CN213380664U - 一种地坪工程用抛光机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种地坪工程用抛光机,包括底板,所述底板的上方设置有保护壳,所述保护壳的内部设置有驱动机构,所述底板的下方中部设置有沿垂直方向贯穿底板且与驱动机构连接的转杆,所述转杆下端设置有摩擦块;所述保护壳的内部设置有与摩擦块配合使用喷水机构,所述喷水机构包括设置于底板上的水箱、通过流通管设置于所述水箱上且位于底板下方的分流环形管、设置于所述分流环形管上且与摩擦块对应的喷头。本实用新型,通过摩擦块与喷水机构的配合能够使水对摩擦块抛光的区域进行冲刷,将摩擦块抛光过后地坪区域的脏污进行清理,便于摩擦块反复抛光地坪,从而保证了摩擦块对地坪抛光的工作质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及抛光机技术领域,尤其涉及一种地坪工程用抛光机。
背景技术
抛光机也称为研磨机,常常用作机械式研磨、抛光及打蜡。其工作原理是:电动机带动安装在抛光机上的海绵或羊毛抛光盘高速旋转,由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦,进而可达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的。抛光盘的转速一般在1500-3000r/min,多为无级变速,施工时可根据需要随时调整。
目前,现有的抛光机在使用过程中,抛光的工作效率不佳,会影响地坪的抛光质量,因此,提出一种地坪工程用抛光机来解决问题。
实用新型内容
本实用新型的目的是在于提供一种地坪工程用抛光机,旨在解决背景技术提出的问题。
为了实现上述目的,本实用新型的一种地坪工程用抛光机,包括底板,所述底板的上方设置有保护壳,所述保护壳的内部设置有驱动机构,所述底板的下方中部设置有沿垂直方向贯穿底板且与驱动机构连接的转杆,所述转杆下端设置有摩擦块,所述摩擦块的外侧设置于与摩擦块适配且与底板下方连接的罩体,所述底板的下方设置有移动机构;
所述保护壳的内部设置有与摩擦块配合使用喷水机构,所述喷水机构包括设置于底板上的水箱、通过流通管设置于所述水箱上且位于底板下方的分流环形管、设置于所述分流环形管上且与摩擦块对应的喷头。
优选地,所述移动机构包括设置于底板下方的两组固定架板、设置于所述固定架板之间的支撑轴、套设于所述支撑轴上的移动轮,所述底板左端的移动轮为吸水吸尘轮。
优选地,所述驱动机构包括升降机构、与升降机构配合使用的转动机构,所述升降机构包括设置于保护壳顶部的液压缸,沿垂直方向贯穿所述保护壳与液压缸连接的液压杆、设置于所述液压杆与转杆之间用于转动的轴承套。
优选地,所述转动机构包括设置于保护壳内顶壁的电机、设置于所述电机上转轴的主动齿轮、设置于所述转杆上且与主动齿轮啮合的从动齿轮。
优选地,所述底板的上方设置有用于推动底板的扶手,所述扶手的两端与底板之间设置有用于增加稳定的加强块。
本实用新型的有益效果:
1、本实用新型,通过摩擦块与喷水机构的配合能够使水对摩擦块抛光的区域进行冲刷,将摩擦块抛光过后地坪区域的脏污进行清理,便于摩擦块反复抛光地坪,从而保证了摩擦块对地坪抛光的工作质量。
2、本实用新型,通过驱动机构一方面便于摩擦块的升降作用,便于摩擦块的收纳,另一方面可以调动摩擦块转动对地坪进行抛光,从而采用简单的机械传动方式实现了对摩擦块的两种效果。
附图说明
图1为本实用新型的结构主视剖面示意图;
图2为本实用新型底板结构侧视示意图;
图3为本实用新型底板结构仰视示意图。
图中:1、底板;2、保护壳;3、液压缸;4、液压杆;5、轴承套;6、转杆;7、摩擦块;8、电机;9、转轴;10、主动齿轮;11、从动齿轮;12、罩体;13、扶手;14、水箱;15、分流环形管;16、喷头;17、固定架板;18、支撑轴;19、移动轮;20、加强块。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
本实用新型地坪工程用抛光机的具体实施例,如图1至图3所示,包括底板1,底板1的上方设置有保护壳2,保护壳2的内部设置有驱动机构,底板1的下方中部设置有沿垂直方向贯穿底板1且与驱动机构连接的转杆6,转杆6下端设置有摩擦块7,摩擦块7的外侧设置于与摩擦块7适配且与底板1下方连接的罩体12,底板1的下方设置有移动机构;
保护壳2的内部设置有与摩擦块7配合使用喷水机构,喷水机构包括设置于底板1上的水箱14、通过流通管设置于水箱14上且位于底板1下方的分流环形管15、设置于分流环形管15上且与摩擦块7对应的喷头16,摩擦块7与喷水机构的配合能够使水对摩擦块7抛光的区域进行冲刷,将摩擦块7抛光过后地坪区域的脏污进行清理,便于摩擦块7反复抛光地坪,从而保证了摩擦块7对地坪抛光的工作质量。
本实施例中,移动机构包括设置于底板1下方的两组固定架板17、设置于固定架板17之间的支撑轴18、套设于支撑轴18上的移动轮19,底板1左端的移动轮19为吸水吸尘轮,能够对抛光过后的污水进行清理。
本实施例中,驱动机构包括升降机构、与升降机构配合使用的转动机构,升降机构包括设置于保护壳2顶部的液压缸3,沿垂直方向贯穿保护壳2与液压缸3连接的液压杆4、设置于液压杆4与转杆6之间用于转动的轴承套5,驱动机构一方面便于摩擦块7的升降作用,便于摩擦块7的收纳,另一方面可以调动摩擦块7转动对地坪进行抛光,从而采用简单的机械传动方式实现了对摩擦块7的两种效果。
本实施例中,转动机构包括设置于保护壳2内顶壁的电机8、设置于电机8上转轴9的主动齿轮10、设置于转杆6上且与主动齿轮10啮合的从动齿轮11。
本实施例中,底板1的上方设置有用于推动底板1的扶手13,扶手13的两端与底板1之间设置有用于增加稳定的加强块20。
本实用新型工作原理:
在抛光时,液压缸3先启动带动液压杆4上的转杆6向下移动,转杆6带动摩擦块7移动与地坪接触,然后电机8通过转轴9带动主动齿轮10转动,主动齿轮10带动从动齿轮11上的转杆6转动,转杆6带动摩擦块7转动,使摩擦块7对地坪进行打磨抛光,同时喷头16将水箱14内的水喷洒到摩擦块7上,有效的增加了摩擦块7的抛光效果,最后底板1左端的移动轮19将抛光过后的污水进行吸附。
以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种地坪工程用抛光机,包括底板(1),其特征在于:所述底板(1)的上方设置有保护壳(2),所述保护壳(2)的内部设置有驱动机构,所述底板(1)的下方中部设置有沿垂直方向贯穿底板(1)且与驱动机构连接的转杆(6),所述转杆(6)下端设置有摩擦块(7),所述摩擦块(7)的外侧设置与摩擦块(7)适配且与底板(1)下方连接的罩体(12),所述底板(1)的下方设置有移动机构;
所述保护壳(2)的内部设置有与摩擦块(7)配合使用喷水机构,所述喷水机构包括设置于底板(1)上的水箱(14)、通过流通管设置于所述水箱(14)上且位于底板(1)下方的分流环形管(15)、设置于所述分流环形管(15)上且与摩擦块(7)对应的喷头(16)。
2.根据权利要求1所述的地坪工程用抛光机,其特征在于:所述移动机构包括设置于底板(1)下方的两组固定架板(17)、设置于所述固定架板(17)之间的支撑轴(18)、套设于所述支撑轴(18)上的移动轮(19),所述底板(1)左端的移动轮(19)为吸水吸尘轮。
3.根据权利要求1所述的地坪工程用抛光机,其特征在于:所述驱动机构包括升降机构、与升降机构配合使用的转动机构,所述升降机构包括设置于保护壳(2)顶部的液压缸(3),沿垂直方向贯穿所述保护壳(2)与液压缸(3)连接的液压杆(4)、设置于所述液压杆(4)与转杆(6)之间用于转动的轴承套(5)。
4.根据权利要求3所述的地坪工程用抛光机,其特征在于:所述转动机构包括设置于保护壳(2)内顶壁的电机(8)、设置于所述电机(8)上转轴(9)的主动齿轮(10)、设置于所述转杆(6)上且与主动齿轮(10)啮合的从动齿轮(11)。
5.根据权利要求1所述的地坪工程用抛光机,其特征在于:所述底板(1)的上方设置有用于推动底板(1)的扶手(13),所述扶手(13)的两端与底板(1)之间设置有用于增加稳定的加强块(20)。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN202022401938.8U CN213380664U (zh) | 2020-10-26 | 2020-10-26 | 一种地坪工程用抛光机 |
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CN202022401938.8U CN213380664U (zh) | 2020-10-26 | 2020-10-26 | 一种地坪工程用抛光机 |
Publications (1)
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CN213380664U true CN213380664U (zh) | 2021-06-08 |
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ID=76191159
Family Applications (1)
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CN202022401938.8U Active CN213380664U (zh) | 2020-10-26 | 2020-10-26 | 一种地坪工程用抛光机 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114131490A (zh) * | 2021-12-29 | 2022-03-04 | 哈尔滨安宇迪航空工业有限公司 | 一种抛光装置 |
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2020
- 2020-10-26 CN CN202022401938.8U patent/CN213380664U/zh active Active
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