CN215016835U - 触发组件及表面清洁设备 - Google Patents

Abstract

本公开提供一种触发组件，其包括：支撑部，所述支撑部设置有容置空间；以及触发部，所述触发部设置于所述支撑部的容置空间内，并能够相对于所述支撑部运动；其中，所述触发部包括触发点，所述触发部的触发点位于所述支撑部的上平面的下方。本公开还提供一种表面清洁装置。

Description

触发组件及表面清洁设备

技术领域

本公开涉及一种触发组件及表面清洁设备。

背景技术

当今的表面清洁装置用于湿清洁硬地板或短毛地毯。该表面清洁装置通常具有一个或多个由毛织材料制成的滚刷或清洁盘，它们可以通过添加水或水/清洁剂混合物来擦洗地板上的顽固污垢。当机器在污垢上移动时，已经被滚刷擦掉并被水或水/洗涤剂混合物溶解的污垢用沿滚刷运动方向排列的清洁头吸起，在设置清洁盘的技术中，可以不设置清洁头，污垢直接被清洁盘上的清洁材料吸附。

但是，顽固的污渍通常难以清理，奶渍、果汁和酱汁等，散落在地板表面，蒸发水分后，则会在清洁表面形成难以祛除的顽固污渍。通常，在擦洗过程中，并非所有这些顽固的污垢都可以通过吸尘来清除，因此其中一些残留在地板上，从而降低了清洁质量。

现有的表面清洁装置，无论是自主移动式清洁装置还是手持式清洁装置，由于其结构和体积的天然限制，自身携带的清水箱体积有限。在清洁大面积的情况，特别是带有上述的污渍时候，需要频繁更换清水，续航较短，这带来了体验上的下降。

考虑到续航以及续水的问题，减少表面清洁装置自身的能量损耗，将该能量损耗转移到基站是合理的解决方法，即设置补水基站，并且基站上设置蓄水箱，并且设置对该蓄水箱内的水进行加热，将水加热至适合清理顽固污渍的温度并保持。

此时，当表面清洁装置回到基站，表面清洁装置手柄上的补水按键可以在用户指示下被触发，从而实现自动补水，然后继续用热水清扫。另外，表面清洁装置手柄上的开关按键可以在用户指示下被触发，从而实现在基站上自清洁。

但是，热水清洁相关操作，尤其是基站补充热水以及自清洁操作的按键如果被容易触发，则用户存在一定几率误触，会造成安全隐患。

实用新型内容

为了解决上述技术问题之一，本公开提供了一种触发组件及表面清洁设备。

根据本公开的一个方面，提供了一种触发组件，其包括：

支撑部，所述支撑部设置有容置空间；以及

触发部，所述触发部设置于所述支撑部的容置空间内，并能够相对于所述支撑部运动；

其中，所述触发部包括触发点，所述触发部的触发点位于所述支撑部的上平面的下方。

根据本公开的至少一个实施方式的触发组件，当所述触发部设置于所述容置空间内时，所述支撑部至少部分地环绕所述触发部。

根据本公开的至少一个实施方式的触发组件，当采用不小于40mm直径的圆球体接触该触发组件时，所述支撑部支撑所述圆球体，以使得所述圆球体不能触发所述触发部的触发点。

根据本公开的至少一个实施方式的触发组件，所述触发部的上表面形成为凹陷表面，所述触发点位于所述凹陷表面的最低点。

根据本公开的至少一个实施方式的触发组件，所述凹陷表面包括圆弧面，所述圆弧面的直径小于40mm。

根据本公开的至少一个实施方式的触发组件，所述触发部的外表面设置有导向件，所述支撑部形成有导向槽，并通过所述导向件和导向槽的配合，使得所述支撑部对所述触发部的运动进行导向。

根据本公开的至少一个实施方式的触发组件，所述支撑部形成有导向件，所述触发部形成有导向槽，并通过所述导向件和导向槽的配合，使得所述支撑部对所述触发部的运动进行导向。

根据本公开的至少一个实施方式的触发组件，还包括：

触发开关，所述触发部触发所述触发开关，以形成触发信号。

根据本公开的至少一个实施方式的触发组件，所述触发开关固定于所述支撑部，以当所述触发部接近所述触发开关时，触发该触发开关。

根据本公开的另一方面，提供一种表面清洁设备，其包括上述的触发组件。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，还包括：

手柄，通过操作所述手柄以操作表面清洁设备。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述支撑部形成为所述手柄的一部分。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，通过将所述支撑部设置于所述手柄，将所述触发组件设置于所述手柄。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，还包括：

密封件，所述密封件设置于所述支撑部和手柄之间。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述密封件形成有凹陷部，所述触发组件的触发开关的触发件设置于所述密封件的凹陷部内，所述触发部向接近所述触发开关的位置运动时，所述触发部带动所述密封件的凹陷部运动，并通过所述密封件的凹陷部触发所述触发件。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述触发部包括：

第一触发部，当所述第一触发部被触发时，发送第一触发信号至表面清洁设备的控制器，以根据所述第一触发信号使得外部补水基站与所述表面清洁设备的清洁液体存储部进行流体交互；以及

第二触发部，当所述第二触发部被触发时，发送第二触发信号至表面清洁设备的控制器，以根据第二触发信号改变表面清洁设备的工作模式；

其中，所述第一触发部和第二触发部之间的距离大于预设值。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述手柄包括：

手持部，通过操作所述手持部操作所述手柄；

其中，所述第一触发部位于所述手持部的一端，所述第二触发部位于所述手持部的另一端。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述手柄还包括：

第一折弯部，所述第一折弯部形成于所述手持部的一端；以及

第二折弯部，所述第二折弯部形成于所述手持部的另一端；

其中，所述第一触发部位于所述第一折弯部，所述第二触发部位于所述第二折弯部。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，还包括：

第三触发部，当所述第三触发部被触发时，发送第三触发信号至表面清洁设备的控制器，以根据所述第三触发信号控制表面清洁设备开关机；

其中，所述第三触发部与所述第一触发部之间的距离大于预设值。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，还包括：

第四触发部，当所述第四触发部被触发时，发送第四触发信号至表面清洁设备的控制器，以根据所述第四触发信号控制表面清洁设备自清洁；

其中，所述第四触发部邻近所述第一触发部设置。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述第三触发部和第二触发部设置于同一个支撑部。

根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备，所述第四触发部和第一触发部设置于同一个支撑部。

附图说明

附图示出了本公开的示例性实施方式，并与其说明一起用于解释本公开的原理，其中包括了这些附图以提供对本公开的进一步理解，并且附图包括在本说明书中并构成本说明书的一部分。

图1是根据本公开的一个实施方式的触发组件的结构示意图。

图2是根据本公开的一个实施方式的触发组件的结构示意图(去除支撑部)。

图3是根据本公开的一个实施方式的触发组件的剖视结构示意图。

图4是根据本公开的一个实施方式的触发组件安装于手柄的结构示意图。

图5是根据本公开的一个实施方式的表面清洁设备的结构示意图。

图6是图5的A部放大图。

图中附图标记具体为：

100触发组件

110支撑部

120触发部

121导向件

130触发开关

200表面清洁设备

210手柄

211手持部

212第一折弯部

213第二折弯部

220密封件。

具体实施方式

下面结合附图和实施方式对本公开作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于解释相关内容，而非对本公开的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本公开相关的部分。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本公开中的实施方式及实施方式中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施方式来详细说明本公开的技术方案。

除非另有说明，否则示出的示例性实施方式/实施例将被理解为提供可以在实践中实施本公开的技术构思的一些方式的各种细节的示例性特征。因此，除非另有说明，否则在不脱离本公开的技术构思的情况下，各种实施方式/实施例的特征可以另外地组合、分离、互换和/或重新布置。

在附图中使用交叉影线和/或阴影通常用于使相邻部件之间的边界变得清晰。如此，除非说明，否则交叉影线或阴影的存在与否均不传达或表示对部件的具体材料、材料性质、尺寸、比例、示出的部件之间的共性和/或部件的任何其它特性、属性、性质等的任何偏好或者要求。此外，在附图中，为了清楚和/或描述性的目的，可以夸大部件的尺寸和相对尺寸。当可以不同地实施示例性实施例时，可以以不同于所描述的顺序来执行具体的工艺顺序。例如，可以基本同时执行或者以与所描述的顺序相反的顺序执行两个连续描述的工艺。此外，同样的附图标记表示同样的部件。

当一个部件被称作“在”另一部件“上”或“之上”、“连接到”或“结合到”另一部件时，该部件可以直接在所述另一部件上、直接连接到或直接结合到所述另一部件，或者可以存在中间部件。然而，当部件被称作“直接在”另一部件“上”、“直接连接到”或“直接结合到”另一部件时，不存在中间部件。为此，术语“连接”可以指物理连接、电气连接等，并且具有或不具有中间部件。

为了描述性目的，本公开可使用诸如“在……之下”、“在……下方”、“在……下”、“下”、“在……上方”、“上”、“在……之上”、“较高的”和“侧(例如，如在“侧壁”中)”等的空间相对术语，从而来描述如附图中示出的一个部件与另一(其它)部件的关系。除了附图中描绘的方位之外，空间相对术语还意图包含设备在使用、操作和/或制造中的不同方位。例如，如果附图中的设备被翻转，则被描述为“在”其它部件或特征“下方”或“之下”的部件将随后被定位为“在”所述其它部件或特征“上方”。因此，示例性术语“在……下方”可以包含“上方”和“下方”两种方位。此外，设备可被另外定位(例如，旋转90度或者在其它方位处)，如此，相应地解释这里使用的空间相对描述语。

这里使用的术语是为了描述具体实施例的目的，而不意图是限制性的。如这里所使用的，除非上下文另外清楚地指出，否则单数形式“一个(种、者)”和“所述(该)”也意图包括复数形式。此外，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”以及它们的变型时，说明存在所陈述的特征、整体、步骤、操作、部件、组件和/或它们的组，但不排除存在或附加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、部件、组件和/或它们的组。还要注意的是，如这里使用的，术语“基本上”、“大约”和其它类似的术语被用作近似术语而不用作程度术语，如此，它们被用来解释本领域普通技术人员将认识到的测量值、计算值和/或提供的值的固有偏差。

图1是根据本公开的一个实施方式的触发组件的结构示意图。图2是根据本公开的一个实施方式的触发组件的结构示意图(去除支撑部)。

如图1和图2所示，本公开提供一种触发组件100，其包括：

支撑部110，所述支撑部110设置有容置空间；以及

触发部120，所述触发部120设置于所述支撑部110的容置空间内，并能够相对于所述支撑部110运动；

其中，所述触发部120包括触发点，所述触发部120的触发点位于所述支撑部110的上平面的下方。

此时，考虑到所述触发部120的设置位置，当采用不小于40mm直径的圆球体接触该触发组件100时，所述支撑部110支撑所述圆球体，以使得所述圆球体不能触发所述触发部120的触发点，由此提高了整个表面清洁设备200的安全性。

在本公开的一个可选实施例中，当所述触发部120设置于所述容置空间内时，所述支撑部110至少部分地环绕所述触发部120。

本公开中，所述支撑部110的容置空间内可以设置至少一个触发部120，例如本公开中，每个所述支撑部110的容置空间内设置有两个触发部120。

图3是根据本公开的一个实施方式的触发组件的剖视结构示意图。

根据本公开至少一个实施方式，如图3所示，当采用不小于40mm直径的圆球体接触该触发组件100时，所述支撑部110支撑所述圆球体，以使得所述圆球体不能触发所述触发部120的触发点。

更优选地，如图2所示，所述触发部120的上表面形成为凹陷表面，所述触发点位于所述凹陷表面的最低点，以此能够有效地防止所述触发点被轻易触发。

在本公开的一个可选实施例中，所述凹陷表面包括圆弧面，所述圆弧面的直径小于40mm；当然，所述凹陷表面也可以形成为其他的曲面形式，在此并不对该凹陷表面的结构进行限定。

根据本公开至少一个实施方式，所述触发部120的外表面设置有导向件121，所述支撑部110形成有导向槽，并通过所述导向件121和导向槽的配合，使得所述支撑部110对所述触发部120的运动进行导向。

另一方面，所述支撑部110形成有导向件(图中未示出)，所述触发部120形成有导向槽(图中未示出)，并通过所述导向件和导向槽的配合，使得所述支撑部110对所述触发部120的运动进行导向。

本公开中，所述触发部120可以沿所述支撑部110的容置空间的深度方向运动，也就是说，所述触发部120可以上下运动。

图4是根据本公开的一个实施方式的触发组件安装于手柄的结构示意图。

根据本公开至少一个实施方式，如图4所示，所述的触发组件100还包括：

触发开关130，所述触发部120触发所述触发开关130，以形成触发信号。

其中，所述触发开关130位于所述触发部120的下方，此时所述触发部120具有第一位置和第二位置，当所述触发部120位于第一位置时，所述触发部120与所述触发开关130之间间隔预设距离，当所述触发部120位于第二位置时，所述触发部120与所述触发开关130直接或者间接接触，以此触发所述触发开关130。

本公开中，优选地，所述触发开关130固定于所述支撑部110，以当所述触发部120接近所述触发开关130时，触发该触发开关130。

图5是根据本公开的一个实施方式的表面清洁设备的结构示意图。图6是图5的A部放大图。

根据本公开的另一方面，如图5和图6所示，提供一种表面清洁设备200，其包括上述的触发组件100。

在本公开的一个可选实施例中，所述的表面清洁设备200还包括：

手柄210，通过操作所述手柄210以操作表面清洁设备200，也即是说，当用户使用该表面清洁设备200时，通过操作所述手柄210，使得所述表面清洁设备200与待清洁的表面倾斜一定的角度，并由此使得所述表面清洁设备200处于工作状态，以清洁待清洁的表面。

作为一种实现形式，所述支撑部110形成为所述手柄210的一部分，例如，所述手柄210包括手柄上壳和手柄下壳，所述触发部120直接设置于所述手柄上壳。

作为另一种实现形式，通过将所述支撑部110设置于所述手柄210，将所述触发组件100设置于所述手柄210；例如，所述手柄210的手柄上壳上形成有容置空间，所述支撑部110设置于所述手柄210的容置空间内，并且可以固定于所述手柄210。

更优选地，所述的表面清洁设备200还包括：

密封件220，所述密封件220设置于所述支撑部110和手柄210之间，以使得水分不能通过所述触发部120、支撑部110、手柄210之间的空隙进入所述手柄210的内部。

本公开中，优选地，所述密封件220形成有凹陷部，所述触发组件100的触发开关130的触发件设置于所述密封件的凹陷部内，所述触发部120向接近所述触发开关130的位置运动时(例如，所述触发部120位于第二位置时)，所述触发部120带动所述密封件220的凹陷部运动，并通过所述密封件220的凹陷部触发所述触发件。

其中，所述触发件可以为所述触发开关130的触发端子。

本公开中，优选地，所述触发部120包括：

第一触发部，当所述第一触发部被触发时，发送第一触发信号至表面清洁设备200的控制器，以根据所述第一触发信号使得外部补水基站与所述表面清洁设备200的清洁液体存储部进行流体交互；以及

第二触发部，当所述第二触发部被触发时，发送第二触发信号至表面清洁设备200的控制器，以根据第二触发信号改变表面清洁设备200的工作模式；

其中，所述第一触发部和第二触发部之间的距离大于预设值。

也就是说，所述第一触发部为表面清洁设备的加水按键，所述第二触发部为表面清洁设备的工作模式切换按键。

本公开中，当通过向下按压所述第一触发部时，通过流经所述触发开关130的电流判断所述第一触发部所对应的触发开关是否被触发；当所述触发开关130被触发时，控制器根据给水控制逻辑，控制外部补水基站向所述表面清洁设备200的清洁液体存储部补水，或者将表面清洁设备200的清洁液体存储部内的水抽回外部补水基站。

相似地，当通过向下按压所述第二触发部时，通过流经所述触发开关130的电流判断所述第一触发部所对应的触发开关是否被触发；当所述触发开关130被触发时，控制器根据动力源控制逻辑，控制动力源向所述表面清洁设备200提供的电力，以使得表面清洁设备处于不同的工作模式。

在本公开的一个可选实施例中，如图6所示，所述手柄210包括：

手持部211，通过操作所述手持部211操作所述手柄210；

其中，所述第一触发部位于所述手持部211的一端，所述第二触发部位于所述手持部211的另一端。

换句话说，当用户操作所述手柄210使得所述表面清洁设备200处于工作状态时，所述第一触发部接近所述用户设置(设置于表面清洁设备200的后部)，所述第二触发部远离所述用户设置(设置于表面清洁设备200的前部)。

更优选地，所述手柄210还包括：

第一折弯部212，所述第一折弯部212形成于所述手持部211的一端；以及

第二折弯部213，所述第二折弯部213形成于所述手持部211的另一端；

其中，所述第一触发部位于所述第一折弯部212，所述第二触发部位于所述第二折弯部213。

以此，用户在使用该表面清洁设备200时，能够方便地操作触发部120。

本公开中，所述的表面清洁设备200还包括：

第三触发部，当所述第三触发部被触发时，发送第三触发信号至表面清洁设备200的控制器，以根据所述第三触发信号控制表面清洁设备200开关机；

其中，所述第三触发部与所述第一触发部之间的距离大于预设值。

也就是说，所述第三触发部为表面清洁设备的开关机按键。

相似地，所述的表面清洁设备200还包括：

第四触发部，当所述第四触发部被触发时，发送第四触发信号至表面清洁设备200的控制器，以根据所述第四触发信号控制表面清洁设备200自清洁；

其中，所述第四触发部邻近所述第一触发部设置。

也就是说，所述第四触发部为表面清洁设备的自清洁按键。

根据本公开至少一个实施方式，如图4所示，所述第三触发部和第二触发部设置于同一个支撑部110；和/或，所述第四触发部和第一触发部设置于同一个支撑部110。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例/方式”、“一些实施例/方式”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例/方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施例/方式或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例/方式或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例/方式或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例/方式或示例以及不同实施例/方式或示例的特征进行结合和组合。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

本领域的技术人员应当理解，上述实施方式仅仅是为了清楚地说明本公开，而并非是对本公开的范围进行限定。对于所属领域的技术人员而言，在上述公开的基础上还可以做出其它变化或变型，并且这些变化或变型仍处于本公开的范围内。

Claims (22)

1.一种触发组件，其特征在于，包括：

支撑部，所述支撑部设置有容置空间；以及

触发部，所述触发部设置于所述支撑部的容置空间内，并能够相对于所述支撑部运动；

其中，所述触发部包括触发点，所述触发部的触发点位于所述支撑部的上平面的下方。

2.如权利要求1所述的触发组件，其特征在于，当所述触发部设置于所述容置空间内时，所述支撑部至少部分地环绕所述触发部。

3.如权利要求1所述的触发组件，其特征在于，当采用不小于40mm直径的圆球体接触该触发组件时，所述支撑部支撑所述圆球体，以使得所述圆球体不能触发所述触发部的触发点。

4.如权利要求3所述的触发组件，其特征在于，所述触发部的上表面形成为凹陷表面，所述触发点位于所述凹陷表面的最低点。

5.如权利要求4所述的触发组件，其特征在于，所述凹陷表面包括圆弧面，所述圆弧面的直径小于40mm。

6.如权利要求5所述的触发组件，其特征在于，所述触发部的外表面设置有导向件，所述支撑部形成有导向槽，并通过所述导向件和导向槽的配合，使得所述支撑部对所述触发部的运动进行导向。

7.如权利要求5所述的触发组件，其特征在于，所述支撑部形成有导向件，所述触发部形成有导向槽，并通过所述导向件和导向槽的配合，使得所述支撑部对所述触发部的运动进行导向。

8.如权利要求1所述的触发组件，其特征在于，还包括：

触发开关，所述触发部触发所述触发开关，以形成触发信号。

9.如权利要求8所述的触发组件，其特征在于，所述触发开关固定于所述支撑部，以当所述触发部接近所述触发开关时，触发该触发开关。

10.一种表面清洁设备，其特征在于，包括权利要求1-9之一所述的触发组件。

11.如权利要求10所述的表面清洁设备，其特征在于，还包括：

手柄，通过操作所述手柄以操作表面清洁设备。

12.如权利要求11所述的表面清洁设备，其特征在于，所述支撑部形成为所述手柄的一部分。

13.如权利要求11所述的表面清洁设备，其特征在于，通过将所述支撑部设置于所述手柄，将所述触发组件设置于所述手柄。

14.如权利要求13所述的表面清洁设备，其特征在于，还包括：

密封件，所述密封件设置于所述支撑部和手柄之间。

15.如权利要求14所述的表面清洁设备，其特征在于，所述密封件形成有凹陷部，所述触发组件的触发开关的触发件设置于所述密封件的凹陷部内，所述触发部向接近所述触发开关的位置运动时，所述触发部带动所述密封件的凹陷部运动，并通过所述密封件的凹陷部触发所述触发件。

16.如权利要求12或13所述的表面清洁设备，其特征在于，所述触发部包括：

第一触发部，当所述第一触发部被触发时，发送第一触发信号至表面清洁设备的控制器，以根据所述第一触发信号使得外部补水基站与所述表面清洁设备的清洁液体存储部进行流体交互；以及

第二触发部，当所述第二触发部被触发时，发送第二触发信号至表面清洁设备的控制器，以根据第二触发信号改变表面清洁设备的工作模式；

其中，所述第一触发部和第二触发部之间的距离大于预设值。

17.如权利要求16所述的表面清洁设备，其特征在于，所述手柄包括：

手持部，通过操作所述手持部操作所述手柄；

其中，所述第一触发部位于所述手持部的一端，所述第二触发部位于所述手持部的另一端。

18.如权利要求17所述的表面清洁设备，其特征在于，所述手柄还包括：

第一折弯部，所述第一折弯部形成于所述手持部的一端；以及

第二折弯部，所述第二折弯部形成于所述手持部的另一端；

其中，所述第一触发部位于所述第一折弯部，所述第二触发部位于所述第二折弯部。

19.如权利要求16所述的表面清洁设备，其特征在于，还包括：

第三触发部，当所述第三触发部被触发时，发送第三触发信号至表面清洁设备的控制器，以根据所述第三触发信号控制表面清洁设备开关机；

其中，所述第三触发部与所述第一触发部之间的距离大于预设值。

20.如权利要求16所述的表面清洁设备，其特征在于，还包括：

第四触发部，当所述第四触发部被触发时，发送第四触发信号至表面清洁设备的控制器，以根据所述第四触发信号控制表面清洁设备自清洁；

其中，所述第四触发部邻近所述第一触发部设置。

21.如权利要求19所述的表面清洁设备，其特征在于，所述第三触发部和第二触发部设置于同一个支撑部。

22.如权利要求20所述的表面清洁设备，其特征在于，所述第四触发部和第一触发部设置于同一个支撑部。

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