CN213590472U - 一种带有分布器的氧化反应釜 - Google Patents

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王德甫
王国平
冯杰
钱嘉毅
周玉华
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Abstract

本实用新型公开了一种带有分布器的氧化反应釜,包括反应釜和换热器,反应釜的顶部两侧分别设置有进料管一、进料管二,在反应釜内由上至下依次设置有分布器、混料斗,在反应釜内设置有转轴,在反应釜的顶部还设置驱动转轴转动的电机,转轴依次穿过分布器、混料斗并延伸至反应釜内底部,混料斗的斗体上开设有若干个通孔,在反应釜的底部管道连通有出料泵,出料泵的出口设置有出料管;换热器设置在反应釜的其中一侧,在反应釜的底部设置有循环泵,循环泵的出口与换热器的底部管道连通,换热器的顶部设置有延伸至反应釜内的循环管道,在反应釜的另一侧设置有延伸至反应釜内的辅料入料管。本实用新型能有效的提高反应效率和转化率。

Description

一种带有分布器的氧化反应釜
技术领域
本实用新型涉及一种带有分布器的氧化反应釜,属于反应釜领域。
背景技术
反应釜常用于食品、化工、医药等技术领域,是常见的生产用设备。在化工生产制造的领域中经常会用到反应釜,通过反应釜对各种化工原料进行反应加工,进而实现生产化工原料的目的。现有反应釜在进行氧化反应时,为了提高反应效率以及转化率,往往会设置分布器来尽快原料混合程度,但单一设置分布器在提高反应效率以及转化率上的成效并不十分显著。
发明内容
为解决现有技术的不足,本实用新型提供一种带有分布器的氧化反应釜,有效的提高了反应效率和转化率。
本实用新型所采用的技术方案为:
一种带有分布器的氧化反应釜,包括反应釜和换热器,反应釜的顶部两侧分别设置有进料管一、进料管二,在反应釜内由上至下依次设置有分布器、混料斗,在反应釜内设置有顶部延伸至反应釜顶部上方的转轴,在反应釜的顶部还设置驱动转轴转动的电机,转轴依次穿过分布器、混料斗并延伸至反应釜内底部,混料斗的斗体上开设有若干个通孔,在位于混料斗斗体内的转轴上设置有若干个搅拌叶片,在混料斗下方的转轴上设置有若干个搅拌桨,在反应釜的底部管道连通有出料泵,出料泵的出口设置有出料管;换热器设置在反应釜的其中一侧,在反应釜的底部设置有循环泵,循环泵的出口与换热器的底部管道连通,换热器的顶部设置有延伸至反应釜内的循环管道,在反应釜的另一侧设置有延伸至反应釜内的辅料入料管,延伸至反应釜内的循环管道、辅料入料管均位于分布器、混料斗之间,且辅料入料管位于循环管道上方,在循环管道的管道末端设置有环形管一,在辅料入料管的管道末端设置有环形管二,在环形管一、环形管二的环体下方均设置有若干个喷头。
优选的是,反应釜的顶部一侧还设置有压力传感器和泄压管,泄压管上设置有自动泄压阀。
进一步的优选,在反应釜的底部包覆设置有夹套,夹套的底部设置有进水口,夹套的顶部一侧设置有出水口。
进一步的优选,在反应釜与出料泵之间的管道上以及换热器的顶部与反应釜之间的循环管道上分别设置有温度传感器一、温度传感器二。
进一步的优选,在进料管一、进料管二、出料管、循环泵与换热器之间的管道以及辅料入料管上均设置有流量调节阀。
进一步的优选,环形管一的直径小于环形管二的直径。
进一步的优选,反应釜的釜体上还设置有液位计。
本实用新型的有益效果在于:
采用分布器将原料进行混合后均匀落向下方釜体内,辅料经过环形管二下方的喷头喷出与混合原料进一步的混合,落至混料斗内,并在混料斗内的搅拌叶片的搅拌下再进一步混合后落至反应釜底部,并在夹套内的热源加热以及搅拌桨的搅拌作用下充分反应,提高了反应效率;且通过循环泵和换热器的物料循环,使循环物料经过环形管一的底部喷头喷出,对混合下落的原料以及辅料进行预热,继而有效的提高转化率。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图中主要附图标记含义如下:
1、反应釜,2、换热器,3、进料管一,4、进料管二,5、分布器,6、混料斗,7、转轴,8、电机,9、搅拌叶片,10、搅拌桨,11、出料泵,12、出料管,13、循环泵,14、循环管道,15、辅料入料管,16、环形管一,17、环形管二,18、压力传感器,19、泄压管,20、夹套,21、进水口,22、出水口,23、温度传感器一,24、温度传感器二,25、流量调节阀,26、液位计,27、自动泄压阀。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型做具体的介绍。
如图1所示:本实施例是包括反应釜1和换热器2,反应釜1的顶部两侧分别设置有进料管一3、进料管二4,在反应釜内1由上至下依次设置有分布器5、混料斗6,在反应釜1内设置有顶部延伸至反应釜1顶部上方的转轴7,在反应釜1的顶部还设置驱动转轴7转动的电机8,转轴7依次穿过分布器5、混料斗6并延伸至反应釜1内底部,混料斗6的斗体上开设有若干个通孔,在位于混料斗6斗体内的转轴7上设置有若干个搅拌叶片9,在混料斗6下方的转轴7上设置有若干个搅拌桨10,在反应釜1的底部管道连通有出料泵11,出料泵11的出口设置有出料管12;换热器2设置在反应釜的其中一侧,在反应釜的底部设置有循环泵13,循环泵13的出口与换热器2的底部管道连通,换热器2的顶部设置有延伸至反应釜1内的循环管道14,在反应釜1的另一侧设置有延伸至反应釜1内的辅料入料管15,延伸至反应釜1内的循环管道14、辅料入料管15均位于分布器5、混料斗6之间,且辅料入料管15位于循环管道14上方,在循环管道14的管道末端设置有环形管一16,在辅料入料管15的管道末端设置有环形管二17,在环形管一16、环形管二17的环体下方均设置有若干个喷头。
参见图1所示,反应釜1的顶部一侧还设置有压力传感器18和泄压管19,泄压管19上设置有自动泄压阀27。
参见图1所示,在反应釜1的底部包覆设置有夹套20,夹套20的底部设置有进水口21,夹套20的顶部一侧设置有出水口22。
参见图1所示,在反应釜1与出料泵11之间的管道上以及换热器2的顶部与反应釜1之间的循环管道14上分别设置有温度传感器一23、温度传感器二24。
参见图1所示,在进料管一3、进料管二4、出料管12、循环泵13与换热器2之间的管道以及辅料入料管15上均设置有流量调节阀25。
本实施例中,环形管一16的直径小于环形管二17的直径。
参见图1所示,反应釜1的釜体上还设置有液位计26。
本实用新型在实际应用时,原料经过进料管一3、进料管二4落至分布器5上并经过分布器5混合后均匀落向下方釜体内,辅料经过辅料入料管15末端的环形管二17下方的喷头喷出与下落的混合原料进一步的混合,并落至混料斗6内,在混料斗6内的搅拌叶片9的搅拌下再进一步混合后经过混料斗6的斗体上开设的若干个通孔落至反应釜1底部,在夹套20内通入热源对物料进行加热,并通过搅拌桨10的搅拌使物料充分反应,提高了反应效率;部分物料通过循环泵13泵入换热器2内,并经过换热器2的换热保证循环物料的温度,使循环物料经过环形管一16的底部喷头喷出,对混合下落的原料以及辅料进行预热,继而有效的提高转化率;反应后的物料经过出料泵11泵出即可。
以上所述仅是本实用新型专利的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型专利原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型专利的保护范围。

Claims (7)

1.一种带有分布器的氧化反应釜,包括反应釜(1)和换热器(2),其特征在于:所述反应釜(1)的顶部两侧分别设置有进料管一(3)、进料管二(4),在反应釜内(1)由上至下依次设置有分布器(5)、混料斗(6),在反应釜(1)内设置有顶部延伸至反应釜(1)顶部上方的转轴(7),在反应釜(1)的顶部还设置驱动转轴(7)转动的电机(8),所述转轴(7)依次穿过分布器(5)、混料斗(6)并延伸至反应釜(1)内底部,所述混料斗(6)的斗体上开设有若干个通孔,在位于混料斗(6)斗体内的转轴(7)上设置有若干个搅拌叶片(9),在混料斗(6)下方的转轴(7)上设置有若干个搅拌桨(10),在反应釜(1)的底部管道连通有出料泵(11),所述出料泵(11)的出口设置有出料管(12);所述换热器(2)设置在反应釜的其中一侧,在反应釜的底部设置有循环泵(13),所述循环泵(13)的出口与换热器(2)的底部管道连通,换热器(2)的顶部设置有延伸至反应釜(1)内的循环管道(14),在反应釜(1)的另一侧设置有延伸至反应釜(1)内的辅料入料管(15),延伸至反应釜(1)内的循环管道(14)、辅料入料管(15)均位于分布器(5)、混料斗(6)之间,且辅料入料管(15)位于循环管道(14)上方,在循环管道(14)的管道末端设置有环形管一(16),在辅料入料管(15)的管道末端设置有环形管二(17),在环形管一(16)、环形管二(17)的环体下方均设置有若干个喷头。
2.根据权利要求1所述的一种带有分布器的氧化反应釜,其特征在于,所述反应釜(1)的顶部一侧还设置有压力传感器(18)和泄压管(19),所述泄压管(19)上设置有自动泄压阀(27)。
3.根据权利要求1所述的一种带有分布器的氧化反应釜,其特征在于,在反应釜(1)的底部包覆设置有夹套(20),所述夹套(20)的底部设置有进水口(21),夹套(20)的顶部一侧设置有出水口(22)。
4.根据权利要求1所述的一种带有分布器的氧化反应釜,其特征在于,在反应釜(1)与出料泵(11)之间的管道上以及换热器(2)的顶部与反应釜(1)之间的循环管道(14)上分别设置有温度传感器一(23)、温度传感器二(24)。
5.根据权利要求1所述的一种带有分布器的氧化反应釜,其特征在于,在进料管一(3)、进料管二(4)、出料管(12)、循环泵(13)与换热器(2)之间的管道以及辅料入料管(15)上均设置有流量调节阀(25)。
6.根据权利要求1所述的一种带有分布器的氧化反应釜,其特征在于,所述环形管一(16)的直径小于环形管二(17)的直径。
7.根据权利要求1所述的一种带有分布器的氧化反应釜,其特征在于,所述反应釜(1)的釜体上还设置有液位计(26)。
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