CN212649737U - 线圈盘和电磁烹饪装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种线圈盘和电磁烹饪装置，该线圈盘(100)包括线圈支架(10)和绕设在线圈支架(10)上的多层线圈，线圈盘(100)的中心位置至边缘位置依次内环区域(20)和外环区域(30)，内环区域(20)和外环区域(30)之间具有圆环状的中间间隔区域(40)；在内环区域(20)和/或外环区域(30)中，靠近中间间隔区域(40)的线圈的绕设密度小于远离中间间隔区域(40)的线圈的绕设密度。本实用新型能够有效提高线圈盘上磁场分布的均匀性，从而减小线圈盘上的加热冷区和加热高温区，优化具有该线圈盘的电磁烹饪装置的加热效果。

Description

线圈盘和电磁烹饪装置

技术领域

本实用新型涉及家用电器技术领域，尤其涉及一种线圈盘和电磁烹饪装置。

背景技术

电磁炉作为一种常见的电磁烹饪器具，具有快速加热、无明火、安全方便等优点，受到越来越多消费者的青睐和认可。

电磁炉一般包括底壳、线圈盘和面板，底壳和面板围成容置腔，线圈盘设置在容置腔中。线圈盘包括线圈盘支架和盘设在线圈盘支架上的线圈，线圈由漆包线绕制而成，漆包线的端部脱漆处理后形成裸露导线并通过连接端子与容置腔中的电路板电性连接，电路板向线圈供电从而在线圈盘周围产生交变磁场，利用交变磁场对电磁炉面板上的锅具进行加热。在目前的线圈盘中，线圈中的导线绕制圈数由靠近线圈的中心到靠近线圈的边缘大致相等。

然而，现有的线圈盘存在磁场分布不均匀的问题，导致线圈盘上存在加热冷区和加热高温区，影响电磁炉的加热效果。

实用新型内容

为了解决背景技术中提到的至少一个问题，本实用新型提供一种线圈盘和电磁烹饪装置，能够有效提高线圈盘上磁场分布的均匀性，从而减小线圈盘上的加热冷区和加热高温区，优化具有该线圈盘的电磁烹饪装置的加热效果。

为了实现上述目的，第一方面，本实用新型提供一种线圈盘，包括线圈支架和绕设在线圈支架上的多层线圈，线圈盘的中心位置至边缘位置依次包括内环区域和外环区域，内环区域和外环区域之间具有圆环状的中间间隔区域。

在内环区域和/或外环区域中，靠近中间间隔区域的线圈的绕设密度小于远离中间间隔区域的线圈的绕设密度。

本实用新型提供的线圈盘，通过设置线圈支架和绕设在线圈支架上的多层线圈，利用线圈支架支撑线圈，并且限定线圈的绕设路径，从而提高了线圈设置的稳定性，增加了通电状态下线圈产生的磁场的稳定性。通过将线圈盘设置为由中心位置至边缘位置依次包括的内环区域和外环区域，并且相邻的环状区域之间具有中间间隔区域，通过调整不同环状区域中的线圈从而调整整个线圈盘产生磁场的分布情况。通过将内环区域和/或外环区域中，靠近中间间隔区域的线圈的绕设密度小于远离中间间隔区域的线圈的绕设密度，从而避免相邻环状区域中相互靠近的区域线圈分布密度较大，从而导致此处产生的磁场强度过高，因此本实用新型的设置方式可以有效均匀线圈产生的磁场强度，减小线圈盘上的加热冷区和加热高温区，增加线圈盘的加热均匀性，从而优化线圈盘的加热效果。

在上述的线圈盘中，可选的是，内环区域和/或外环区域中，靠近中间间隔区域的线圈的层数小于远离中间间隔区域的线圈的层数。

通过调整线圈层数，从而达到调整线圈绕设密度的目的，增加线圈盘产生的磁场的均匀性。

在上述的线圈盘中，可选的是，线圈支架包括支架本体和设置在支架本体上的多个隔板，多个隔板沿线圈盘的径向间隔设置，相邻的隔板之间形成线圈槽，线圈槽内绕设有多层线圈；

至少部分线圈槽内的线圈的上表面齐平。

通过将线圈设置在线圈槽中，可以提高线圈设置的稳定性。通过将至少部分线圈槽内的线圈的上表面设置为齐平，不仅可以增加线圈盘外表的美观性，同时保证线圈靠近线圈盘的加热面，从而增强线圈盘的加热效果。

在上述的线圈盘中，可选的是，在内环区域中，支架本体靠近中间间隔区域的一侧设置有圆环状的内环台阶，内环台阶的上表面高于内环区域中其余部分的支架本体的上表面；

内环台阶上设置有至少一个线圈槽，内环台阶上的线圈槽内的线圈的层数小于内环区域中其余部分的线圈槽内的线圈的层数；

这样的设置不仅可以减小内环区域中靠近中间间隔区域的线圈的绕设层数，同时利用内环台阶支撑线圈，保证线圈上表面齐平。

和/或，在外环区域中，支架本体靠近中间间隔区域的一侧设置有圆环状的外环台阶，外环台阶的上表面高于外环区域中其余部分的支架本体的上表面；

外环台阶上设置有至少一个线圈槽，外环台阶上的线圈槽内的线圈的层数小于外环区域中其余部分的线圈槽内的线圈的层数。

这样的设置不仅可以减小外环区域中靠近中间间隔区域的线圈的绕设层数，同时利用外环台阶支撑线圈，保证线圈上表面齐平。

在上述的线圈盘中，可选的是，线圈盘上设置有内环台阶和外环台阶，内环台阶和外环台阶上均设置有多个线圈槽时，

内环台阶上的线圈的上表面，外环台阶上的线圈的上表面，内环区域中内环台阶以外的线圈的上表面以及外环区域中外环台阶以外的线圈的上表面中任意两个或多个齐平；

和/或，内环台阶和外环台阶的宽度相等；

和/或，内环台阶上的线圈槽的数量等于外环台阶上的线圈槽的数量；

和/或，内环台阶上的多个线圈槽内的线圈的层数相等；

和/或，外环台阶上的多个线圈槽内的线圈的层数相等；

上述的设置可以提高线圈盘产生磁场的均匀性，从而优化线圈盘加热效果。

和/或，内环台阶的上表面与内环区域中内环台阶以外的支架本体的上表面的高度差等于单层线圈的高度；

和/或，外环台阶的上表面与外环区域中外环台阶以外的支架本体的上表面的高度差等于单层线圈的高度。

上述的设置可以保证线圈盘的上表面齐平，提高线圈盘外表的美观性，增强线圈盘的加热效果。

在上述的线圈盘中，可选的是，中间间隔区域的宽度的范围为5-30mm；

和/或，中间间隔区域的中心和线圈盘的中心位置之间的距离与线圈盘半径的比例范围为40％-60％；

在上述的线圈盘中，可选的是，内环台阶的宽度与内环区域的宽度的比例范围为15％-25％；

和/或，外环台阶的宽度与外环区域的宽度的比例范围为60％-70％。

第二方面，本实用新型提供一种电磁烹饪装置，包括线圈盘，该线圈盘位于电磁烹饪装置中。

本实用新型提供的电磁烹饪装置，通过在线圈盘中设置线圈支架和绕设在线圈支架上的多层线圈，利用线圈支架支撑线圈，并且限定线圈的绕设路径，从而提高了线圈设置的稳定性，增加了通电状态下线圈产生的磁场的稳定性。通过将线圈盘设置为由中心位置至边缘位置依次包括的内环区域和外环区域，并且相邻的环状区域之间具有中间间隔区域，通过调整不同环状区域中的线圈从而调整整个线圈盘产生磁场的分布情况。通过将内环区域和/或外环区域中，靠近中间间隔区域的线圈的绕设密度小于远离中间间隔区域的线圈的绕设密度，从而避免相邻环状区域中相互靠近的区域线圈分布密度较大，从而导致此处产生的磁场强度过高，因此本实用新型的设置方式可以有效均匀线圈产生的磁场强度，减小线圈盘上的加热冷区和加热高温区，增加线圈盘的加热均匀性，从而优化具有该线圈盘的电磁烹饪装置的加热效果。

本实用新型的构造以及它的其他实用新型目的及有益效果将会通过结合附图而对优选实施例的描述而更加明显易懂。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作以简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例一提供的线圈盘的线圈一侧的结构示意图；

图2为本实用新型实施例一提供的线圈盘的线圈支架一侧的结构示意图；

图3为本实用新型实施例一提供的线圈盘的线圈支架的顶面的结构示意图；

图4为本实用新型实施例一提供的线圈盘的线圈支架的底面的结构示意图；

图5为本实用新型实施例一提供的线圈盘的俯视图；

图6为本实用新型实施例一提供的图5中A-A截面的结构示意图；

图7为本实用新型实施例一提供的图5中I部分的局部示意图；

图8为本实用新型实施例一提供的图5中B-B截面的结构示意图；

图9为本实用新型实施利一提供的线圈盘的线圈的爆炸图；

图10为本实用新型实施例一提供的线圈盘的磁条的结构示意图；

图11为本实用新型实施例一提供的线圈盘的第一磁条的结构示意图；

图12为本实用新型实施例一提供的线圈盘的第二磁条的结构示意图。

附图标记说明：

100-线圈盘；10-线圈支架；11-支架本体；111-内环进线口；

112-内环出线口；113-外环进线口；114-外环出线口；12-隔板；

121-线圈槽；13-磁条；131-第一磁条；132-第二磁条；14-卡扣件；

15-碰穿孔；20-内环区域；21-内环台阶；21a-第一台阶面；

21b-第二台阶面；30-外环区域；31-外环台阶；40-中间间隔区域；

50-中心区域；60-引线；61-进线；611-内环进线；612-外环进线；

613-进线接线端子；62-出线；621-内环出线；622-外环出线；

623-出线接线端子；70-套管；71-进线套管；72-出线套管；80-热缩管。

具体实施方式

目前的电磁炉中，线圈盘一般放置在面板和底壳围成的容置腔中，线圈盘包括线圈支架和盘设在线圈支架上的线圈。线圈由漆包线绕制而成，漆包线的端部脱漆处理后形成裸露导线并通过连接端子与容置腔中的电路板电性连接，电路板向线圈供电从而在线圈盘周围产生交变磁场，利用交变磁场对电磁烹饪装置面板上的锅具进行加热。在目前的线圈盘中，线圈中的导线绕制圈数由靠近线圈盘的中心到靠近线圈盘的边缘大致相等，并且导向一般采用密绕方式从线圈盘的中心绕至线圈盘的边缘，即线圈盘上各个部分均绕制有线圈。然而，目前的线圈绕制方式会导致线圈盘上局部位置出现磁场叠加的问题，从而使得局部的磁场分布强度过高，引起磁场分布不均匀的问题。当线圈盘用于加热时，则对应会出现加热高温区和加热冷区，导致加热高温区的食物出现糊锅或者加热过度的情况，而在加热冷区出现食物夹生的情况，严重影响线圈盘以及具有该线圈盘的电磁炉的加热效果。

基于上述的技术问题，本实用新型提供的线圈盘和电磁烹饪装置，通过在线圈盘中设置线圈支架和绕设在线圈支架上的多层线圈，利用线圈支架支撑线圈，并且限定线圈的绕设路径，从而提高了线圈设置的稳定性，增加了通电状态下线圈产生的磁场的稳定性。通过将线圈盘设置为由中心位置至边缘位置依次包括的内环区域和外环区域，并且相邻的环状区域之间具有中间间隔区域，通过调整不同环状区域中的线圈从而调整整个线圈盘产生磁场的分布情况。通过将内环区域和/或外环区域中，靠近中间间隔区域的线圈的绕设密度小于远离中间间隔区域的线圈的绕设密度，从而避免相邻环状区域中相互靠近的区域线圈分布密度较大，从而导致此处产生的磁场强度过高，因此本实用新型的设置方式可以有效均匀线圈产生的磁场强度，减小线圈盘上的加热冷区和加热高温区，增加线圈盘的加热均匀性，从而优化具有该线圈盘的电磁烹饪装置的加热效果。

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型的优选实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行更加详细的描述。在附图中，自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。下面结合附图对本实用新型的实施例进行详细说明。

实施例一

图1为本实用新型实施例一提供的线圈盘的线圈一侧的结构示意图。图2为本实用新型实施例一提供的线圈盘的线圈支架一侧的结构示意图。图3为本实用新型实施例一提供的线圈盘的线圈支架的顶面的结构示意图。图4为本实用新型实施例一提供的线圈盘的线圈支架的底面的结构示意图。图5为本实用新型实施例一提供的线圈盘的俯视图。图6为本实用新型实施例一提供的图5中A-A截面的结构示意图。图7为本实用新型实施例一提供的图5中I部分的局部示意图。图8为本实用新型实施例一提供的图5中B-B截面的结构示意图。图9为本实用新型实施利一提供的线圈盘的线圈的爆炸图。图10为本实用新型实施例一提供的线圈盘的磁条的结构示意图。图11为本实用新型实施例一提供的线圈盘的第一磁条的结构示意图。图12为本实用新型实施例一提供的线圈盘的第二磁条的结构示意图。

参照图1至图12所示，本实用新型实施例一提供的线圈盘100，包括线圈支架10和绕设在线圈支架10上的多层线圈，线圈盘100的中心位置至边缘位置依次包括内环区域和外环区域，内环区域和外环区域之间具有圆环状的中间间隔区域。

在内环区域和/或外环区域中，靠近中间间隔区域40的线圈的绕设密度小于远离中间间隔区域40的线圈的绕设密度。

需要说明的是，本实施例提供的线圈盘100可以包括通过导磁材料制成的线圈支架10以及盘绕的多层线圈。其中线圈支架10和线圈盘100可以是图1和图2中示出的圆形结构，也可以根据电磁烹饪装置内部的安装空间的限制，调整为椭圆形或者方形结构，本实施例对此并不加以限制。

线圈支架10可以至少部分或全部采用导磁材料制成，从而形成线圈支架10的磁性部，该磁性部可以对线圈产生的磁感线具有聚拢和引导作用，使其作用于线圈盘100上方的烹饪锅具。该磁性部可以是位于线圈支架10和线圈之间的多个磁条13，即线圈支架10可以包括支架本体11和设置在支架本体11上的多个磁条13。多个磁条13在支架本体11上以线圈支架10的中心位置呈辐射状排布，线圈绕设在支架本体11和磁条13上，该磁条13的宽度以及高度可以根据线圈支架10的结构及需要设定，本实施例对此并不加以限制。其中，线圈支架10上的线圈可以是漆包线束沿线圈支架10的径向绕制而成，漆包线束是多根铜线缠绕或者绞合成股，外部包覆绝缘体(一般为漆皮)制成。

其中，线圈支架10上一般绕设有多层线圈，该多层线圈是通过漆包线束绕制多圈形成的，即上层的线圈可以放置在下层的线圈的上方，从而使得多层线圈呈现叠放的设置方式，这样的设置方式可以减小多层线圈占用空间，并且增加线圈的绕设密度，提高线圈产生的磁场强度。

本实施例中，线圈盘100被分为内环区域和外环区域，两个环状区域之间可以设置有中间间隔区域40，基于两个环状区域中的线圈产生的磁场在两者之间的中间间隔区域40会发生叠加，从而使得中间间隔区域40的磁场强度较高，而环状区域中远离中间间隔区域40的位置磁场强度则相对较低。基于上述的情况，本实施例将至少一个环状区域中的靠近中间间隔区域40的线圈的绕设密度适当降低，设置此处的绕设密度小于远离中间间隔区域40的线圈的绕设密度。当然，在实际使用中，可以是全部的或部分的环状区域按照上述的线圈绕设方式绕制线圈，本实施例对此并不加以限制。

作为本实施例的一种可实现的实施方式，内环区域和/或外环区域中，靠近中间间隔区域40的线圈的层数小于远离中间间隔区域40的线圈的层数。

需要说明的是，本实施例中将靠近中间间隔区域40的线圈的层数设置为小于远离中间间隔区域40的线圈的层数，通过调整线圈的绕至层数从而达到调整线圈绕设密度的目的，即在同一面积内，线圈的绕至层数减小，线圈的绕设密度相应降低，总而优化线圈盘100产生的磁场的均匀性。在实际使用中，还可以通过调整相邻线圈之间的间隔距离达到调整线圈绕设密度的目的，即在至少一个环状区域中，靠近中间间隔区域40的相邻线圈之间的间距大于远离中间间隔区域40的相邻线圈之间的间距。

其中，每个环状区域内绕设有线圈，中间间隔区域40空置。这样可以降低中间间隔区域40的磁场强度，中间间隔区域40还可以空置，即不绕设线圈。

需要说明的是，本实施例的内环区域20和外环区域30中均绕设有线圈，线圈包括至少两条引出的引线60，引线60可以连接至供电元件，从而利用供电元件向线圈中提供电流，实现线圈的发热过程。其中，内环区域20绕设有内环线圈，外环区域30绕设有外环线圈。

作为一种可实现的实施方式，内环线圈和外环线圈可以通过并联的方式连接，即内环线圈具有引出的两条引线60，分别为内环进线611和内环出线621，外环线圈同样具有引出的两条引线60，分别为外环进线612和外环出线622。参照图1至图3所示，内环进线611由支架本体11上的内环进线口111引出，外环进线612由支架本体11上的外环进线口113引出，两者在引出过程中合并形成进线61。至少部分内环进线611和至少部分外环进线612在合并后的进线61中电性连接形成进线61的接线端，两者可以利用热压的方式电性连接，热压过程中高温会将内环进线611和外环进线612外部的漆皮融化，并且将漆包线束中的导线压合实现连接电性连接。进线61的接线端连接有进线接线端子613，进线接线端子613的外部套设有热缩管80，以保证内环进线611和外环进线612的连接处的结构稳定性。与进线61类似的是，内环出线621由支架本体11上的内环出线口112引出，外环出线622由支架本体11上的外环出线口114引出，两者在引出过程中合并形成出线62。至少部分内环出线621和至少部分外环出线622电性连接形成出线62的接线端，出线62的接线端连接出线接线端子623，出线接线端子623的外部同样可以套设有热缩管80。

其中，至少部分引线60的外部可以套设有电性绝缘的套管70，进线61的外部可以套设有电性绝缘的进线套管71，出线62的外部可以套设有电性绝缘的出线套管72。进线套管71和出线套管72可以有效阻隔进线61和出线62与线圈盘100发生摩擦，从而减小两者的磨损，避免磨损后进线61或者出线62内部的导线外露，从而防止外露导线与线圈盘100上的电子元件接触产生短路的问题，提高了线圈盘100使用的稳定性和安全性。

作为另一种可实现的实施方式，内环线圈和外环线圈还可以选用串联的方式连接，即内环线圈和外环线圈仅具有进线和出线，两者的连接处具有连接线。进线、出线以及连接线中的任意一者或多者的外部可以套设上述的套管。在实际使用中，用户可以根据需要在上述的连接方式中选择内环线圈和外环线圈的具体连接方式，本实施例对此并不加以限制。

进一步地，为了保证线圈盘100上磁场分布的均匀性，在内环区域20和/或外环区域30中，靠近中间间隔区域40的至少部分线圈的层数小于远离中间间隔区域40的线圈的层数。可以是靠近中间间隔区域40的所有或者部分线圈的层数设置较少，内环区域20和/或外环区域30向中间间隔区域40辐射的磁场强度相应减小，从而减小位于中间间隔区域40的磁场强度。

参照图6和图7所示，线圈支架10包括支架本体11和设置在支架本体11上的多个圆环状隔板12，多个隔板12沿线圈盘100的径向间隔设置，相邻的隔板12之间形成线圈槽121，线圈槽121内绕设有多层线圈。

需要说明的是，本实施例的隔板12可以是整个完整的圆环状结构，也可以是多个圆环的弧段。多个隔板12沿线圈盘100的径向间隔设置，使得相邻的隔板12之间形成用于设置线圈的线圈槽121，相邻的线圈槽121的槽宽可以设置为相等，可以根据需要设置为不等，本实施例对此并不加以限制。每个线圈槽121内均绕设有多层线圈，线圈可以通过上下叠放的方式设置。线圈槽121可以有效限制线圈在线圈盘100上的设置位置，利用隔板12限制线圈在线圈盘100上的移位，从而提高线圈设置的稳定性。

在本实施例中，至少部分线圈槽121内的线圈的上表面齐平。当线圈槽121的线圈层数不等时，线圈的上表面齐平不仅可以保证整个线圈盘100外表的美观性，同时线圈盘100的上表面齐平可以保证线圈均靠近线圈盘100的上表面设置，层数较少的线圈槽121中的线圈靠近线圈的上表面，与线圈盘100上表面上待加热锅具的距离较小，从而增强了线圈产生的磁场作用在待加热锅具上的强度，提高了线圈盘100的加热效果。

具体的，在内环区域20中，支架本体11靠近中间间隔区域40的一侧设置有圆环状的内环台阶21，内环台阶21的上表面高于内环区域20中其余部分的支架本体11的上表面。

内环台阶21上设置有至少一个线圈槽121，内环台阶21上的线圈槽121内的线圈的层数小于内环区域20中其余部分的线圈槽121内的线圈的层数。

需要说明的是，该内环台阶21可以是完整的圆环状结构，也可以是圆环状的弧段结构，多个弧段沿着内环区域20的周向间隔设置。参照图7所示，内环台阶21可以是第一台阶面21a和第二台阶面21b形成的。内环区域20中线圈层数较少的部分位于该内环台阶21上，即内环台阶21上的线圈槽121中的线圈层数小于内环区域20中其余部分的线圈槽121内的线圈层数。如图6所示，内环台阶21上的线圈层数可以为2层，内环区域20中其余部分的线圈层数可以设置为3层，在实际使用中，上述的线圈层数还可以根据需要调整，本实施例对此并不加以限制。基于内环台阶21靠近中间间隔区域40，将内环台阶21上的线圈层数设置为较少，这样可以有效减小内环区域20中靠近中间间隔区域40的磁场的强度，从而避免该磁场辐射至中间间隔区域40，导致中间间隔区域40的磁场强度过高。

进一步地，该内环台阶21上表面高于内环区域20中其余部分的支架本体11的上表面，内环台阶21的上表面可以是21a示出的部分，内环区域20中其余部分的支架本体11的上表面可以是20a示出的部分。这样的设置可以保证设置在内环台阶21上的线圈的上表面与内环区域20中其余部分的线圈的上表面齐平，保证内环区域20外表的美观性，同时提高内环区域20中线圈的加热效果。

具体的，在外环区域30中，支架本体11靠近中间间隔区域40的一侧设置有圆环状的外环台阶31，外环台阶31的上表面高于外环区域30中其余部分的支架本体11的上表面。

外环台阶31上设置有至少一个线圈槽121，外环台阶31上的线圈槽121内的线圈的层数小于外环区域30中其余部分的线圈槽121内的线圈的层数。

需要说明的是，该外环台阶31同样可以是完整的圆环状结构，也可以是圆环状的弧段结构，多个弧段沿着外环区域30的周向间隔设置。该外环台阶31的形成类似于内环台阶21，其具有两个台阶面，此处不再赘述。外环区域30中线圈层数较少的部分位于该外环台阶31上，即外环台阶31上的线圈槽121中的线圈层数小于外环区域30中其余部分的线圈槽121内的线圈层数。外环台阶31上的线圈层数以及外环区域30中其余部分的线圈层数可以根据实际需要调整，本实施例对此并不加以限制。基于外环台阶31靠近中间间隔区域40，将外环台阶31上的线圈层数设置为较少，这样可以有效减小外环区域30中靠近中间间隔区域40的磁场的强度，从而避免该磁场辐射至中间间隔区域40，导致中间间隔区域40的磁场强度过高。

进一步地，该外环台阶31上表面高于外环区域30中其余部分的支架本体11的上表面，外环台阶31上表面与内环台阶21的上表面类似，外环区域30中其余部分的支架本体11的上表面与内环区域20中其余部分的支架本体11的上表面类似，此处不再赘述。这样的设置可以保证设置在外环台阶31上的线圈的上表面与外环区域30中其余部分的线圈的上表面齐平，保证外环区域30外表的美观性，同时提高外环区域30中线圈的加热效果。

其中，外环区域30中外环台阶31以外的线圈层数，以及内环区域20中内环台阶21以外的线圈层数可以是图7中h示出的部分，外环区域30中外环台阶31上的线圈层数，以及内环区域20中内环台阶21上的线圈层数可以是图7中i示出的部分。

具体的，当线圈盘100上设置有内环台阶21和外环台阶31，内环台阶21和外环台阶31上均设置有多个线圈槽121时，内环台阶21上的线圈的上表面，外环台阶31上的线圈的上表面，内环区域20中内环台阶21以外的线圈的上表面以及外环区域30中外环台阶31以外的线圈的上表面中任意两个或多个齐平。这样的设置可以保证整个线圈盘100外表面的美观性和线圈盘100的加热效果。

作为一种可实现的实施方式，内环台阶21和外环台阶31的宽度相等。参照图6所示，内环台阶21的宽度可以是图中b示出的部分，外环台阶31的宽度可以是图中d示出的部分。

作为一种可实现的实施方式，内环台阶21上的线圈槽121的数量等于外环台阶31上的线圈槽121的数量。在本实施例的附图6中，内环台阶21和外环台阶31上的线圈槽121的数量均为3个，在实际使用中，该数量可以根据需要调整，本实施例对此并不加以限制。

作为一种可实现的实施方式，内环台阶21上的多个线圈槽121内的线圈的层数相等，参照图6和图7所示，内环台阶21上的多个线圈槽121内的线圈的层数均为2层，该层数可以是图7中i示出分部分，层数相等可以提高内环台阶21上的线圈产生磁场的均匀性。

作为一种可实现的实施方式，外环台阶31上的多个线圈槽121内的线圈的层数相等，参照图6和图7所示，外环台阶31上的多个线圈槽121内的线圈的层数均为2层，该层数可以是图7中i示出分部分，层数相等可以提高外环台阶31上的线圈产生磁场的均匀性。

作为一种可实现的实施方式，内环台阶21的上表面与内环区域20中内环台阶21以外的支架本体11的上表面的高度差等于单层线圈的高度；

作为一种可实现的实施方式，外环台阶31的上表面与外环区域30中外环台阶31以外的支架本体11的上表面的高度差等于单层线圈的高度。

参照图7所示，内环台阶21的上表面与内环区域20中内环台阶21以外的支架本体11的上表面的高度差，或者外环台阶31的上表面与外环区域30中外环台阶31以外的支架本体11的上表面的高度差可以是图7中j示出的部分。单层线圈的高度可以是图7中k示出的部分。这样的设置可以保证线圈盘100的上表面齐平，提高线圈盘100外表的美观性，增强线圈盘100的加热效果。

作为一种可实现的实施方式，中间间隔区域40的宽度的范围为5-30mm，该宽度可以是图7中g示出的部分，中间间隔区域40的宽度过小，导致此处磁场分布过于密集，而中间间隔区域40宽度多大则导致内环区域20和/或外环区域30的面积过小，线圈分布的有效区域面积减小，降低了线圈盘100的加热效率，因此，在实际使用中，用户可以根据需要在上述范围内选定中间间隔区域40宽度的具体数值，本实施例对此并不加以限制。

作为一种可实现的实施方式，中间间隔区域40的中心和线圈盘100的中心位置之间的距离与线圈盘100半径的比例范围为40％-60％。参照图6所示，中间间隔区域40的中心与线圈盘100的中心位置之间的间距可以是图6中f示出的部分，其中线圈盘100中心位置可以是内环区域20的内侧部分，线圈盘100的半径可以是图6中e示出的部分，该线圈盘100的半径可以是内环区域20的内侧与外环区域30的外侧之间的间距。上述的比例限定可以保证中间间隔区域40位于整个线圈盘100半径上的中段，即磁场叠加强度最高的位置，在此处设置中间间隔区域40可以有效减小此处的磁场强度，保证整个线圈盘100磁场分布的均匀性。

作为一种可实现的实施方式，内环台阶21的宽度与内环区域20的宽度的比例范围为15％-25％。内环台阶21的宽度是图6中b示出的部分，内环区域20的宽度可以是图6中a示出的部分。当上述的比例过大时，导致内环台阶21占用较多的内环区域20，即内环区域20中线圈层数较少的部分过多，这样会降低内环区域20的加热效率；而当上述的比例过小时，内环台阶21占用较少的内环区域20，即内环区域20中线圈层数较少的部分过少，这样调整磁场强度的效果并不明显，在实际使用中，用户可以根据需要在上述的范围内选定内环台阶21的宽度与内环区域20的宽度的比例的具体数值，本实施例对此并不加以限制。

作为一种可实现的实施方式，外环台阶31的宽度与外环区域30的宽度的比例范围为60％-70％。外环台阶31的宽度是图6中d示出的部分，外环区域30的宽度是图6中c示出的部分。当上述的比例过大时，导致外环台阶31占用较大的外环区域30，即外环区域30中线圈层数较少的部分过多，这样会降低外环区域30的加热效率；而当上述的比例过大时，外环台阶31占用较少的外环区域30，即外环区域30中线圈层数较少的部分过少，这样调整磁场强度的效果并不明显，在实际使用中，用户可以根据需要在上述的范围内选定外环台阶31的宽度和外环区域30的宽度的比例的具体数值，本实施例对此并不加以限制。

其中，为提高线圈在线圈槽121中设置的稳定性，至少部分隔板12的靠近线圈槽121的槽口一侧设置有阻挡部，阻挡部用于阻挡线圈槽121内的线圈脱出线圈槽121。需要说明的是，本实施例的支架本体11可以是塑胶材料制成，在支架本体11的制造过程中，可以利用热压的方式使得隔板12靠近线圈槽121槽口的部分发生热熔形变，从而形成封挡部分槽口的阻挡部。当然该阻挡部还可以是通过连接件连接在隔板12上靠近槽口的位置。

参照图10至图12所示，本实施例的磁条13包括多个第一磁条131和多个第二磁条132，第一磁条131的两端分别延伸至线圈盘100的中心位置和线圈盘100的边缘位置，第二磁条132的第一端靠近中间间隔区域50设置，第二磁条132的第二端延伸至线圈盘100的边缘位置；多个第一磁条131和第二磁条132间隔设置且呈辐射状分布。需要说明的是，第一磁条131可以对内环区域20内的线圈以及外环区域30内线圈产生的磁场起到导磁的效果，第二磁条132可以有针对性地对外环区域30内线圈产生的磁场起到导磁的效果。

参照图6所示，线圈盘100的中心位置可以设置有中心区域50，该中心区域50可以为空置状态，即不绕设线圈，基于中心区域50会受到内环区域20内的线圈产生磁场的辐射，因此此处的磁场强度相应较高，将中心区域50空置有利于提高整个线圈盘100上磁场强度分布的均匀性。

参照图4所示，为提高引线60在支架本体11上的设置稳定性，支架本体11上会设置至少一个卡扣件14和至少一个碰穿孔15，该卡扣件14和碰穿孔15相对设置。其中，碰穿孔15的设置可以有效减小塑胶材质的支架本体11的模具在成型过程中的制造难度，将卡扣件14对应碰穿孔15设置，两者之间可以形成供引线60穿过的卡固区域，从而提高引线60在支架本体11设置的牢固度和稳定性。在实际使用中，卡扣件14和碰穿孔15均可以设置为多个，并且根据用户需要设置在支架本体11的任意位置，例如支架本体11的边缘位置，或者支架本体11上引线60的走线路径上等，本实施例对此并不加以限制。

实施例二

在上述实施例一的基础上，本实用新型实施例二提供一种电磁烹饪装置，包括实施例一的线圈盘，线圈盘位于电磁烹饪装置中。

需要说明的是，本实施例提供的电磁烹饪装置可以包括但不限于电磁炉，电磁热水壶以及电磁电饭煲。其他技术特征与实施例一相同，并能取得相同或相应的技术效果，此处不再一一赘述。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应作广义理解，例如，可以使固定连接，也可以是通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或者两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。术语“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或者位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或者暗示所指的装置或者元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非是另有精确具体地规定。

本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”、“第三”、“第四”等(如果存在)是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施例例如能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围。

Claims (11)

1.一种线圈盘，其特征在于，包括线圈支架(10)和绕设在所述线圈支架(10)上的多层线圈，所述线圈盘(100)的中心位置至边缘位置依次包括内环区域(20)和外环区域(30)，所述内环区域(20)和所述外环区域(30)之间具有圆环状的中间间隔区域(40)；

在所述内环区域(20)和/或所述外环区域(30)中，靠近所述中间间隔区域(40)的所述线圈的绕设密度小于远离所述中间间隔区域(40)的所述线圈的绕设密度。

2.根据权利要求1所述的线圈盘，其特征在于，所述内环区域(20)和/或所述外环区域(30)中，靠近所述中间间隔区域(40)的所述线圈的层数小于远离所述中间间隔区域(40)的所述线圈的层数。

3.根据权利要求1所述的线圈盘，其特征在于，所述线圈支架(10)包括支架本体(11)和设置在所述支架本体(11)上的多个隔板(12)，多个所述隔板(12)沿所述线圈盘(100)的径向间隔设置，相邻的所述隔板(12)之间形成线圈槽(121)，所述线圈槽(121)内绕设有多层所述线圈；

至少部分所述线圈槽(121)内的所述线圈的上表面齐平。

4.根据权利要求3所述的线圈盘，其特征在于，在所述内环区域(20)中，所述支架本体(11)靠近所述中间间隔区域(40)的一侧设置有圆环状的内环台阶(21)，所述内环台阶(21)的上表面高于所述内环区域(20)中其余部分的所述支架本体(11)的上表面；

所述内环台阶(21)上设置有至少一个所述线圈槽(121)，所述内环台阶(21)上的所述线圈槽(121)内的所述线圈的层数小于所述内环区域(20)中其余部分的所述线圈槽(121)内的所述线圈的层数；

和/或，在所述外环区域(30)中，所述支架本体(11)靠近所述中间间隔区域(40)的一侧设置有圆环状的外环台阶(31)，所述外环台阶(31)的上表面高于所述外环区域(30)中其余部分的所述支架本体(11)的上表面；

所述外环台阶(31)上设置有至少一个所述线圈槽(121)，所述外环台阶(31)上的所述线圈槽(121)内的所述线圈的层数小于所述外环区域(30)中其余部分的所述线圈槽(121)内的所述线圈的层数。

5.根据权利要求4所述的线圈盘，其特征在于，所述线圈盘(100)上设置有所述内环台阶(21)和所述外环台阶(31)，所述内环台阶(21)和所述外环台阶(31)上均设置有多个所述线圈槽(121)时，

所述内环台阶(21)上的所述线圈的上表面，所述外环台阶(31)上的所述线圈的上表面，所述内环区域(20)中所述内环台阶(21)以外的所述线圈的上表面以及所述外环区域(30)中所述外环台阶(31)以外的所述线圈的上表面中任意两个或多个齐平。

6.根据权利要求5所述的线圈盘，其特征在于，所述内环台阶(21)和所述外环台阶(31)的宽度相等；和/或，所述内环台阶(21)上的所述线圈槽(121)的数量等于所述外环台阶(31)上的所述线圈槽(121)的数量。

7.根据权利要求5所述的线圈盘，其特征在于，所述内环台阶(21)上的多个所述线圈槽(121)内的所述线圈的层数相等；和/或，所述外环台阶(31)上的多个所述线圈槽(121)内的所述线圈的层数相等。

8.根据权利要求5所述的线圈盘，其特征在于，所述内环台阶(21)的上表面与所述内环区域(20)中所述内环台阶(21)以外的所述支架本体(11)的上表面的高度差等于单层所述线圈的高度；和/或，所述外环台阶(31)的上表面与所述外环区域(30)中所述外环台阶(31)以外的所述支架本体(11)的上表面的高度差等于单层所述线圈的高度。

9.根据权利要求4-7中任一项所述的线圈盘，其特征在于，所述中间间隔区域(40)的宽度的范围为5-30mm；

和/或，所述中间间隔区域(40)的中心和所述线圈盘(100)的中心位置之间的距离与所述线圈盘(100)半径的比例范围为40％-60％。

10.根据权利要求7所述的线圈盘，其特征在于，所述内环台阶(21)的宽度与所述内环区域(20)的宽度的比例范围为15％-25％；

和/或，所述外环台阶(31)的宽度与所述外环区域(30)的宽度的比例范围为60％-70％。

11.一种电磁烹饪装置，其特征在于，包括权利要求1-10中任一项所述的线圈盘，所述线圈盘设置在所述电磁烹饪装置中。

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