CN214378364U - 一种用于硅片湿法处理的花篮 - Google Patents

Abstract

本实用新型适用硅片加工技术领域，提供了一种用于硅片湿法处理的花篮，包括：相对间隔设置的两个端板；连接两个端板的第一横杆和第二横杆，第一横杆和第二横杆沿第一方向相对间隔设置，第一横杆与第二横杆通过沿第一方向间隔设置的多个连齿连接，相邻两个连齿之间形成用于放置硅片的安装间隙；连接两个端板、用于对放置在安装间隙的硅片进行限位的底杆。本实用新型提供的用于硅片湿法处理的花篮通过将第一横杆和第二横杆利用多个连齿连接，硅片放置在用于硅片湿法处理的花篮进行湿化学处理时，相邻硅片通过连齿物理隔离，既可以防止硅片出现贴片现象，又可以控制硅片的形变量以避免硅片形变过大而导致碎片的发生，可以有效降低硅片的碎片率。

Description

一种用于硅片湿法处理的花篮

技术领域

本实用新型涉及硅片加工技术领域，具体涉及一种用于硅片湿法处理的花篮。

背景技术

随着光伏电池产业的逐步发展，大尺寸、薄片化的硅片已经成为行业内原硅片选择的趋势。在光伏电池行业，电池原硅片通常需要采用湿化学方法进行制绒和清洗处理，而湿化学方法过程中需要使用花篮固定放置硅片，以对硅片进行湿化学处理。

现有技术中，硅片湿化学处理过程中采用的花篮通常包括两个端板、连接两个端板的底杆和左右对称分布的多个横杆，各横杆上设置有长度较短的卡齿，硅片支撑在底杆上并利用横杆上的卡齿对相邻硅片的边缘部分进行分隔。由于硅片在湿化学处理过程中的亲水性，极易导致硅片之间贴片情况的出现，从而影响湿化学处理制绒和清洗效果，导致光伏电池转换效率下降；同时，在对超薄硅片进行湿化学处理时，由于硅片减薄后在外力作用下形变会增大，易导致硅片破碎，硅片碎片率高。

实用新型内容

本实用新型提供一种用于硅片湿法处理的花篮，旨在解决现有技术中的用于硅片湿法处理的花篮存在易出现硅片之间贴片情况，且硅片碎片率高的问题。

本实用新型是这样实现的，提供一种用于硅片湿法处理的花篮，包括：

相对间隔设置的两个端板；

连接两个所述端板的第一横杆和第二横杆，所述第一横杆和所述第二横杆沿第一方向相对间隔设置，所述第一横杆与所述第二横杆通过沿所述第一方向间隔设置的多个连齿连接，相邻两个所述连齿之间形成用于放置硅片的安装间隙；以及

连接两个所述端板、用于对放置在所述安装间隙的所述硅片进行限位的底杆。

优选的，相邻两个所述连齿的相对两个表面中至少一个所述表面设置有凸点。

优选的，相邻两个所述连齿的相对两个表面同时设置有多个所述凸点，且多个所述凸点沿所述连齿的长度方向间隔设置。

优选的，所述凸点为半圆形凸点。

优选的，每个所述连齿包括：

主体部，所述凸点设置于所述主体部；以及

分别连接于所述主体部两端的夹持部，相邻两个所述连齿的所述夹持部之间形成用于夹持所述硅片的夹持间隙，且所述夹持间隙的宽度自所述主体部向所述夹持部的方向逐渐减小。

优选的，所述底杆的上表面设置与所述连齿位置一一对应的多个第一卡齿，且相邻两个所述第一卡齿的间距与相邻两个所述连齿之间的齿距相同。

优选的，所述用于硅片湿法处理的花篮还包括：

压杆，所述压杆可拆卸连接所述两个端板以用于将硅片压紧在所述底杆上。

优选的，所述压杆的下表面设有与所述连齿位置一一对应的多个第二卡齿，且相邻两个所述第二卡齿的间距与相邻两个所述连齿之间的齿距相同。

优选的，所述第一横杆及所述第二横杆的数量均为相互间隔设置的多个，所述第一横杆与所述第二横杆的数量及位置相对应，每个所述第一横杆与对应的所述第二横杆通过多个所述连齿相连接。

优选的，两个所述端板与所述第一横杆、所述第二横杆以及所述底杆熔接固定；和/或所述第一横杆和所述第二横杆均为PVDF包裹碳纤维棒结构。

本实用新型提供的用于硅片湿法处理的花篮通过将第一横杆和第二横杆利用多个间隔设置的连齿连接，相邻两个连齿之间形成用于放置硅片的安装间隙，硅片放置在用于硅片湿法处理的花篮的安装间隙进行湿化学处理制绒和清洗时，相邻硅片之间通过连齿进行物理隔离，既可以防止硅片贴片情况的出现，又可以控制硅片的形变量以避免硅片形变过大而导致碎片的发生，从而降低硅片的碎片率，该用于硅片湿法处理的花篮可以适用150μm以下的超薄硅片的湿化学处理。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的用于硅片湿法处理的花篮的结构示意图；

图2为1中局部A的放大图；

图3实用新型实施例提供的用于硅片湿法处理的花篮的第一侧视结构示意图；

图4用新型实施例提供的用于硅片湿法处理的花篮的第二侧视结构示意图；

图5本实用新型实施例提供的用于硅片湿法处理的花篮的底杆的结构示意图；

图6本实用新型实施例提供的用于硅片湿法处理的花篮的压杆的结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

本实用新型实施例提供的用于硅片湿法处理的花篮通过将第一横杆3和第二横杆4利用多个间隔设置的连齿5连接，相邻两个连齿5之间形成用于放置硅片的安装间隙6，硅片放置在用于硅片湿法处理的花篮的安装间隙6进行湿化学处理制绒和清洗时，相邻硅片之间通过连齿5进行物理隔离，既可以防止硅片贴片情况的出现，又可以控制硅片的形变量，避免硅片形变过大而导致碎片的发生，从而降低了硅片的碎片率。

请参照图1-图4，本实用新型实施例提供一种用于硅片湿法处理的花篮，包括：

相对间隔设置的两个端板1；

连接两个端板1的第一横杆3和第二横杆4，第一横杆3和第二横杆4沿第一方向相对间隔设置；其中，第一方向为第一横杆3和第二横杆4的长度方向；第一横杆3与第二横杆4通过沿第一方向多个间隔设置的连齿5连接，相邻两个连齿5之间形成用于放置硅片的安装间隙6；

连接两个端板1、用于对放置在安装间隙6的硅片进行限位的底杆2。

其中，第一横杆3和第二横杆4相对平行间隔设置，即多个连齿5沿第一横杆3和第二横杆4的长度方向间隔分布。

本实用新型实施例中，两个端板1相对平行间隔设置，底杆2连接两个端板1的底部以用于支撑硅片，第一横杆3和第二横杆4分别两个端板1的两侧且相互平行间隔设置。每个连齿5的两端分别连接第一横杆3和第二横杆4，且多个连齿5相互平行设置。

在本实施例中，第一横杆3和第二横杆4的间距为213mm，放入硅片的尺寸为210mm×210mm。另外，第一横杆3和第二横杆4的间距还可以根据硅片的尺寸进行灵活设置。

作为本实用新型的一个实施例，第一横杆3及第二横杆4的数量均为相互间隔设置的多个，第一横杆3与第二横杆4的数量及位置相对应，且每个第一横杆3与对应的第二横杆4通过多个连齿5相连接。

本实施例中，第一横杆3与第二横杆4的结构完全相同，第一横杆3与第二横杆4的数量相同，且第一横杆3与第二横杆4的位置一一对应。其中，第一横杆3及第二横杆4的具体数量不限，第一横杆3的数量及第二横杆4的数量可以为两个或两个以上。优选的，如图3和图4所示，第一横杆3的数量为相互间隔设置的三个，且第二横杆4的数量为相互间隔设置的三个，这样可以使连齿5之间的间距较小，且可以利用多个连齿5对相邻硅片进行隔离，对硅片防变形效果更好，尤其适用210mm×210mm大尺寸硅片的湿法处理。

作为本实用新型的一个实施例，底杆2的数量为相互间隔设置的两个。本实施例中，利用两个底杆2对硅片限位，使底杆2对硅片稳定限位。除本实施例外，底杆2的数量也可以只设置一个或者三个以上。

本实用新型实施例中，通过设置连接第一横杆3和第二横杆4的多个连齿5，相邻两个连齿5间隔之间形成用于放置硅片的安装间隙6。在将硅片放置在用于硅片湿法处理的花篮内进行湿化学处理制绒和清洗时，每个硅片对应插入一个安装间隙6内，利用第一横杆3和第二横杆4对硅片的四周进行限位，相邻两个硅片之间则通过连齿5完全物理隔离。由于相邻两个硅片之间通过连齿5进行物理隔离，这样可以防止硅片贴片情况的出现，避免了硅片之间贴片而影响硅片的湿化学处理制绒和清洗效果；同时，由于连齿5对相邻两个硅片的物理隔离，即使对150μm以下的超薄硅片进行湿化学处理，也不会导致硅片碎片，大大减低了碎片率，因而该用于硅片湿法处理的花篮可以适用150μm以下的超薄硅片的湿化学处理。

请结合参照图5，作为本实用新型的一个实施例，底杆2的上表面设置与连齿5位置一一对应的多个第一卡齿21，且相邻两个第一卡齿21的间距与相邻两个连齿5之间的齿距相同。

本实施例中，通过在底杆2的上表面设置与连齿5位置一一对应的多个第一卡齿21，在将硅片依次放入相邻两个连齿5之间的安装间隙6内时，硅片的底部通过连齿5进行隔离，以进一步防止硅片变形导致贴片情况和硅片碎片，而且可以利用卡齿21对硅片起到固定限位作用，使硅片更加稳固地放置在花篮内。

本实施例中，当硅片需要装入用于硅片湿法处理的花篮内时，将硅片依次插入相邻两个连齿5之间的安装间隙6，同时将硅片的底部卡入底杆2上对应的两个第一卡齿21之间，从而连齿5与第一卡齿21共同对硅片进行限位和隔离，可以进一步防止硅片变形导致贴片情况和硅片碎片。

本实施例中，相邻两个连齿5之间的齿距为5mm，底杆2上相邻两个第一卡齿21的间距同为5mm。另外，两个连齿5之间的齿距还可以根据硅片的厚度进行灵活设置。

请再次参照图1和图2，作为本实用新型的一个实施例，相邻两个连齿5的相对两个表面中至少一个表面设置有凸点7。其中，连齿5呈长条形设置。在相邻两个连齿5的相对两个表面中，可以是其中任意一个表面设置有凸点7，也可以两个表面同时设置有凸点7。

本实施例中，通过在相邻两个连齿5的相对两个表面中至少一个表面设置凸点7，这样硅片放置在连齿5之间的安装间隙6时，硅片的至少一个侧面可与凸点7接触，这样可以避免硅片与连齿5面接触，减小硅片与连齿5的接触面积，避免硅片黏贴到连齿5上导致局部制绒、清洗效果的变差，确保良好的湿化学处理制绒和清洗效果。优选的，相邻两个连齿5的相对两个表面同时设置有凸点7，这样可以使硅片的两侧面可同时与凸点7接触，进一步防止硅片出现贴片的现象。

作为本实用新型的一个优选实施例，相邻两个连齿5的相对两个表面同时设置有多个凸点7，且多个凸点7沿连齿5的长度方向间隔设置。其中，凸点7的数量为三个以上，通过在相邻两个连齿5的相对两个表面同时设置有多个凸点7，可以防止硅片各位置出现贴片现象，进一步提升防止硅片贴片的可靠性。

作为本实用新型的一个优选实施例，凸点7为半圆形凸点。通过将凸点7为设置为半圆形凸点，这样半圆形凸点的顶部与硅片接触，可以尽可能减小硅片与连齿5的接触面积，进一步减小对制绒和清洗效果的影响；而且，可以减小凸点7与硅片的摩擦力，便于硅片顺利装入安装间隙6内，且避免刮坏硅片。除本实施例之外，凸点7也可以为柱状、圆台状或其它不规则形状。

作为本实用新型的一个实施例，每个连齿5包括：

主体部51，凸点7设置于主体部51；以及

分别连接于主体部51两端的夹持部52，相邻两个连齿5的夹持部52之间形成用于夹持硅片的夹持间隙9，且夹持间隙9的宽度自主体部51向夹持部52的方向逐渐减小。

本实施例中，当硅片插入在安装间隙6时，硅片的两端夹持固定在相邻两个连齿5的夹持部52之间形成的夹持间隙9内，硅片的中间部分则夹持在相邻两个连齿5的主体部51之间。其中，主体部51大致呈直条形状，连齿5的主体部51的两侧表面分别设置有凸点7。主体部51的宽度沿其长度方向保持均匀设置，使相邻两个连齿5的主体部51之间间距保持均匀。夹持部52的宽度则自主体部51向夹持部52的端部方向逐渐增大，使得相邻两个连齿5的夹持部52形成的夹持间隙9的宽度自主体部51向夹持部52的方向逐渐减小，这样利用夹持间隙9与硅片紧密配合，实现硅片的稳定夹持，有利于硅片的湿化学处理。其中，夹持间隙9的宽度小于相邻两个连齿5的主体部51之间间距，这样利用夹持间隙9稳定固持硅片的同时，还可以有效避免硅片的中间部分出现贴片的现象。

作为本实用新型的一个优选实施例，用于硅片湿法处理的花篮还包括：

压杆8，压杆8可拆卸连接两个端板1以用于将硅片压紧在底杆2上。

本实施例中，压杆8与两个端板1的可拆卸安装方式不限，压杆8可以采用卡接、螺钉等连接方式固定于端板1。通过设置可拆卸连接两个端板1的压杆8，在将硅片依次放入相邻两个连齿5之间的安装间隙6后，再将压杆8与两个端板1连接，利用压杆8将硅片压紧并限位在底杆2上，防止硅片从安装间隙6中脱落，以提升硅片固定放置在用于硅片湿法处理的花篮中的可靠性。其中，压杆8的数量为一个。

请结合参照图6，作为本实用新型的一个优选实施例，压杆8的下表面设有与连齿5位置一一对应的多个第二卡齿81，且相邻两个第二卡齿81的间距与相邻两个连齿5之间的齿距相同。

本实施例中，硅片放入相邻两个连齿5之间的安装间隙6内后，并将硅片的底部卡入底杆2上对应的两个第一卡齿21之间后，然后将压杆8与两个端板1连接，使相邻两个硅片的顶部通过第二卡齿81进行隔离，从而可以连齿5、第一卡齿21以及第二卡齿81共同对硅片进行限位和隔离，可以进一步防止硅片变形导致贴片情况和硅片碎片。

作为本实用新型的一个实施例，两个端板1与第一横杆3、第二横杆4以及底杆2熔接固定，可以使端板1与第一横杆3、第二横杆4以及底杆2之间连接更加稳固，使整个用于硅片湿法处理的花篮的整体结构稳固，且连接方式简单方便。

本实用新型实施例中，该用于硅片湿法处理的花篮的整体外表面均为PVDF(Polyvinylidene Fluoride，聚偏二氟乙烯)材质，即端板1、底杆2、第一横杆3、第二横杆4、连齿5以及压杆8的表面均为PVDF材质，这样在湿化学处理过程中，可有效防止各种溶液对花篮各组成部件的腐蚀。

具体的，端板1采用厚度为12mm的PVDF板材直接加工而成。第一横杆3和第二横杆4均为PVDF包裹碳纤维棒结构，这样既可以确保第一横杆3和第二横杆4的结构强度，且可以有效防止各种溶液对第一横杆3和第二横杆4的腐蚀。第一横杆3和第二横杆4在制作时使用PVDF注塑包裹碳纤维棒，冷却后经过数控机床加工，并经电脉冲打出镜面效果，制作出第一横杆3和第二横杆4以及连齿5。其中，连齿5与第一横杆3和第二横杆4的连接方式不限。

本实用新型实施例提供的用于硅片湿法处理的花篮通过将第一横杆3和第二横杆4利用多个间隔设置的连齿5连接，相邻两个连齿5之间形成用于放置硅片的安装间隙6，硅片放置在用于硅片湿法处理的花篮的安装间隙6进行湿化学处理制绒和清洗时，相邻硅片之间通过连齿5进行物理隔离，既可以防止硅片贴片情况的出现，又可以控制硅片的形变量避免硅片形变过大，导致碎片的发生，从而降低硅片的碎片率，该用于硅片湿法处理的花篮可很好地适用于150μm以下的超薄硅片的湿化学处理。

以上仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种用于硅片湿法处理的花篮，其特征在于，包括：

相对间隔设置的两个端板；

连接两个所述端板的第一横杆和第二横杆，所述第一横杆和所述第二横杆沿第一方向相对间隔设置，所述第一横杆与所述第二横杆通过沿所述第一方向间隔设置的多个连齿连接，相邻两个所述连齿之间形成用于放置硅片的安装间隙；以及

连接两个所述端板、用于对放置在所述安装间隙的所述硅片进行限位的底杆。

2.根据权利要求1所述的用于硅片湿法处理的花篮，其特征在于，相邻两个所述连齿的相对两个表面中至少一个所述表面设置有凸点。

3.根据权利要求2所述的用于硅片湿法处理的花篮，其特征在于，相邻两个所述连齿的相对两个表面同时设置有多个所述凸点，且多个所述凸点沿所述连齿的长度方向间隔设置。

4.根据权利要求2或3所述的用于硅片湿法处理的花篮，其特征在于，所述凸点为半圆形凸点。

5.根据权利要求2或3所述的用于硅片湿法处理的花篮，其特征在于，每个所述连齿包括：

主体部，所述凸点设置于所述主体部；以及

分别连接于所述主体部两端的夹持部，相邻两个所述连齿的所述夹持部之间形成用于夹持所述硅片的夹持间隙，且所述夹持间隙的宽度自所述主体部向所述夹持部的方向逐渐减小。

6.根据权利要求1所述的用于硅片湿法处理的花篮，其特征在于，所述底杆的上表面设置与所述连齿位置一一对应的多个第一卡齿，且相邻两个所述第一卡齿的间距与相邻两个所述连齿之间的齿距相同。

7.根据权利要求1所述的用于硅片湿法处理的花篮，其特征在于，所述用于硅片湿法处理的花篮还包括：

压杆，所述压杆可拆卸连接所述两个端板以用于将硅片压紧在所述底杆上。

8.根据权利要求7所述的用于硅片湿法处理的花篮，其特征在于，所述压杆的下表面设有与所述连齿位置一一对应的多个第二卡齿，且相邻两个所述第二卡齿的间距与相邻两个所述连齿之间的齿距相同。

9.根据权利要求1所述的用于硅片湿法处理的花篮，其特征在于，所述第一横杆及所述第二横杆的数量均为相互间隔设置的多个，所述第一横杆与所述第二横杆的数量及位置相对应，每个所述第一横杆与对应的所述第二横杆通过多个所述连齿相连接。

10.根据权利要求1所述的用于硅片湿法处理的花篮，其特征在于，两个所述端板与所述第一横杆、所述第二横杆以及所述底杆熔接固定；和/或所述第一横杆和所述第二横杆均为PVDF包裹碳纤维棒结构。

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