包括滑轨 121以及滑轮122。所述滑轨121例如优选是一定向滑轨，采用金属材料制作，当然，所述滑轨121还可以采用硬度高的耐磨材料制成。在安装时，可以将滑轨121安装固定在一喷砂室的地面上，用于所述滑轮122进行定向直线运动和往复运动。为了提高滑轮122的耐磨性，所述滑轮122优选采用聚四氟乙烯材料制成。所述滑轮122优选采用万向转动轮。由于在喷砂室中，所述滑轨121 上会经常被颗粒状的污染物影响，导致滑轮122在滑轨121中被卡住而无法移动，更佳的，所述滑轮122采用无轴承的滑轮，进而减少颗粒状污染物进入滑轮122的内部，减少卡轮以及滑轮122被损坏的影响。作为优选，所述滑轮122 具有一圈卡槽结构，所述滑轨121具有一凸起结构，所述卡槽结构与所述凸起结构相匹配，进而使得滑轮122能够在定向滑轨上滚动不被卡住。其在滑轨121 上往复运行，使得喷枪可以对金属工件10的喷砂位置可控，进而实现喷枪对金属工件10每个位置均匀喷砂的效果。当然，所述平移组件120还可以是能够使磁体组件平移的液压装置、气压装置或者平移带等。在本实施例中，所述滑轮 122与所述底座100连接，具体是，所述滑轮122设置于所述螺旋支杆的一端上，并与所述滑轨121滑动连接。所述螺旋支杆的另一端与所述磁体组件200连接。如此设置，所述磁体组件200可以进行平移运动，使得喷砂时金属工件10的位移和速度可控，进而可以控制喷砂时间。所述磁体组件200还能够进行升降，使得喷砂距离可控，进而使得喷砂压力可控。所述喷枪夹持机构400夹持喷枪，使得喷枪能够进行角度转动，进而使得喷砂角度可控，进一步的控制喷砂压力。并且，所述喷枪夹持机构400、升降组件110以及平移组件120的设置，使得金属工件10喷砂时更加方便。

综上所述，在本实用新型提供的一种喷砂装置中，所述喷砂装置用于对金属工件进行喷砂，所述喷砂装置包括：底座、磁体组件以及第一支撑板；所述磁体组件设置于所述底座上，所述第一支撑板覆盖于所述磁体组件上，所述磁体组件用于吸附位于所述第一支撑板上的所述金属工件。当喷枪对所述金属工件喷砂时，由于金属工件被所述磁体组件吸附，不会发生移位，使得金属工件芯轴位置可控，进而为调控喷砂距离提供条件，使得表面粗糙度可控保证喷砂的均匀性，进而为保证一致的喷砂效果提供条件。当金属工件的一面被喷砂之后，翻转金属工件至另一面进行喷砂，实现多次多面喷砂，使得金属工件表面能够被充分喷砂，不易漏喷砂。并且，所述喷砂装置结构简单、操作便捷、生产效率高。

上述描述仅是对本实用新型较佳实施例的描述，并非对本实用新型范围的任何限定，本实用新型领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。

Claims (10)

1.一种喷砂装置，用于对金属工件进行喷砂，其特征在于，包括：底座、磁体组件以及第一支撑板；所述磁体组件设置于所述底座上，所述第一支撑板覆盖于所述磁体组件上，所述磁体组件用于吸附位于所述第一支撑板上的所述金属工件。

2.根据权利要求1所述的喷砂装置，其特征在于，所述磁体组件包括至少两个永磁铁以及导磁金属块，所述永磁铁与所述导磁金属块间隔布置，至少两个所述永磁铁的磁极方向排布一致。

3.根据权利要求1所述的喷砂装置，其特征在于，所述喷砂装置还包括第二支撑板，所述第二支撑板设置于所述磁体组件与所述第一支撑板之间。

4.根据权利要求3所述的喷砂装置，其特征在于，所述第一支撑板的厚度不大于1mm，所述第二支撑板的厚度不大于1mm。

5.根据权利要求3所述的喷砂装置，其特征在于，所述第一支撑板为硅胶板，所述第二支撑板为金属板。

6.根据权利要求1所述的喷砂装置，其特征在于，所述喷砂装置还包括导磁压块，所述导磁压块受所述磁体组件的磁力吸附，用于固定所述金属工件的位置。

7.根据权利要求1所述的喷砂装置，其特征在于，所述喷砂装置还包括喷枪夹持机构，所述喷枪夹持机构用于夹持一喷枪；所述喷枪夹持机构包括喷枪夹以及支撑架，所述喷枪夹与所述支撑架连接并围绕所述支撑架的轴向可转动。

8.根据权利要求7所述的喷砂装置，其特征在于，所述支撑架包括第一支撑杆以及第二支撑杆，所述第二支撑杆可升降地设置于所述第一支撑杆，所述喷枪夹与所述第二支撑杆连接。

9.根据权利要求1所述的喷砂装置，其特征在于，所述底座包括第三支撑板和升降组件；所述磁体组件设置于所述第三支撑板上，所述升降组件与所述第三支撑板连接，用于调节所述第三支撑板的升降，所述升降组件包括螺旋支杆。

10.根据权利要求1所述的喷砂装置，其特征在于，所述喷砂装置还包括平移组件，所述平移组件包括滑轨以及滑轮，所述滑轮与所述底座连接，并与所述滑轨滑动连接，所述滑轮采用无轴承滑轮。

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