CN217510413U - 表面清洁设备 - Google Patents
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Abstract
本公开提供一种表面清洁设备,其包括:第一清洁介质存储器;第二清洁介质存储器;清洁基部;回收存储部;抽吸装置;流体分配系统,所述流体分配系统包括多个清洁介质输出口,所述清洁介质输出口中的至少一个设置在所述清洁基部上;以及控制器,所述控制器控制所述流体分配系统,以选择性地向清洁基部和/或清洁基部附近的待清洁表面提供第一清洁介质或第二清洁介质,以便表面清洁设备工作在第一泡沫清洁模式或第二泡沫清洁模式;其中,所述清洁介质输出口包括位于清洁基部的搅动器上的至少一个泡沫出口,并通过该泡沫出口选择性地输出第一泡沫或者第二泡沫。
Description
技术领域
本公开涉及一种表面清洁设备。
背景技术
现有技术中的表面清洁设备在使用时,需要完全润湿扫除的地板,为此需要对地板施加大量的清洁液。通过使坚硬的地板面湿润,清洗头容许将尘埃从地板转移到清洁液中,之后,该清洁液从坚硬的地板面被除去,并且作为被污染的清洁液而被保持在回收罐内。
湿式表面清洁器通常具备:容纳清洁溶液的供应罐;以及回收从被清洗的地板回收的污染物的回收罐;马达驱动的真空源,以形成从被清洗地板到回收罐的抽真空流道;可再充电电池,为各部件提供能量;以及基站,用于充电和清洁后维护。
人们已经做出了一些努力来进一步改进湿式表面清洁设备的清洁功能,以应对苛刻的环境。
例如,PCT/CN2022/087954描述了一种清洁设备控制方法及清洁设备,它有一个内置的热介质存储腔,通过向待清洁表面施加加热的清洁溶液以便加强地板顽固污渍的清洁能力。
由于地面的脏污粘合度不同,现有技术的坚硬的地面清洁器的清洁溶液需要较高的容积,以对规定的作业多次进行污染的清洁溶液的处理,并且进行清洗溶液的再填充,因此作业的中断时间变长。该再填充典型地包括用手将溶液罐填充,另外,为进一步提高清洁效果,增加了与清洁剂或化学药剂混合而形成清洁溶液的步骤。用手对该清洁液进行混合会花费时间,而且会导致因发泡导致的供应罐或回收罐水位探测的错误。
实用新型内容
为了解决上述技术问题之一,本公开提供了一种表面清洁设备。
根据本公开的一个方面,提供了一种表面清洁设备,其包括:
第一清洁介质存储器,所述第一清洁介质存储器具有容腔,以便存储第一清洁介质;
第二清洁介质存储器,所述第二清洁介质存储器具有容腔,以便存储第二清洁介质;
清洁基部,所述清洁基部用于接触周围环境,并且至少能够基于所述第一清洁介质存储器所提供的第一清洁介质和/或第二清洁介质存储器所提供的第二清洁介质对周围环境的待清洁表面进行清洁操作;
回收存储部,所述回收存储部用于回收和存储清洁待清洁表面后的废液;
抽吸装置,所述抽吸装置与所述回收存储部及所述清洁基部流体连通,且能够产生抽吸气流,所述回收存储部用于存储基于所述抽吸气流从所述待清洁表面回收的废液;
流体分配系统,所述流体分配系统包括多个清洁介质输出口,所述清洁介质输出口中的至少一个设置在所述清洁基部上;所述第一清洁介质存储器将其存储的第一清洁介质通过流体分配系统以第一泡沫的形式施加至清洁基部和/或施加至清洁基部的附近的待清洁表面;所述第二清洁介质存储器将其存储的第二清洁介质通过流体分配系统以第二泡沫的方式施加至清洁基部和/或施加至清洁基部附近的待清洁表面;以及
控制器,所述控制器控制所述流体分配系统,以选择性地向清洁基部和/或清洁基部附近的待清洁表面提供第一清洁介质或第二清洁介质,以便表面清洁设备工作在第一泡沫清洁模式或第二泡沫清洁模式。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备,所述清洁介质输出口包括位于清洁基部的搅动器上的至少一个泡沫出口,并通过该泡沫出口选择性地输出第一泡沫或者第二泡沫。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备,还包括:
第三清洁介质存储器,所述第三清洁介质存储器用于存储第三清洁介质,其中,所述清洁介质输出口能够将液态的形式的第三清洁介质输出至清洁基部和/或清洁基部附近的待清洁表面。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备,所述清洁介质输出口包括液体出口,所述液体出口位于清洁基部的搅动器上或者靠近搅动器设置,所述第三清洁介质存储器所存储的第三清洁介质从所述液体出口排出。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备,所述泡沫出口与所述液体出口共用一个清洁基部的搅动器上的出口。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备,所述泡沫出口与所述液体出口在搅动器上的位置不同。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备,在所述搅动器的轴向和/或周向上,所述泡沫出口和液体出口之间间隔设置。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备,所述控制器控制所述流体分配系统,以使得表面清洁设备工作在液体清洁模式或者泡沫清洁模式,其中,所述泡沫清洁模式包括第一泡沫清洁模式和第二泡沫清洁模式。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备,当表面清洁设备工作在泡沫清洁模式时,所述流体分配系统被可操作地控制,以选择性地在第一泡沫清洁模式和第二泡沫清洁模式之间转换。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备,所述流体分配系统包括第一泵组件和第二泵组件,所述第一泵组件位于泡沫出口和第一清洁介质存储器及第二清洁介质存储器之间;所述第二泵组件位于所述液体出口与所述第三清洁介质存储器之间。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备,还包括:
阀组件,所述阀组件设置于第一清洁介质存储器与第一泵组件之间,以及设置于第二清洁介质存储器与第一泵组件之间,用于选择性地将第一清洁介质或者第二清洁介质输送至第一泵组件。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备,所述控制器用于控制所述第一泵组件的开启和关闭,以及用于控制所述第二泵组件的开启和关闭。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备,所述控制器控制所述第一泵组件和第二泵组件,以使得所述第一泵组件和第二泵组件不同时开启。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备,所述第一泵组件和/或第二泵组件位于所述表面清洁设备的主体部或者清洁基部。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备,还包括:触发机构,所述触发机构能够被手动地或自动地触发,以在第一泡沫清洁模式和第二泡沫清洁模式之间转换。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备,所述回收存储部包括污水箱,所述污水箱内设置有液位检测装置,所述液位检测装置用于检测所述污水箱内的液体的液面位置。
根据本公开的至少一个实施方式的表面清洁设备,所述液位检测装置包括浮子,所述浮子漂浮于所述污水箱的液体,并根据所述浮子的位置获得污水箱的液体的液面位置。
附图说明
附图示出了本公开的示例性实施方式,并与其说明一起用于解释本公开的原理,其中包括了这些附图以提供对本公开的进一步理解,并且附图包括在本说明书中并构成本说明书的一部分。
图1是根据本公开的一个实施方式的表面清洁设备的结构示意图。
图2是根据本公开的一个实施方式的表面清洁设备删除部分结构后的结构示意图。
图3和图4是根据本公开的一个实施方式的表面清洁设备的把手部的结构示意图。
图5是根据本公开的一个实施方式的表面清洁设备的清洁基部的结构示意图。
图6是根据本公开的一个实施方式的清洁基部的搅动器的结构示意图。
图7是根据本公开的一个实施方式的转动辊的结构示意图。
图8是根据本公开的一个实施方式的表面清洁设备的结构框图。
图9是根据本公开的另一个实施方式的表面清洁设备的结构框图。
图中附图标记具体为:
100手柄部
110把手部
111开关机操作机构
112清洁模式操作机构
113给水操作机构
114自清洁操作机构
115触发机构
116握持部
120连接杆
200主体部
310第一清洁介质存储器
320第二清洁介质存储器
330第三清洁介质存储器
400回收存储部
500连接部
600清洁基部
610搅动器
611泡沫出口
612液体出口
615转动辊
616清洁件
617进入口
618孔
620驱动装置
700流体分配系统
710第一泵组件
711入口部
712出口部
720阀组件
730第二泵组件
800抽吸装置。
具体实施方式
下面结合附图和实施方式对本公开作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于解释相关内容,而非对本公开的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本公开相关的部分。
需要说明的是,在不冲突的情况下,本公开中的实施方式及实施方式中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施方式来详细说明本公开的技术方案。
除非另有说明,否则示出的示例性实施方式/实施例将被理解为提供可以在实践中实施本公开的技术构思的一些方式的各种细节的示例性特征。因此,除非另有说明,否则在不脱离本公开的技术构思的情况下,各种实施方式/实施例的特征可以另外地组合、分离、互换和/或重新布置。
在附图中使用交叉影线和/或阴影通常用于使相邻部件之间的边界变得清晰。如此,除非说明,否则交叉影线或阴影的存在与否均不传达或表示对部件的具体材料、材料性质、尺寸、比例、示出的部件之间的共性和/或部件的任何其它特性、属性、性质等的任何偏好或者要求。此外,在附图中,为了清楚和/或描述性的目的,可以夸大部件的尺寸和相对尺寸。当可以不同地实施示例性实施例时,可以以不同于所描述的顺序来执行具体的工艺顺序。例如,可以基本同时执行或者以与所描述的顺序相反的顺序执行两个连续描述的工艺。此外,同样的附图标记表示同样的部件。
当一个部件被称作“在”另一部件“上”或“之上”、“连接到”或“结合到”另一部件时,该部件可以直接在所述另一部件上、直接连接到或直接结合到所述另一部件,或者可以存在中间部件。然而,当部件被称作“直接在”另一部件“上”、“直接连接到”或“直接结合到”另一部件时,不存在中间部件。为此,术语“连接”可以指物理连接、电气连接等,并且具有或不具有中间部件。
为了描述性目的,本公开可使用诸如“在……之下”、“在……下方”、“在……下”、“下”、“在……上方”、“上”、“在……之上”、“较高的”和“侧(例如,如在“侧壁”中)”等的空间相对术语,从而来描述如附图中示出的一个部件与另一(其它)部件的关系。除了附图中描绘的方位之外,空间相对术语还意图包含设备在使用、操作和/或制造中的不同方位。例如,如果附图中的设备被翻转,则被描述为“在”其它部件或特征“下方”或“之下”的部件将随后被定位为“在”所述其它部件或特征“上方”。因此,示例性术语“在……下方”可以包含“上方”和“下方”两种方位。此外,设备可被另外定位(例如,旋转90度或者在其它方位处),如此,相应地解释这里使用的空间相对描述语。
这里使用的术语是为了描述具体实施例的目的,而不意图是限制性的。如这里所使用的,除非上下文另外清楚地指出,否则单数形式“一个(种、者)”和“所述(该)”也意图包括复数形式。此外,当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”以及它们的变型时,说明存在所陈述的特征、整体、步骤、操作、部件、组件和/或它们的组,但不排除存在或附加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、部件、组件和/或它们的组。还要注意的是,如这里使用的,术语“基本上”、“大约”和其它类似的术语被用作近似术语而不用作程度术语,如此,它们被用来解释本领域普通技术人员将认识到的测量值、计算值和/或提供的值的固有偏差。
图1是根据本公开的一个实施方式的表面清洁设备的结构示意图。图2是根据本公开的一个实施方式的表面清洁设备删除部分结构后的结构示意图。
如图1和图2所示,本公开的表面清洁设备包括手柄部100、主体部200、第一清洁介质存储器310、第二清洁介质存储器320、回收存储部400、连接部500、和清洁基部600。
图3和图4是根据本公开的一个实施方式的表面清洁设备的把手部的结构示意图。
如图3和图4所示,手柄部100可以包括把手部110以及与所述把手部110连接的连接杆120。把手部110供用户握持以便对表面清洁设备进行操作。
在把手部110上可以设置有开关机操作机构111和/或清洁模式操作机构112,用户能够通过触发开关机操作机构111实现表面清洁设备的开关机,并且能够通过触发清洁模式操作机构112实现清洁模式的切换,本公开中,所述开关机操作机构111和/或清洁模式操作机构112被设置在方便用户操作的位置,由此当用户在使用表面清洁设备时,能够方便触发开关机操作机构111和/或清洁模式操作机构112。
在一个实施例中,所述清洁模式包括液体清洁模式和泡沫清洁模式,所述泡沫清洁模式可以包括第一泡沫清洁模式和第二泡沫清洁模式。优选地,所述第一泡沫清洁模式可以为地板泡沫清洁模式,并能够用于清洁地板等待清洁表面;所述第二泡沫清洁模式可以为地毯泡沫清洁模式,并能偶用于清洁地毯等待清洁表面。
也就是说,本公开的表面清洁设备清洁不同的待清洁表面时,可以根据待清洁表面的性质以及脏污程度,选择适合该待清洁表面的清洁模式。例如,当待清洁表面的脏污程度较高时,可以使用泡沫清洁模式,相应地,当待清洁表面的脏污程度较低时,可以使用液体清洁模式。另一方面,当表面清洁设备工作在泡沫清洁模式时,可以根据待清洁表面的材质而选择不同的泡沫清洁模式;例如,当待清洁表面为硬地板等表面时,可以向硬地板等表面施加湿泡沫,此时,可以将第一清洁介质存储器310所存储的第一清洁介质提供至第一泵组件710的泡沫发生器,然后,当通过泡沫发生器形成泡沫时,可以向泡沫发生器提供少量的空气,以使得泡沫中的液体和气体的质量比例较大,此时该泡沫发生器所形成的泡沫即为湿泡沫。
另一方面,当待清洁表面为地毯等编织物表面时,并不能向地毯等待清洁表面提供大量的液体,尤其是提供含有清洁剂的大量的液体,此时液体会浸入地毯等,并留下印记。
此时,当表面清洁设备工作在泡沫清洁模式时,可以向地毯等编织物表面施加干泡沫,此时可以将第二清洁介质存储器320所存储的第二清洁介质提供至第一泵组件710的泡沫发生器,然后,当通过泡沫发生器形成泡沫时,可以向泡沫发生器提供大量的空气,以使得泡沫中的液体和气体的质量比例较小,此时该泡沫发生器所形成的泡沫即为干泡沫。
作为一种优选,所述第一清洁介质可以为地板清洁剂,所述第二清洁介质可以为地毯清洁剂,由此本公开中,为使得表面清洁设备具有更多的使用场景,需要设置第一清洁介质存储器310以及第二清洁介质存储器320。
相应地,触发清洁模式操作机构112时,能够将当前的液体清洁模式更换为泡沫清洁模式,或者将当前的泡沫清洁模式更换为液体清洁模式。关于液体清洁模式和泡沫清洁模式将在下文进行详细说明。
更进一步,所述把手部110上还可以设置有给水操作机构113,所述给水操作机构113与所述开关机操作机构111相互远离彼此地设置,相应地,所述给水操作机构113也能够与清洁模式操作机构112彼此远离地设置,由此,用户在触发给水操作机构113时,不会误触发开关机操作机构111和/或清洁模式操作机构112。本公开中,当用户触发给水操作机构113时,能够使得表面清洁设备与基站之间进行流体相互,例如,基站能够向表面清洁设备提供清洁液体,或者基站能够将表面清洁设备的液体回抽至基站。
在一个实施例中,所述把手部110上还设置有自清洁操作机构114,所述自清洁操作机构114与所述开关机操作机构111相互远离彼此地设置,相应地,所述自清洁操作机构114也能够与清洁模式操作机构112彼此远离地设置,由此,用户在触发自清洁操作机构114时,不会误触发开关机操作机构111和/或清洁模式操作机构112。本公开中,当用户触发自清洁操作机构114时,能够对表面清洁设备的清洁基部600进行自清洁。
也就是说,本公开中,所述开关机操作机构111和清洁模式操作机构112可以邻近设置,相应地,所述给水操作机构113和自清洁操作机构114可以相邻地设置。
在一个优选的实施例中,在表面清洁设备处于直立的状态下,所述给水操作机构113和自清洁操作机构114位于把手部110的顶部;另一方面,所述把手部110包括握持部116,当表面清洁设备在使用时,用户手持握持部116,此时,所述给水操作机构113和自清洁操作机构114位于握持部的一端,并可以位于用户的手的后方;所述开关机操作机构111和清洁模式操作机构112位于握持部的另一端,并可以位于用户的手的前方。
本公开中,所述把手部110还可以设置触发机构115,所述触发机构115可以被设置在用户在操作表面清洁设备时,拇指或食指便于操作的位置。例如,所述触发机构115可以为机械式触发可复位开关,并可以设置于握持部116的下方,当用户手动地触发该触发机构115或者该触发机构115被自动触发时,能够实现第一泡沫清洁模式和第二泡沫清洁模式之间的切换。也就是说,当通过清洁模式操作机构112将表面清洁设备的模式更换为泡沫清洁模式时,可以通过触发机构115来实现第二泡沫清洁模式和第一泡沫清洁模式之间的切换。
此时,当表面清洁设备工作在泡沫清洁模式时,无论是干泡沫还是湿泡沫,均可以通过清洁基部600被输出到待清洁表面。
在另一个实施例中,表面清洁设备可以包括脏污传感器,所述脏污传感器用于检测待清洁表面的洁净程度,当脏污传感器所检测的待清洁表面的洁净程度小于某一预设值时,即待清洁表面比较脏时,可以自动启动泡沫清洁模式;相应地,所述表面清洁设备还可以包括摄像头等能够检测待清洁表面材质的工具,并且,当表面清洁设备能够判断待清洁表面是地板还是地毯时,可以相应地启动第一泡沫清洁模式或者第二泡沫清洁模式。
本公开中,所述开关机操作机构111、清洁模式操作机构112、给水操作机构113、自清洁操作机构114和/或触发机构115中的至少一个通过触摸、按压或者推动而被触发。
如图1和图2所示,所述手柄部100与主体部200连接,具体地,所述连接杆120能够与主体部200的上端连接,由此当用户操作把手部110时,能使得主体部200处于倾斜的状态或者直立的状态,并且在主体部处于倾斜的状态时,表面清洁设备能够处于工作状态;当表面清洁设备处于直立的状态时,表面清洁设备处于关闭状态。
所述主体部200形成为表面清洁设备的主框架,并且所述主体部200的下端通过连接部500与清洁基部600连接。连接部500可以为中空结构,并且主体部200与诸如地刷的清洁基部600之间的空气、流体连通及电力供应等所需要的管线等均可以通过连接部500实现,这样经由通过连接部500的接线和/或管道可以在主体部200和清洁基部600之间实现电力供应、空气和/或液体的流通等。
在一个实施例中,连接部500可以包括万向接头从而实现主体部200能够相对于清洁基部600在两个方向上进行转动;在另一个实施例中,连接部500可以包括一个多轴关节,该多轴关节可以将主体部200与清洁基部600进行耦合,以便允许主体部200相对于清洁基部600沿着第一方向和第二方向进行转动。
所述主体部200的侧部形成有容纳空间,以使得所述第一清洁介质存储器310、第二清洁介质存储器320、第三清洁介质存储器330和回收存储部400能够设置于所述主体部200,并位于所述容纳空间内。
另一方面,考虑到第三清洁介质存储器330的体积较大,相对而言,第一清洁介质存储器310和第二清洁介质存储器320的体积较小,因此,可以第三清洁介质存储器330设置于所述主体部200,并位于容纳空间内,相应地,第一清洁介质存储器310和/或第二清洁介质存储器320可以设置于清洁基部600,由此能够使得第一清洁介质存储器310与泡沫出口之间的管路尽可能短,从而减少第一清洁介质在该管路中的量,节约了第一清洁介质;另一方面,也能够使得第二清洁介质存储器320与泡沫出口之间的管路尽可能短,从而减少第二清洁介质在该管路中的量,也节约了第二清洁介质。
在一个实施例中,所述第三清洁介质存储器330用于存储第一清洁介质,所述第一清洁介质为液体清洁介质,例如清水、自来水或者混合有清洁剂的清水和自来水等。
相应地,所述第一清洁介质存储器310用于存储第一清洁介质,所述第二清洁介质存储器320用于存储第二清洁介质,所述第一清洁介质和第二清洁介质均包括表面活性剂等物质,由此能够通过第一清洁介质和第二清洁介质形成泡沫。
在一个实施例中,所述第一清洁介质存储器310和第二清洁介质存储器320能够通过流体分配系统700以泡沫的形态将第一清洁介质和第二清洁介质提供至清洁基部600或者清洁基部600附近的待清洁表面;另一方面,所述第三清洁介质存储器330能够通过流体分配系统以液体的形式将第三清洁介质提供至清洁基部600或者清洁基部600附近的待清洁表面。
具体地,所述流体分配系统700可以包括清洁介质输出口,其中,所述第一清洁介质存储器310将其存储的第一清洁介质通过流体分配系统700以泡沫的形式施加至清洁基部600和/或施加至清洁基部600的附近的待清洁表面;所述第二清洁介质存储器320将其存储的第二清洁介质通过流体分配系统700以泡沫的形式施加至清洁基部600和/或施加至清洁基部600附近的待清洁表面。
图5是根据本公开的一个实施方式的表面清洁设备的清洁基部的结构示意图。图6是根据本公开的一个实施方式的清洁基部的搅动器的结构示意图。图7是根据本公开的一个实施方式的转动辊的结构示意图。
在一个实现形式中,如图5至图7所示,所述清洁介质输出口包括位于清洁基部600的搅动器610上的至少一个泡沫出口611,以及位于清洁基部600的搅动器610上或者靠近搅动器610设置的至少一个液体出口612,以便所述第一清洁介质存储器310所存储的第一清洁介质从所述泡沫出口611排出,所述第二清洁介质存储器320所存储的第二清洁介质也从泡沫出口611排出;相应地,所述第三清洁介质存储器330所存储的第三清洁介质从所述液体出口612排出。
在一个具体的实施例中,所述泡沫出口611与所述液体出口612共用一个清洁基部600的搅动器610上的出口;由此,当表面清洁设备工作在液体清洁模式时,能够通过该搅动器610上的出口以液体的形态输出第三清洁介质,相应地,当表面清洁设备工作在泡沫清洁模式时,能够以泡沫的形态输出第一清洁介质和第二清洁介质。
本领域技术人员应当知晓,当第一清洁介质或第二清洁介质在输出时,也可以输出适量的第三清洁介质,由此,在该搅动器610的出口向外输出较为稀薄的泡沫。
另一方面,所述泡沫出口611与所述液体出口612在搅动器610上的位置不同;当本公开的表面清洁设备工作在液体清洁模式时,能够通过液体出口612以液体的形态输出第三清洁介质,相应地,当表面清洁设备工作在泡沫清洁模式时,能够通过泡沫出口611以泡沫的形态输出第一清洁介质和第二清洁介质,由此液体输出管路和泡沫输出管路可以形成为独立的管路。
更进一步,当所述泡沫出口611与所述液体出口612形成为独立的出口时,在所述搅动器610的轴向和/或周向上,所述泡沫出口611和液体出口612之间间隔设置。
图8是根据本公开的一个实施方式的表面清洁设备的结构框图。图9是根据本公开的另一个实施方式的表面清洁设备的结构框图。
在一个实施例中,如图8和图9所示,所述流体分配系统700可以包括第一泵组件710,所述第一泵组件710位于泡沫出口和第一清洁介质存储器310及第二清洁介质存储器320之间,由此,第一泵组件710能够接收第一清洁介质存储器310所存储的第一清洁介质或第二清洁介质存储器320所存储第二清洁介质,并分别形成为湿泡沫或者干泡沫,然后将湿泡沫或者干泡沫通过泡沫出口611向外输出。
更优选地,所述流体分配系统700还可以包括阀组件720,所述阀组件720设置于第一清洁介质存储器310与第一泵组件710之间,以及设置于第二清洁介质存储器320与第一泵组件710之间,用于选择性地将第一清洁介质或者第二清洁介质输送至第一泵组件710。在一个具体的实施例中,所述阀组件720可以为两位三通阀,以通过控制两位三通阀的阀芯位置实现第一清洁介质和第二清洁介质的选择。
也就是说,当表面清洁设备工作在泡沫清洁模式时,所述流体分配系统700被可操作地控制,以选择性地在第一泡沫清洁模式和第二泡沫清洁模式之间转换。更具体地,可以控制流体分配系统700的阀组件720实现第一泡沫清洁模式和第二泡沫清洁模式的切换。
另一方面,所述流体分配系统700还可以包括第二泵组件730,所述第二泵组件730位于所述液体出口612和第三清洁介质存储器330之间,以通过第二泵组件730将第三清洁介质存储器330内的第三清洁介质加压后,输出至液体出口612。在一个实施例中,所述第二泵组件730可以选择为蠕动泵,以使得第二泵组件730能够在关闭状态下,切断第三清洁介质存储器330向液体出口612的流体供应。
在一个实施例中,所述第一泵组件710形成为泡沫泵,所述泡沫泵包括清洁剂泵和泡沫发生器,所述清洁剂泵连接于第一清洁介质存储器310和第二清洁介质存储器320,用于将第一清洁介质存储器310所存储的第一清洁介质或者第二清洁介质存储器320所存储的第二清洁介质输入至泡沫发生器;所述泡沫发生器用于接收所述第一清洁介质或者第二清洁介质,并且在所述泡沫发生器内,通过扰动第一清洁介质或者第二清洁介质的方式形成湿泡沫或者干泡沫,并且经过泡沫发生器的出口输出泡沫,更进一步,该泡沫流动至泡沫出口611,即使得泡沫从泡沫出口611向外流出。
本公开中,所述控制器控制所述流体分配系统700,以选择性地向清洁基部600和/或清洁基部600附近的待清洁表面提供第一清洁介质或第二清洁介质,和/或向清洁基部600和/或清洁基部600附近的待清洁表面提供第三清洁介质,以便表面清洁设备工作在液体清洁模式和/或泡沫清洁模式。
具体地,所述控制器用于控制所述第一泵组件710的开启和关闭,以及用于控制所述第二泵组件730的开启和关闭,并且通过控制第一泵组件710的开启和关闭,以及控制第二泵组件730的开启和关闭,以选择性地在液体清洁模式和泡沫清洁模式之间切换。
作为一种优选方案,所述第一泵组件710和第二泵组件730不同时开启;由此能够选择性地使得表面清洁设备工作在液体清洁模式或泡沫清洁模式。
本公开中,所述第一泵组件710可以位于所述表面清洁设备的主体部200或者清洁基部600,并且优选地,所述第一泵组件710位于所述表面清洁设备的清洁基部600;另一方面,所述第二泵组件730可以位于所述表面清洁设备的主体部200或者清洁基部600,并且优选地,所述第二泵组件730位于所述表面清洁设备的主体部200。
所述清洁基部600用于接触周围环境,并且至少能够基于所述第一清洁介质存储器310所提供的第一清洁介质或第二清洁介质存储器320所提供的第二清洁介质,和/或第三清洁介质存储器330所存储的第三清洁介质对周围环境的待清洁表面进行清洁操作。
也就是说,所述清洁基部600能够形成为表面清洁设备的清洁头装置,并通过清洁基部600与待清洁表面的接触来清洁待清洁表面。
在一个实施例中,所述第一泵组件710可以位于清洁基部,并具有入口部711和出口部712,入口部711用于接收第一清洁介质或者第二清洁介质,或者用于接收混合液体(例如第一清洁介质与水的混合液体,或者第二清洁介质与水的混合液体等),出口部712用于输出泡沫,并能够与泡沫出口611连接。
在该清洁基部中,所述搅动器610形成为滚刷的形式,并且能够沿其轴心线转动,例如通过驱动装置620驱动所述搅动器610转动,在一个优选的实施例中,所述驱动装置620可以为电机,并且通过带传动来驱动所述搅动器610转动。
本公开中,所述搅动器610可以包括转动辊615以及位于转动辊615外部的清洁件616,并且通过清洁件616与待清洁表面的摩擦接触,实现待清洁表面的清洁。
所述转动辊615能够被驱动装置620驱动转动,本公开中,所述转动辊615的一端可以形成有进入口617,所述进入口617能够进入泡沫形态的第一清洁介质或者第二清洁介质,和/或能够进入液体形态的第三清洁介质;在一个实现形式中,所述进入口617可以设置有两个管道,以同时向转动辊615的内部输入液体形态的第三清洁介质或者泡沫形态的第一清洁介质或第二清洁介质。
在所述转动辊615的表面形成有孔618,所述孔可以形成为清洁介质输出口,在一个实施例中,所述孔既能够排出液体形态的第三清洁介质,也能够排出泡沫形态的第一清洁介质或第二清洁介质;在另一个实施例中,所述孔中的部分孔用于排出液体形态的第三清洁介质,部分孔用于排出泡沫形态的第一清洁介质或第二清洁介质。
当然,本公开的转动辊615的表面的孔可以仅用于排出泡沫形态的第一清洁介质或第二清洁介质,此时排出液体形态的第三清洁介质的清洁介质输出口可以位于搅动器610的后方,而不位于所述搅动器610上。
在一个优选的实施例中,所述第一清洁介质存储器310和第二清洁介质存储器320可以不设置于主体部200,而设置于清洁基部600,由此能够使得第一清洁介质存储器310和第二清洁介质存储器320与泡沫出口之间的管路足够短,并由此使得该管路中所存储的第一清洁介质以及第二清洁介质足够少,减少了第一清洁介质和第二清洁介质的浪费。
所述第一清洁介质存储器310和第二清洁介质存储器320可以为固定容积的器件,例如通过塑料等材质所形成的箱体状容器,其也可以为可变容器的器件,例如形成为袋状的容器,此时,当袋状的容器存储的第一清洁介质或第二清洁介质的量较多时,所述袋状的容器具有较大的容积;另一方面,当袋状的容器存储的第一清洁介质和第二清洁介质的量较少时,所述袋状的容器具有较小的容积。
所述回收存储部400用于回收和存储清洁待清洁表面后的废液;所述抽吸装置800与所述回收存储部400及所述清洁基部600流体连通,且能够产生抽吸气流,所述回收存储部400用于存储基于所述抽吸气流从所述待清洁表面回收的废液;也就是说,本公开的表面清洁设备通过负压吸附的原理来实现废液的回收。
当表面清洁设备工作在泡沫清洁模式时,考虑到残留在地面上的泡沫较少,此时可以不启动抽吸装置800;或者,当用户先通过泡沫清洁模式进行第一次待清洁表面的清洁作业,并且接下来通过泡沫清洁模式和液体清洁模式进行第二次待清洁表面的清洁作业时,在第一次待清洁表面的清洁作业时,可以不启动抽吸装置800。
本公开中,所述表面清洁设备还可以包括动力源装置,所述动力源装置至少为所述抽吸装置800提供动力;并且通过动力源装置所提供的动力使得抽吸装置800的叶轮转动,产生负压;在一个实施例中,所述动力源装置可以为可再充电电池,并提供可再充电电池所提供的电能,使得抽吸装置800的电机转动,并进一步使得抽吸装置800的叶轮转动。
本公开中,所述回收存储部400包括污水箱,所述污水箱内设置有液位检测装置,所述液位检测装置用于检测所述污水箱内的液体的液面位置。
考虑到本公开的表面清洁设备能够工作在泡沫清洁模式,相应地所述回收存储部400内会存在大量的泡沫,此时,如果将液位检测装置设置为探针形式,该泡沫将会使得探针误导通。
基于此,本公开的液位检测装置包括浮子,所述浮子漂浮于所述污水箱的液体,并根据所述浮子的位置获得污水箱的液体的液面位置;在一个优选的实施例中,所述浮子上可以设置有磁性部,所述磁性部能够向外发出磁场,所述污水箱的外侧壁安装有干簧管等磁场检测设备,以根据该磁性部的位置获得浮子的位置,并根据浮子的位置获得污水箱内的液体的液面位置。
所述第一清洁介质和第二清洁介质可以包括表面活性剂、研磨剂以及溶剂等成本,例如可以包括选自阴离子系表面活性剂、非阴离子系表面活性剂和阳离子系表面活性剂中的一种或多种。
在一个实施例中,所述第二泵组件730还用于向泡沫发生器提供第三清洁介质,也就是说,此时第三清洁介质可以和第一清洁介质或第二清洁介质在泡沫发生器中混合并形成泡沫。优选地,所述第三清洁介质和第二清洁介质的体积比为1000:1至100:1,以及所述第三清洁介质和第第一清洁介质的体积比为1000:1至100:1,因此,用户在使用表面清洁设备时,能够延长第一清洁介质和第二清洁介质的使用时间,减少添加第一清洁介质和第二清洁介质的频次。
而且,由此所形成的泡沫,在待清洁表面所残留的清洁剂也较少,能够显著提高顽固污渍的清洁效率。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例/方式”、“一些实施例/方式”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例/方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施例/方式或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例/方式或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例/方式或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例/方式或示例以及不同实施例/方式或示例的特征进行结合和组合。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
本领域的技术人员应当理解,上述实施方式仅仅是为了清楚地说明本公开,而并非是对本公开的范围进行限定。对于所属领域的技术人员而言,在上述公开的基础上还可以做出其它变化或变型,并且这些变化或变型仍处于本公开的范围内。
Claims (17)
1.一种表面清洁设备,其特征在于,包括:
第一清洁介质存储器,所述第一清洁介质存储器具有容腔,以便存储第一清洁介质;
第二清洁介质存储器,所述第二清洁介质存储器具有容腔,以便存储第二清洁介质;
清洁基部,所述清洁基部用于接触周围环境,并且至少能够基于所述第一清洁介质存储器所提供的第一清洁介质和/或第二清洁介质存储器所提供的第二清洁介质对周围环境的待清洁表面进行清洁操作;
回收存储部,所述回收存储部用于回收和存储清洁待清洁表面后的废液;
抽吸装置,所述抽吸装置与所述回收存储部及所述清洁基部流体连通,且能够产生抽吸气流,所述回收存储部用于存储基于所述抽吸气流从所述待清洁表面回收的废液;
流体分配系统,所述流体分配系统包括多个清洁介质输出口,所述清洁介质输出口中的至少一个设置在所述清洁基部上;所述第一清洁介质存储器将其存储的第一清洁介质通过流体分配系统以第一泡沫的形式施加至清洁基部和/或施加至清洁基部的附近的待清洁表面;所述第二清洁介质存储器将其存储的第二清洁介质通过流体分配系统以第二泡沫的方式施加至清洁基部和/或施加至清洁基部附近的待清洁表面;以及
控制器,所述控制器控制所述流体分配系统,以选择性地向清洁基部和/或清洁基部附近的待清洁表面提供第一清洁介质或第二清洁介质,以便表面清洁设备工作在第一泡沫清洁模式或第二泡沫清洁模式。
2.如权利要求1所述的表面清洁设备,其特征在于,所述清洁介质输出口包括位于清洁基部的搅动器上的至少一个泡沫出口,并通过该泡沫出口选择性地输出第一泡沫或者第二泡沫。
3.如权利要求2所述的表面清洁设备,其特征在于,还包括:
第三清洁介质存储器,所述第三清洁介质存储器用于存储第三清洁介质,其中,所述清洁介质输出口能够将液态的形式的第三清洁介质输出至清洁基部和/或清洁基部附近的待清洁表面。
4.如权利要求3所述的表面清洁设备,其特征在于,所述清洁介质输出口包括液体出口,所述液体出口位于清洁基部的搅动器上或者靠近搅动器设置,所述第三清洁介质存储器所存储的第三清洁介质从所述液体出口排出。
5.如权利要求4所述的表面清洁设备,其特征在于,所述泡沫出口与所述液体出口共用一个清洁基部的搅动器上的出口。
6.如权利要求4所述的表面清洁设备,其特征在于,所述泡沫出口与所述液体出口在搅动器上的位置不同。
7.如权利要求4所述的表面清洁设备,其特征在于,在所述搅动器的轴向和/或周向上,所述泡沫出口和液体出口之间间隔设置。
8.如权利要求4所述的表面清洁设备,其特征在于,所述控制器控制所述流体分配系统,以使得表面清洁设备工作在液体清洁模式或者泡沫清洁模式,其中,所述泡沫清洁模式包括第一泡沫清洁模式和第二泡沫清洁模式。
9.如权利要求8所述的表面清洁设备,其特征在于,当表面清洁设备工作在泡沫清洁模式时,所述流体分配系统被可操作地控制,以选择性地在第一泡沫清洁模式和第二泡沫清洁模式之间转换。
10.如权利要求4所述的表面清洁设备,其特征在于,所述流体分配系统包括第一泵组件和第二泵组件,所述第一泵组件位于泡沫出口和第一清洁介质存储器及第二清洁介质存储器之间;所述第二泵组件位于所述液体出口与所述第三清洁介质存储器之间。
11.如权利要求10所述的表面清洁设备,其特征在于,还包括:
阀组件,所述阀组件设置于第一清洁介质存储器与第一泵组件之间,以及设置于第二清洁介质存储器与第一泵组件之间,用于选择性地将第一清洁介质或者第二清洁介质输送至第一泵组件。
12.如权利要求10所述的表面清洁设备,其特征在于,所述控制器用于控制所述第一泵组件的开启和关闭,以及用于控制所述第二泵组件的开启和关闭。
13.如权利要求12所述的表面清洁设备,其特征在于,所述控制器控制所述第一泵组件和第二泵组件,以使得所述第一泵组件和第二泵组件不同时开启。
14.如权利要求10所述的表面清洁设备,其特征在于,所述第一泵组件和/或第二泵组件位于所述表面清洁设备的主体部或者清洁基部。
15.如权利要求1所述的表面清洁设备,其特征在于,还包括:触发机构,所述触发机构能够被手动地或自动地触发,以在第一泡沫清洁模式和第二泡沫清洁模式之间转换。
16.如权利要求1所述的表面清洁设备,其特征在于,所述回收存储部包括污水箱,所述污水箱内设置有液位检测装置,所述液位检测装置用于检测所述污水箱内的液体的液面位置。
17.如权利要求16所述的表面清洁设备,其特征在于,所述液位检测装置包括浮子,所述浮子漂浮于所述污水箱的液体,并根据所述浮子的位置获得污水箱的液体的液面位置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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CN217510413U true CN217510413U (zh) | 2022-09-30 |
Family
ID=83391853
Family Applications (1)
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CN202221451482.9U Active CN217510413U (zh) | 2022-06-10 | 2022-06-10 | 表面清洁设备 |
Country Status (1)
Country | Link |
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CN (1) | CN217510413U (zh) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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