CN212247190U - 一种坩埚蒸发装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种坩埚蒸发装置，包括容置槽以及坩埚，若干坩埚平行交错排列设置于容置槽内，坩埚的外壁均匀绕设有加热源，加热源与电源连接。其有益效果在于，通过在坩埚外壁均匀缠绕加热源，使得金属蒸镀材料均匀受热，在真空环境下，金属蒸镀材料原子或分子会沿着直线前进，向上附着在经过坩埚上部的基材，从而基材上镀成厚度均匀的薄膜。

Description

一种坩埚蒸发装置

技术领域

本实用新型涉及真空蒸镀技术领域，尤其涉及一种坩埚蒸发装置。

背景技术

真空电镀是指金属材料在真空条件下，运用化学、物理等特定手段进行有机转换，使金属转换成粒子，沉积或吸附在塑胶材料的表面形成膜，也就是我们所谓的镀膜。真空电镀又包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型，其中，真空蒸镀是指在真空环境下，采用一定的加热方式对蒸镀材料进行加热，使其熔融气化，气化后的蒸镀材料层积在基材上形成膜。

目前，在真空蒸镀蒸发蒸镀材料时，蒸镀材料存在受热不均匀的问题，为了解决这一问题。现有技术中通过在坩埚的内壁和外壁涂敷导热率不同的金属材料（如Cu、Ag和Al等），其中，内壁材料的导热率大于外壁材料的导热率。当对坩埚进行加热时，热量能够在内壁材料中快速传导，使得与蒸镀材料接触的内壁的温度均匀化，从而能够均匀地加热和蒸发蒸镀材料，获得均匀的镀膜。但上述方式存在着以下缺陷：第一，由于在坩埚内壁和外壁是由导热率高的金属材料制成，因此当需要在基材上镀覆上述金属时，该坩埚就不能使用，限制了坩埚的使用。第二，在坩埚上面涂敷Cu、Ag和Al等导热材料也极大的增加了真空蒸镀的成本。因此，为了解决坩埚内的蒸镀材料受热不均匀的问题，提供另一种坩埚蒸发装置。

发明内容

为了克服现有的技术的不足，本实用新型提供一种坩埚蒸发装置。

本实用新型技术方案如下所述：

一种坩埚蒸发装置，包括容置槽及坩埚，若干所述坩埚设置于所述容置槽内，所述坩埚的外壁均匀绕设有加热源，所述加热源与电源连接。

优选的，若干所述坩埚平行交错排列设置于所述容置槽内。

优选的，一列每个所述坩埚的中心和与之对应的另一列相邻两个所述坩埚的中心连接构成等边三角形。

优选的，所述容置槽的两侧壁开设若干通孔，所述加热源的两端穿过所述通孔与电源连接。

优选的，所述坩埚蒸发装置还包括底座，所述底座与所述容置槽连接。

优选的，所述坩埚呈圆柱形。

优选的，所述容置槽呈长方形。

根据上述方案的本实用新型，其有益效果在于，通过在坩埚外壁均匀缠绕加热源，使得金属蒸镀材料均匀受热，在真空环境下，均匀受热的蒸镀材料产生的蒸气沿着直线前进均匀的镀在基材上，从而基材上镀成厚度均匀的薄膜。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

在图中，1、容置槽，2、坩埚，3、加热源，4、底座，10、通孔。

具体实施方式

下面结合附图以及实施方式对本实用新型进行进一步的描述：

如图1所示，一种坩埚蒸发装置，包括容置槽1以及若干坩埚2，若干坩埚2平行交错排列设置于容置槽1内，且一列每个坩埚2的圆心和与之对应的另一列相邻两个坩埚2的圆心连接构成等边三角形。每个坩埚2的外壁均匀绕设有加热源3，接通电源后，置于坩埚2内的金属蒸镀材料均匀受热，从而获得均匀镀膜的基材。

该坩埚蒸发装置还包括底座4，底座4与容置槽1固定连接，容置槽1呈长方形。

在本实施例中，坩埚2在容置槽1内平行交错排列呈两列，第一列每个坩埚2的圆心和与之对应的第二列相邻两个坩埚2的圆心连接构成等边三角形。在真空环境下，基材经引导锟经过坩埚2时，由于坩埚2排列为规律的波浪形，所镀的膜是均匀的。

优选的，每个坩埚2呈圆柱形。坩埚2为多个时，每个坩埚2的外壁都均匀绕设有加热源3。该蒸发装置由多个小尺寸坩埚2组成，相对于大尺寸坩埚2，由于受热面积相对较小，因此能够进一步避免金属蒸镀材料受热不均匀。

优选的，容置槽1的两侧壁开设若干通孔10，加热源3的两端穿过通孔10与电源连接。接通电源对坩埚2进行加热时，加热源3与容置槽1内其他的坩埚2和加热源3分开，避免加热源3由于温度过高而发生短路。

通过在坩埚2外壁均匀缠绕加热源3，加热坩埚2，坩埚2内的金属蒸镀材料均匀受热后熔融蒸发，在真空条件下，金属蒸镀材料原子或分子会沿着直线前进，向上附着在经过坩埚2上部的基材，从而基材上镀成厚度均匀的薄膜。不会出现一部分基材所镀的膜较厚，另一部分基材膜较薄，甚至出现真空蒸镀气体分子浓度较高击穿基材的现象。

应当理解的是，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，而所有这些改进和变换都应属于本实用新型所附权利要求的保护范围。

上面结合附图对本实用新型专利进行了示例性的描述，显然本实用新型专利的实现并不受上述方式的限制，只要采用了本实用新型专利的方法构思和技术方案进行的各种改进，或未经改进将本实用新型专利的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本实用新型的保护范围内。

Claims (7)

1.一种坩埚蒸发装置，其特征在于，包括容置槽及坩埚，若干所述坩埚设置于所述容置槽内，所述坩埚的外壁均匀绕设有加热源，所述加热源与电源连接。

2.根据权利要求1所述坩埚蒸发装置，其特征在于，若干所述坩埚平行交错排列设置于所述容置槽内。

3.根据权利要求2所述坩埚蒸发装置，其特征在于，一列每个所述坩埚的中心和与之对应的另一列相邻两个所述坩埚的中心连接构成等边三角形。

4.根据权利要求1所述坩埚蒸发装置，其特征在于，所述容置槽的两侧壁开设若干通孔，所述加热源的两端穿过所述通孔与电源连接。

5.根据权利要求1所述坩埚蒸发装置，其特征在于，所述坩埚蒸发装置还包括底座，所述底座与所述容置槽连接。

6.根据权利要求1-5任一所述坩埚蒸发装置，其特征在于，所述坩埚呈圆柱形。

7.根据权利要求1-5任一所述坩埚蒸发装置，其特征在于，所述容置槽呈长方形。

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