CN215240062U - 多站式抛光装置 - Google Patents

Abstract

一种多站式抛光装置，具有一旋转台，旋转台上设有数个工作台机构，各工作台机构分别具有一基座，基座上滑设有可朝一X轴向滑移的X轴滑座，X轴滑座上滑设有可朝一Y轴向滑移的Y轴滑座，而Y轴滑座上滑设有可再朝Y轴向滑移的微调滑座，微调滑座设有可供夹持定位工件的工件治具，并在旋转台的周围环设有数个立柱，各立柱分别对应于每一工作台机构的位置，且各立柱上分别滑设有可朝一Z轴向滑移的Z轴滑座，并在Z轴滑座上设有可对工件进行抛光加工的抛光机构。本实用新型可应用在各种不同形状的抛光面加工，且具有极佳的加工稳定性，并更具有可针对工件本身的尺寸误差、或是工件加工位置误差，进行额外误差补偿的功效。

Description

多站式抛光装置

技术领域

本实用新型与研磨抛光设备有关，特别是指一种多站式抛光装置。

背景技术

研磨抛光在目前工业中是常见的工件表面加工程序，而为了提升加工效率、及避免反复拆装工件造成的加工误差，因此市面上有许多标榜可进行自动化与多站连续加工的抛光设备。

如中国第CN112139817号专利案所揭露的自动抛光设备，主要是在一旋转台上布设有多个可供定位工件的工作台机构，并在旋转台的周侧立设有与各工作台机构位置相对应的立柱，立柱上设有可朝X轴向、Y轴向及Z轴向移动的抛光机构(例如研磨轮或研磨带)，通过旋转台带动工作台机构旋转，使工作台机构上的工件可依序被每一立柱上的抛光机构进行不同程度的抛光加工，且通过抛光机构可于立柱上进行X轴向、Y轴向及Z轴向的移动，而进一步具有可对工件进行多角度研磨抛光的特点。然而，其抛光机构可朝X轴向、Y轴向及Z轴向移动的机构皆是设置在立柱上，当立柱上的抛光机构在与工件接触加工，又必须同时沿X轴向或Y轴向进行调整位移时，其设置高度较高的立柱即容易因受力过度晃动，而造成其加工稳定性不佳，且位于其工作台机构上的工件仅能单纯的进行旋转动作，因此工件可抛光面的位置仍会受限，无法因应所有形状的工件。

另如中国第202640109号专利案以及中国第107685275号专利案所揭露的自动抛光设备，其工作台机构上的工件亦仅能进行旋转动作，因此同样有工件可抛光面容易受到限制的缺点。

此外，在实际进行抛光加工的过程中，经常因工件本身所存在的尺寸误差，或是在夹持定位工件后所产生的加工位置误差，造成其加工后品质不一的问题，尤其是在精度要求较高的精密加工场合，更会凸显此一问题的严重性，然而前述三件专利前案皆不具有可额外提供误差补偿的机构，而无法解决此一问题。

有鉴于此，故如何解决上述问题，即为本实用新型的首要课题。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种多站式抛光装置，其结构配置合理，可应用在各种不同形状的抛光面加工，且具有极佳的加工稳定性，并更具有可针对工件本身的尺寸误差、或是工件加工位置误差，进行额外误差补偿的功效。

为达前述的目的，本实用新型提供一种多站式抛光装置，包括有：

一旋转台，具有一朝上的工作端面，该工作端面上设有数个工作台机构，该各工作台机构可随该旋转台一起旋转，而该各工作台机构分别具有一基座，该基座上设有朝一X轴向延伸的X轴滑轨，该X轴滑轨上滑设有一X轴滑座，该X轴滑座上设有朝一Y轴向延伸的Y轴滑轨，该Y轴滑轨上滑设有一Y轴滑座，该Y轴滑座上另设有朝该Y轴向延伸的微调滑轨，且在该微调滑轨上滑设有一微调滑座，该微调滑座上设有一旋转轴，该旋转轴受一驱动机构带动而转动，并在该旋转轴上设有随该旋转轴转动的工件治具；以及

数个立柱，环设于该旋转台的周围，且该各立柱分别对应于每一工作台机构的位置，该各立柱上分别滑设有可朝一Z轴向滑移的Z轴滑座，并在该Z轴滑座上设有一抛光机构。

较佳地，该基座上设有一与该X轴滑轨平行配置的第一螺杆，该第一螺杆与一第一驱动马达相接，该第一驱动马达用以带动该第一螺杆转动，该X轴滑座以其底部的螺接座与该第一螺杆相接，使该第一螺杆转动时，将相对带动该X轴滑座沿该X轴向滑移。

较佳地，该X轴滑座上设有一与该Y轴滑轨平行配置的第二螺杆，该第二螺杆与一第二驱动马达相接，该第二驱动马达用以带动该第二螺杆转动，该Y轴滑座以其底部的螺接座与该第二螺杆相接，使该第二螺杆转动时，将相对带动该Y轴滑座沿该Y轴向滑移。

较佳地，该Y轴滑座上设有一与该Y轴滑轨平行配置的第三螺杆，该第三螺杆与一第三驱动马达相接，该微调滑座以其底部的螺接座与该第三螺杆相接，使该第三螺杆转动时，将带动该微调滑座沿该Y轴向滑移。

较佳地，该微调滑座的底部接设有该驱动机构，该驱动机构具有朝该Z轴向延伸的驱动轴、及一与该驱动机构相接的第四驱动马达，该驱动轴向上穿过该微调滑座而与该工件治具相接，使该驱动机构受该第四驱动马达传动时，该驱动机构将同步带动该工件治具转动。且更进一步地，该Y轴滑座于朝向该微调滑座的一侧形成有一透空部，且该驱动机构经该透空部而相对容设于该微调滑座与该X轴滑座之间。

本实用新型的优点在于：

本实用新型提供的多站式抛光装置，其结构配置合理，可应用在各种不同形状的抛光面加工，且具有极佳的加工稳定性，并更具有可针对工件本身的尺寸误差、或是工件加工位置误差，进行额外误差补偿的功效。

而本实用新型的上述目的与优点，不难从下述所选用实施例的详细说明与附图中获得深入了解。

附图说明

图1为本实用新型的组成结构示意图。

图2为本实用新型工作台机构的分解示意图。

图3为本实用新型工作台机构的立体外观示意图。

图4为本实用新型工作台机构的前侧结构示意图。

图5为本实用新型工作台机构另一视角的立体外观示意图。

图6为本实用新型工作台机构的使用状态示意图。

具体实施方式

首先，请参阅图1～4所示，为本实用新型所提供多站式抛光装置的较佳实施例，其主要是于一平台11上设有一旋转台21，并于该平台11上设有数个环绕于该旋转台21周围的立柱41，其中：

该旋转台21，可受一传动装置(图中未示)带动而相对该平台11旋转，该旋转台21具有一朝上的工作端面22，该工作端面22上设有数个呈等角度配置的工作台机构31，该各工作台机构31可随该旋转台21一起旋转。

该各工作台机构31分别具有一用以组设于该工作端面22上的基座32，该基座32上设有朝一X轴向延伸的X轴滑轨321、及一与该X轴滑轨321平行配置的第一螺杆322，该第一螺杆322与一第一驱动马达323相接，该第一驱动马达323用以带动该第一螺杆322转动，并于该X轴滑轨321上滑设有一X轴滑座33，该X轴滑座33以其底部的螺接座331与该第一螺杆322相接，使该第一螺杆322转动时，将相对带动该X轴滑座33沿该X轴向滑移。

而在该X轴滑座33上设有朝一Y轴向延伸的Y轴滑轨332、及一与该Y轴滑轨332平行配置的第二螺杆333，该第二螺杆333与一第二驱动马达334相接，该第二驱动马达334用以带动该第二螺杆333转动，并于该Y轴滑轨332上滑设有一Y轴滑座34，该Y轴滑座34以其底部的螺接座341与该第二螺杆333相接，使该第二螺杆333转动时，将相对带动该Y轴滑座34沿该Y轴向滑移。

且进一步地，在该Y轴滑座34上另设有朝该Y轴向延伸的微调滑轨342、及一与该Y轴滑轨342平行配置的第三螺杆343，该第三螺杆343与一第三驱动马达344相接，并于该微调滑轨342上滑设有一微调滑座35，该微调滑座35以其底部的螺接座351与该第三螺杆343相接，使该第三螺杆343转动时，将可再带动该微调滑座35沿该Y轴向滑移，并于该微调滑座35的底部接设有一驱动机构36，该驱动机构36具有朝一Z轴向延伸的驱动轴361、及一与该驱动机构36相接的第四驱动马达362，该驱动轴361向上穿过该微调滑座35而与一工件治具37相接，该工件治具37用以夹持定位一工件38，使该驱动机构36受该第四驱动马达362传动时，该驱动机构36将同步带动该工件治具37及其工件38一起转动。而于本实施例中，搭配参阅图2、4所示，该Y轴滑座34于朝向该微调滑座35的一侧挖空形成有一透空部345，且该驱动机构36经该透空部345而相对容设于该微调滑座35与该X轴滑座33之间，并借此以紧缩各组成构件间的配置空间，而可有效缩小工作台机构31的组成体积。

而该各立柱41环设于该旋转台21的周围，该各立柱41分别被配置对应于每一工作台机构31的位置，且该各立柱41上分别设有朝该Z轴向延伸的Z轴滑轨411，该Z轴滑轨411上滑设有可朝该Z轴向滑移的Z轴滑座412，并在该Z轴滑座412上设有一抛光机构43，该抛光机构43的研磨单元可由研磨轮或研磨带构成，本实用新型于此并不限制其研磨单元的种类，通过该旋转台21带动该工作台机构31旋转，即可使该工作台机构31上的工件38可依序被每一立柱41上的抛光机构43进行抛光加工，进而达成可自动化及多站连续加工的功能。

接着请继续搭配参阅图3，通过上述结构组成的本实用新型于实际使用上，使用者仅须通过控制各驱动马达(例如通过CNC数控系统控制)，即可带动该工作台机构31上的工件38进行X轴向与Y轴向的调整位移，并通过其与工件治具37转动方位与相对应抛光机构43的搭配，即可完成多角度研磨抛光的工作，而可应用在各种不同形状的抛光面加工；且进一步地，本实用新型通过将X轴向与Y轴向的位移机构设置在该工作台机构31上，更可有效改善抛光机构43于加工时，容易产生振动的问题，进而确保本实用新型的加工稳定性。

此外，如图5所示，本实用新型通过在该Y轴滑座34上更额外搭设有该微调滑座35，因此更可进一步通过数控方式，针对工件本身的尺寸误差、或是该工件治具37于夹持工件38后所造成的位置误差，进行Y轴向的位移微调，使本实用新型所提供的多站式抛光装置额外具有误差补偿的功能，进而即可因应各种的误差情况来进行误差补偿，而额外具有可确保其加工品质的功效。

以上各实施例的揭示仅用以说明本实用新型，并非用以限制本实用新型，故举凡数值的变更或等效元件的置换仍应隶属本实用新型的范畴。

综上所述，当可使本领域技术人员明了本实用新型确可达成前述目的，实已符合专利法的规定，故依法提出申请。

Claims (6)

1.一种多站式抛光装置，其特征在于，包括有：

一旋转台，具有一朝上的工作端面，该工作端面上设有数个工作台机构，该各工作台机构可随该旋转台一起旋转，而该各工作台机构分别具有一基座，该基座上设有朝一X轴向延伸的X轴滑轨，该X轴滑轨上滑设有一X轴滑座，该X轴滑座上设有朝一Y轴向延伸的Y轴滑轨，该Y轴滑轨上滑设有一Y轴滑座，该Y轴滑座上另设有朝该Y轴向延伸的微调滑轨，且在该微调滑轨上滑设有一微调滑座，该微调滑座上设有一旋转轴，该旋转轴受一驱动机构带动而转动，并在该旋转轴上设有随该旋转轴转动的工件治具；以及

数个立柱，环设于该旋转台的周围，且该各立柱分别对应于每一工作台机构的位置，该各立柱上分别滑设有可朝一Z轴向滑移的Z轴滑座，并在该Z轴滑座上设有一抛光机构。

2.如权利要求1所述的多站式抛光装置，其特征在于，该基座上设有一与该X轴滑轨平行配置的第一螺杆，该第一螺杆与一第一驱动马达相接，该第一驱动马达用以带动该第一螺杆转动，该X轴滑座以其底部的螺接座与该第一螺杆相接，使该第一螺杆转动时，将相对带动该X轴滑座沿该X轴向滑移。

3.如权利要求1所述的多站式抛光装置，其特征在于，该X轴滑座上设有一与该Y轴滑轨平行配置的第二螺杆，该第二螺杆与一第二驱动马达相接，该第二驱动马达用以带动该第二螺杆转动，该Y轴滑座以其底部的螺接座与该第二螺杆相接，使该第二螺杆转动时，将相对带动该Y轴滑座沿该Y轴向滑移。

4.如权利要求1所述的多站式抛光装置，其特征在于，该Y轴滑座上设有一与该Y轴滑轨平行配置的第三螺杆，该第三螺杆与一第三驱动马达相接，该微调滑座以其底部的螺接座与该第三螺杆相接，使该第三螺杆转动时，将带动该微调滑座沿该Y轴向滑移。

5.如权利要求1所述的多站式抛光装置，其特征在于，该微调滑座的底部接设有该驱动机构，该驱动机构具有朝该Z轴向延伸的驱动轴、及一与该驱动机构相接的第四驱动马达，该驱动轴向上穿过该微调滑座而与该工件治具相接，使该驱动机构受该第四驱动马达传动时，该驱动机构将同步带动该工件治具转动。

6.如权利要求5所述的多站式抛光装置，其特征在于，该Y轴滑座于朝向该微调滑座的一侧形成有一透空部，且该驱动机构经该透空部而相对容设于该微调滑座与该X轴滑座之间。

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