CN214486238U - 一种水雾处理装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种水雾处理装置,用于对石材、陶瓷、人造石加工行业加工冷却所产生的水雾进行处理;水雾处理装置包括壳体、进风口、填料层、冲洗装置、旋流层、出风口、排污口及排污装置;壳体为中空回转体结构,壳体的下部设置有进风口,壳体的上部设置有出风口;进风口位于壳体的侧壁,进风口的进风方向与壳体的内壁相切,排污口设置于壳体的底部,排污装置设置于排污口;填料层和旋流层设置于壳体内,且填料层和旋流层位于进风口和出风口之间;冲洗装置设置于填料层的上方。本实用新型的水雾处理装置能够对含有颗粒物和水雾的空气进行处理,且排出的空气中不含颗粒物质和水雾,因此不会对排放环境造成污染,极具环保意义。
Description
技术领域
本实用新型涉及人造板材制造设备,尤其涉及一种水雾处理装置。
背景技术
石材、陶瓷、人造石加工行业加工冷却中会产生的粉尘等颗粒物质。传统加工设备均配有喷水系统,在切削过程中不断对切割位置进行大量喷水冷却,在喷水冷却的过程中,切削所产生的粉尘等颗粒物质约有70%会融入到水中,由水带走,然后进入污水循环处理系统处理掉,喷水碰撞到高速旋转的刀具形成水雾,在加工过程没有水雾处理措施,所以导致约30%的粉尘等颗粒物质夹杂水雾从切削刀具处扩散漂浮在空气中,对工作环境造成污染。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提出一种水雾处理装置,以解决上述问题。
为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:
一种水雾处理装置,用于对石材、陶瓷、人造石加工行业加工冷却所产生的水雾进行处理;所述水雾处理装置包括壳体、进风口、填料层、冲洗装置、旋流层、出风口、排污口及排污装置;所述壳体为中空回转体结构,所述壳体的下部设置有所述进风口,所述壳体的上部设置有所述出风口;所述进风口位于所述壳体的侧壁,所述进风口的进风方向与所述壳体的内壁相切,所述排污口设置于所述壳体的底部;所述填料层和所述旋流层设置于所述壳体内,且所述填料层和所述旋流层位于所述进风口和所述出风口之间;所述冲洗装置设置于所述填料层的上方。
优选地,所述旋流层由多个导流叶片组成,各所述导流叶片倾斜设置,多个所述导流叶片呈环状分布。
优选地,所述冲洗装置与外部水源连接,所述冲洗装置设有若干个喷头,所述喷头用于向所述填料层喷水。
优选地,所述壳体的底部向下凹陷,所述排污口设置于所述壳体的底部最低点,所述排污装置为S型结构,所述排污装置的一端与所述排污口连接。
优选地,还包括阀门,所述阀门设置于所述排污口。
优选地,所述填料层为多层,所述冲洗装置的数量与所述填料层的数量相同,各所述冲洗装置分别设置于各所述填料层的上方。
本实用新型的有益效果是:对石材、陶瓷、人造石加工行业加工冷却所产生的水雾进行净化分离,可以减少和防止水雾对工作环境造成污染,并且从水雾处理装置排出的空气中也不含颗粒物质、水,因此也不会对排放环境造成污染,极具环保意义。
附图说明
附图对本实用新型做进一步说明,但附图中的内容不构成对本实用新型的任何限制。
图1是本实用新型其中一个实施例的水雾处理装置的结构示意图;
图2是本实用新型其中一个实施例的水雾处理装置的内部气体流向示意图;
附图中:1-壳体、2-进风口、3-填料层、4-冲洗装置、5-旋流层、6-出风口、7-排污口、8-排污装置。
具体实施方式
下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。
本实施例的一种水雾处理装置,用于对石材、陶瓷、人造石加工行业加工冷却所产生的水雾进行处理;如图1所示,所述水雾处理装置包括壳体1、进风口2、填料层3、冲洗装置4、旋流层5、出风口6、排污口7及排污装置8;所述壳体1为中空回转体结构,所述壳体1的下部设置有所述进风口2,所述壳体1的上部设置有所述出风口6;所述进风口2位于所述壳体1的侧壁,所述进风口2的进风方向与所述壳体1的内壁相切,所述排污口7设置于所述壳体1的底部;所述填料层3和所述旋流层5设置于所述壳体1内,且所述填料层3和所述旋流层5位于所述进风口2和所述出风口6之间;所述冲洗装置4设置于所述填料层3的上方。
进风口2位于所述壳体1侧壁,且进风口2的进风方向与所述壳体1的内壁相切,因此水雾及颗粒物沿壳体1的内壁切线进入壳体1,然后后沿着壳体1的内壁回旋并朝向出风口6上升,在回旋上升的过程中,水雾及颗粒物在离心力的作用下与壳体1的内壁发生碰撞,部分水雾及颗粒物质会依附到侧壁上,剩余水雾则继续回旋上升,然后经过填料层3、冲洗装置4和旋流层5得到进一步净化;填料层3可以将上升的水雾及颗粒物拦截下来,冲洗装置4则向填料层3喷水,以将附着于填料层3的水雾和颗粒物冲走,从而起到净化的作用;最后颗粒物质和水通过排污口7排出,净化后的空气通过出风口6排出。
进风口2的进风方向与所述壳体1的内壁相切;这样设置可以使水雾及颗粒物在进入壳体1后即沿着壳体1的内壁回转上升流动,从而使得水雾及颗粒物在上升的过程中与壳体1的内壁接触和碰撞,部分的水雾及颗粒物质会附着于壳体1的内壁,从而减少填料层3的拦截负荷,且由于壳体1的侧壁并非多孔结构,因此颗粒物质附着于壳体1的侧壁也更加容易清洗。
含有颗粒物和水雾的空气由进风口2进入壳体1,接着水雾中颗粒物质、水雾及空气在水雾处理装置内进行处理,水雾处理装置将含有颗粒物和水雾的混浊气体最终处理成不包含有颗粒物质和水雾的空气,并通过出风口6排出,从而可以减少和防止含有颗粒物和水雾的混浊气体对工作环境造成污染,并且从水雾处理装置排出的空气中也不含颗粒物质和水雾,因此也不会对排放环境造成污染,极具环保意义。
进一步地,所述旋流层5由多个导流叶片组成,各所述导流叶片倾斜设置,多个所述导流叶片呈环状分布。
气流上升过程中,在经过填料层3时,由于受到填料层3的阻力影响,气流在通过填料层3后的气流回转减弱,旋流层5能够起到增加气流回旋的作用。
进一步地,所述冲洗装置4与外部水源连接,所述冲洗装置4设有若干个喷头,所述喷头用于向所述填料层3喷水。
在工作的过程中,外部水源为冲洗装置4供水,冲洗装置4在壳体1内喷水;水雾从进风口2进入壳体1内;由于冲洗装置4会定时喷水,因此,冲洗装置4喷出的水会将冲洗装置4下方的填料层3打湿,通常地,填料层3中可以填充空心球或拉西环等除雾填料,填料可以对进入壳体1内的水雾及颗粒物质进行阻挡,并且,由于填料是湿的,且冲洗装置4会定时喷水,水雾及颗粒物在接触到填料表面的水时,水雾及颗粒物会直接融入到水中,从而无法继续飘浮;对于被填料拦截下来的颗粒物,由于冲洗装置4会定时喷水,因此,附着于填料的颗粒物会被水冲洗到壳体1的底部。
作为其中的一种实施方式,所述壳体1的底部向下凹陷,所述排污口7设置于所述壳体1的底部最低点,所述排污装置8为S型结构,所述排污装置8的一端与所述排污口7连接。
填料层3拦截下来的水雾及颗粒物最终会被冲洗装置4喷水冲洗至壳体1的底部,排污口7可以及时地将污水排出,避免污水在壳体1内积聚;排污装置8可以起到液封的作用,防止水雾从排污口7溢出。
作为另一种实施方式,还包括阀门,所述阀门设置于所述排污口7。
这样设置可以通过阀门控制污水的排放,当阀门关闭时,可以防止水雾从排污口7溢出。
进一步地,所述填料层3为多层,所述冲洗装置4的数量与所述填料层3的数量相同,各所述冲洗装置4分别设置于各所述填料层3的上方。
这样设置能够获得更好的拦截效果,从而保证排出的空气不含有任何的颗粒物和水雾。
以上结合具体实施例描述了本实用新型的技术原理。这些描述只是为了解释本实用新型的原理,而不能以任何方式解释为对本实用新型保护范围的限制。基于此处的解释,本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本实用新型的其它具体实施方式,这些等同的变型或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。
Claims (6)
1.一种水雾处理装置,用于对石材、陶瓷、人造石加工行业加工冷却所产生的水雾进行处理;其特征在于:所述水雾处理装置包括壳体、进风口、填料层、冲洗装置、旋流层、出风口、排污口及排污装置;所述壳体为中空回转体结构,所述壳体的下部设置有所述进风口,所述壳体的上部设置有所述出风口;所述进风口位于所述壳体的侧壁,所述进风口的进风方向与所述壳体的内壁相切,所述排污口设置于所述壳体的底部,所述排污装置设置于所述排污口;所述填料层和所述旋流层设置于所述壳体内,且所述填料层和所述旋流层位于所述进风口和所述出风口之间;所述冲洗装置设置于所述填料层的上方。
2.根据权利要求1所述的一种水雾处理装置,其特征在于,所述旋流层由多个导流叶片组成,各所述导流叶片倾斜设置,多个所述导流叶片呈环状分布。
3.根据权利要求1所述的一种水雾处理装置,其特征在于:所述冲洗装置与外部水源连接,所述冲洗装置设有若干个喷头,所述喷头用于向所述填料层喷水。
4.根据权利要求1所述的一种水雾处理装置,其特征在于:所述壳体的底部向下凹陷,所述排污口设置于所述壳体的底部最低点,所述排污装置为S型结构,所述排污装置的一端与所述排污口连接。
5.根据权利要求1所述的一种水雾处理装置,其特征在于:还包括阀门,所述阀门设置于所述排污口。
6.根据权利要求1所述的一种水雾处理装置,其特征在于:所述填料层为多层,所述冲洗装置的数量与所述填料层的数量相同,各所述冲洗装置分别设置于各所述填料层的上方。
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CN202023311385.3U Active CN214486238U (zh) | 2020-12-30 | 2020-12-30 | 一种水雾处理装置 |
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2020
- 2020-12-30 CN CN202023311385.3U patent/CN214486238U/zh active Active
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