KR101310296B1 - 열증착 장치 - Google Patents

열증착 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101310296B1
KR101310296B1 KR1020110091937A KR20110091937A KR101310296B1 KR 101310296 B1 KR101310296 B1 KR 101310296B1 KR 1020110091937 A KR1020110091937 A KR 1020110091937A KR 20110091937 A KR20110091937 A KR 20110091937A KR 101310296 B1 KR101310296 B1 KR 101310296B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
carrier
heater
plate
deposition
shaped metal
Prior art date
Application number
KR1020110091937A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20130028410A (ko
Inventor
김윤택
임조섭
Original Assignee
(주)엠엠티
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)엠엠티 filed Critical (주)엠엠티
Priority to KR1020110091937A priority Critical patent/KR101310296B1/ko
Priority to CN201280039699.1A priority patent/CN103748257A/zh
Priority to PCT/KR2012/006628 priority patent/WO2013035993A2/ko
Publication of KR20130028410A publication Critical patent/KR20130028410A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101310296B1 publication Critical patent/KR101310296B1/ko

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/26Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source

Abstract

본 발명은 기존의 텅스텐 필라멘트나 몰리브덴 보트 대신에 판형의 금속히터를 사용하여 증착 편차율을 감소시킨 열증착 장치에 관한 것으로서, 상세하게는 기재의 공전축에 평행하게 설치된 판형의 금속히터와 상기 판형의 금속히터 전면에 위치한 담체를 이용한 열증착 장치에 대한 것이다. 본 발명의 열증착 장치를 사용하여, 증착물질의 사용 효율을 증가시키고 기재에 증착물질을 균일하고 재현성 있게 증착시킬 수 있다.

Description

열증착 장치{Thermal Evaporator}
본 발명은 기존의 텅스텐 필라멘트나 몰리브덴 보트 대신에 판형의 금속히터를 사용하여 증착 편차율을 감소시킨 열증착 장치에 관한 것으로서, 상세하게는 기재의 공전축에 평행하게 설치된 판형의 금속히터와 상기 판형의 금속히터 전면에 위치한 담체를 이용한 열증착 장치에 대한 것이다. 본 발명의 열증착 장치를 사용하여, 증착물질의 사용 효율을 증가시키고 기재에 증착물질을 균일하고 재현성 있게 증착시킬 수 있다.
스마트폰의 경우 전면의 강화유리 전체를 입력수단으로 사용하기 때문에 강화유리 전면이 내지문성 표면을 가지며, 스마트폰의 수요가 증대됨에 따라 대량으로 내지문성 표면을 제조할 수 있는 방법이 개발되어 왔다.
종래의 내지문 표면 코팅 방법으로는 스퍼터링(Sputtering), 전자빔 증착(E-beam evaporation), 펄스파 레이저 증착(PLD;Pulsed Laser Deposition), 열증착(Thermal Evaporation) 등이 알려져 있으며, 이 중에서 열증착법은 공정이 단순하고 증착속도가 빠르며 장비의 가격이 상대적으로 저렴하다는 장점이 있다.
종래의 열증착 장치는 생산성을 위해 중앙에 히터 및 담체를 놓고, 상기 히터 및 담체 주변에 기재를 배열한 형태이며, 중앙에 설치된 히터로 담체를 가열하여 담체에 함유된 증착물질을 증발시켜 기재 표면에 증착한다. 이때 기재는 생산성을 더욱 높이기 위하여 공전 또는 공자전시킬 수 있다. 일반적으로 사용되는 히터와 담체는 도 1a, 2a와 같이 텅스텐 필라멘트나, 몰리브덴 보트 상에 다공성 세라믹 또는 금속으로 이루어진 담체를 올려놓은 형태이다.
그러나, 상기와 같은 형태는 도 1b, 2b에서와 같이 담체가 히터 위에 올려져 있어 증착물질의 50% 이하만 가까이 위치한 기재 방향으로 향하게 되며, 나머지 50% 증착물질은 담체 및 히터를 중심으로 배열된 공전 지그의 직경 정도의 거리를 지나 반대편 기재 표면에 도달하게 된다.
이 과정에서 증착물질의 사용 효율이 떨어질 뿐만 아니라 불순물과 반응하여 증착 품질을 전반적으로 저하시키게 된다. 또한, 종래의 히터들은 히터 구조로 인해 기재 표면 상하의 고른 증착이 어려우며, 특히 보트 형태의 히터는 증착 편차가 매우 크다는 문제점이 있다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 창안된 것으로, 기존의 텅스텐 필라멘트나 몰리브덴 보트 대신에 판형의 금속히터를 도입하여 증착 품질을 향상시키고 증착 편차율을 감소시킬 수 있는 열증착 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 증착물질을 함유한 담체, 상기 담체를 가열하는 텅스텐 필라멘트나 몰리브덴 보트, 상기 담체 전면에서 이동할 수 있도록 형성된 기재탑재용 지그를 포함하는 열증착 장치에 있어서, 기존의 텅스텐 필라멘트나 몰리브덴 보트를 기재의 공전축에 평행하게 설치된 판형의 금속히터로 대체하였으며, 상기 판형의 금속히터의 전면에 상기 담체를 위치시켰다.
또한, 본 발명의 열증착 장치는 상기 판형의 금속히터 전면에 상기 담체를 위치시키기 위하여 지지대를 형성할 수 있으며, 상기 판형의 금속히터와 담체 사이의 밀착성을 높이기 위하여 상기 판형의 금속히터 전면에 담체 지지용 스프링을 형성할 수도 있다. 이때, 상기 담체의 스프링에 대한 탈착이 용이하도록, 상기 담체의 단면이 사다리꼴 형태인 것이 바람직하다. 그리고, 상기 담체에 상기 판형의 금속히터 일측에 끼울 수 있는 고리 구조를 형성할 수도 있다 .
한편, 상기 담체의 열전도성을 향상시키기 위하여, 상기 담체는 금속 입자 또는 금속 와이어를 혼합한 세라믹 재질로 제작될 수 있으며, 이때 상기 담체의 전기 절연성을 유지하기 위하여, 상기 금속 입자 또는 금속 와이어의 직경이 1um ~ 0.1mm 이고, 상기 금속 입자 또는 금속 와이어의 함량은 1~50vol%인 것이 바람직하다.
또한, 상기 담체를 열전도율이 다른 2종류 이상의 다공성 물질로 구성하고 각각의 다공성 물질에 서로 다른 증착물질을 함유시켜, 히터 가열시 시차를 두고 서로 다른 물질이 기재에 증착되도록 할 수 있다.
그리고, 상기 금속히터의 수명을 연장하기 위하여, 상기 히터 표면에는 TiN, TiAlN, CrC 또는 CrN 중 어느 하나를 증착시킬 수 있으며, 상기 기재는 다양한 박막 증착 제품에 사용될 수 있으며, 바람직하게는 스마트폰 전면의 강화유리에 내지문 물질을 증착하는데 사용될 수 있다.
본 발명의 열증착 장치는 판형의 금속히터를 도입하여 고가의 증착물질의 사용 효율을 증가시키고 기재에 증착물질을 균일하고 재현성 있게 증착시킬 수 있다. 또한, 기화된 증착물질이 담체에 가까이 위치한 기재 방향으로만 전부 향하게 되므로 증착물질 내의 불순물 함량을 줄이고 증착 품질을 향상시킬 수 있다.
도 1a, 도 1b - 종래의 텅스텐 필라멘트 히터와 담체의 사용 형태 및 증착 과정을 보여주는 개념도
도 2a, 도 2b - 종래의 몰리브덴 보트 히터와 담체의 사용 형태 및 증착 과정을 보여주는 개념도
도 3a, 도 3b - 본 발명의 일실시예인 지지대를 이용한 판형 히터의 사용형태 및 증착 과정을 보여주는 개념도
도 4a, 도 4b - 본 발명의 일실시예인 스프링을 이용한 판형 히터의 사용형태 및 증착 과정을 보여주는 개념도
도 5a, 도 5b - 본 발명의 일실시예인 고리구조를 이용한 판형 히터의 사용형태 및 증착 과정을 보여주는 개념도
도 6 - 본 발명의 일실시예인 금속입자를 포함한 다공성 세라믹 재질로 이루어진 담체의 개념도
도 7 - 본 발명의 일실시예인 서로 다른 열전도율을 가진 다공성 물질로 구성된 담체의 개념도
이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야 한다.
본 발명은 종래의 증착물질을 함유한 담체, 상기 증착물질이 함유된 담체를 가열하는 히터, 상기 담체 전면에서 이동할 수 있도록 형성된 기재탑재용 지그를 포함하는 열증착 장치에 있어서, 상기 히터가 기재의 공전축에 평행하게 설치된 판형의 금속히터이고, 상기 판형의 금속히터의 전면에 상기 담체가 위치하는 것을 특징으로 한다.
즉, 본 발명의 열증착 장치는 도 3~5에서 볼 수 있듯이 기존의 텅스텐 필라멘트나 몰리브덴 보트를 기재의 공전축에 평행하게 설치된 판형의 금속히터로 대체하였으며, 상기 판형의 금속히터의 전면에 상기 담체를 위치시켰다.
도면에서 볼 수 있듯이, 담체 뒷면은 판형 금속히터로 막혀 있기 때문에 히터에 의해 가열되어 기화된 증착물질은 담체 전면으로 분사되어 가장 가까이 위치한 기재 방향으로만 향하게 된다.
따라서, 종래의 열증착 장치와 달리 증착물질이 반대편 기재 표면에 도달하여 불순물이 함유될 가능성이 적어지며, 기재 표면 상하의 고른 증착이 가능해진다.
한편, 담체를 판형의 금속히터 전면에 위치시키기 위하여, 담체를 잡아주는 다양한 수단을 적용할 수 있다. 일 실시예로서, 도 3a, 3b와 같이 판형 금속히터에 담체를 잡아줄 수 있는 지지대를 설치할 수 있으며, 도 4a, 4b와 같이 판형 금속히터에 스프링을 설치하여 히터와 담체 간의 밀착성을 향상시킬 수 있다. 이때, 상기 담체의 스프링에 대한 탈착이 용이하도록, 상기 담체의 단면이 사다리꼴 형태가 되도록 형성할 수 있다.
또한, 도 5a, 5b와 같이 상기 담체에 상기 판형의 금속히터 일측에 끼울 수 있도록 고리 구조를 만들 수 있으며, 이 경우 판형 금속히터의 구조가 단순하여 히터의 수명을 연장할 수 있다.
본 발명의 열 증착 장치에 사용되는 담체는 열전도성을 향상시키기 위하여 도 6에서와 같이 일반적인 세라믹 재질의 담체에 금속 입자 혹은 와이어를 혼합하여 성형할 수 있다. 다만, 히터와 담체 간의 접촉으로 인한 전기저항 변화와 이로 인한 가열 불균일, 증착 재현성 저하 등을 방지하기 위하여 담체의 전기 절연성은 유지되어야 하며, 따라서 상기 금속 입자 또는 와이어의 직경은 1um ~ 0.1mm 이고 조성은 1~50vol%인 것이 바람직하다.
이렇게 제작된 담체의 공극률은 5~30% 인 것이 바람직하며, 본 발명에서 사용되는 금속 성분은 고열에서 기화되지 않아야 하므로 저융점 금속인 인듐, 주석, 아연, 납, 알루미늄 등은 피하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 열 증착 장치에 사용되는 담체는 도 7에서와 같이 열전도율이 다른 2종류 이상의 다공성 물질로 구성할 수 있으며, 각각의 다공성 물질에 서로 다른 증착물질을 함유시켜 가열시 시차를 두고 서로 다른 증착물질을 기재에 증착시킬 수 있다.
한편, 본 발명의 판형의 금속히터의 수명을 연장하기 위하여, 상기 히터 표면에 TiN, TiAlN, CrC, CrN 등의 내산화성 물질을 코팅하는 것이 바람직하다. 본 발명의 열증착 장치는 모든 박막 증착 제품에 적용될 수 있으며, 바람직하게는 스마트폰 전면의 강화유리에 내지문 물질을 증착하는데 사용될 수 있다.
본 발명은 상술한 특정의 실시예 및 설명에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능하며, 그와 같은 변형은 본 발명의 보호 범위 내에 있게 된다.

Claims (12)

  1. 증착물질을 함유한 담체, 상기 증착물질이 함유된 담체를 가열하는 히터, 상기 담체 전면에서 이동할 수 있도록 형성된 기재탑재용 지그를 포함하고, 상기 담체와 상기 기재가 마주보는 상태에서 열증착될 수 있게 설치되는 열증착 장치에 있어서,
    상기 히터가 기재의 공전축에 평행하게 설치된 판형의 금속히터이고, 상기 금속히터에 상기 담체가 설치되어지되 상기 금속히터 전면에 상기 담체가 위치하는 것을 특징으로 하는 열증착 장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서,
    상기 판형의 금속히터 전면에 상기 담체를 위치시키기 위한 지지대가 형성되는 것을 특징으로 하는 열증착 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 판형의 금속히터와 담체 사이의 밀착성을 높이기 위하여, 상기 판형의 금속히터 전면에 담체 지지용 스프링이 형성되는 것을 특징으로 하는 열증착 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 담체의 스프링에 대한 탈착이 용이하도록, 상기 담체의 단면이 사다리꼴 형태인 것을 특징으로 하는 열증착 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 담체에 상기 판형의 금속히터 일측에 끼울 수 있는 고리 구조가 형성된 것을 특징으로 하는 열증착 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 담체의 열전도성을 향상시키기 위하여, 상기 담체가 금속 입자 또는 금속 와이어를 혼합한 세라믹 재질로 이루어진 것을 특징으로 하는 열증착 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 담체의 전기 절연성을 유지하기 위하여, 상기 금속 입자 또는 금속 와이어의 직경이 1um ~ 0.1mm 이고, 상기 금속 입자 또는 금속 와이어의 함량은 1~50vol%인 것을 특징으로 하는 열증착 장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 담체가 열전도율이 다른 2종류 이상의 다공성 물질로 구성되고 각각의 다공성 물질에 서로 다른 증착물질이 함유되어, 히터 가열시 시차를 두고 서로 다른 물질이 기재에 증착되는 것을 특징으로 하는 열증착 장치.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 금속히터의 수명을 연장하기 위하여, 상기 히터 표면에 TiN, TiAlN, CrC 또는 CrN 중 어느 하나가 코팅된 것을 특징으로 하는 열증착 장치.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 기재가 스마트폰 전면의 강화유리이고, 상기 증착물질이 내지문 물질인 것을 특징으로 하는 열증착 장치.


KR1020110091937A 2011-09-09 2011-09-09 열증착 장치 KR101310296B1 (ko)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110091937A KR101310296B1 (ko) 2011-09-09 2011-09-09 열증착 장치
CN201280039699.1A CN103748257A (zh) 2011-09-09 2012-08-21 热蒸镀装置
PCT/KR2012/006628 WO2013035993A2 (ko) 2011-09-09 2012-08-21 열증착 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110091937A KR101310296B1 (ko) 2011-09-09 2011-09-09 열증착 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130028410A KR20130028410A (ko) 2013-03-19
KR101310296B1 true KR101310296B1 (ko) 2013-09-24

Family

ID=47832684

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110091937A KR101310296B1 (ko) 2011-09-09 2011-09-09 열증착 장치

Country Status (3)

Country Link
KR (1) KR101310296B1 (ko)
CN (1) CN103748257A (ko)
WO (1) WO2013035993A2 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101539624B1 (ko) * 2013-08-08 2015-07-27 바코스 주식회사 증착 물질 연속 공급장치 및 이를 이용한 하향식 내지문 코팅 증착 장치와 인라인 설비

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015182950A1 (ko) * 2014-05-27 2015-12-03 주식회사 쎄코 진공증착용 발열조립체 및 이를 구비한 진공증착장치
CN113930729B (zh) * 2021-09-22 2024-04-05 铜陵市超越电子有限公司 一种金属化薄膜的高效蒸镀装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100363062B1 (ko) 2000-05-04 2002-12-02 한빛 세마텍(주) 웨이퍼 가열장치
KR100528892B1 (ko) * 2003-08-22 2005-11-15 신도현 진공환경에서 사용하는 발수 및 발유처리용 담체
KR100609632B1 (ko) 2004-02-17 2006-08-10 테크앤라이프 주식회사 세라믹 담체 및 그 제조방법
JP2008150678A (ja) * 2006-12-19 2008-07-03 Sony Corp 蒸発源、蒸着装置、蒸着方法、有機el表示装置の製造装置、及び有機el表示装置の製造方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3728462B2 (ja) * 1993-03-29 2005-12-21 キャノンオプトロン株式会社 表面処理方法及びそれに用いられる蒸着材料
JP2002363733A (ja) * 2001-06-04 2002-12-18 Nippon Sheet Glass Co Ltd 被膜の形成方法
US6881445B1 (en) * 2001-10-29 2005-04-19 Innovation Chemical Technologies, Ltd. Forming thin films on substrates using a porous carrier
JP2004353084A (ja) * 2003-05-08 2004-12-16 Sanyo Electric Co Ltd 蒸発装置の固定部材
KR20040097850A (ko) * 2003-05-13 2004-11-18 김영정 진공증착용 다공성 정제

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100363062B1 (ko) 2000-05-04 2002-12-02 한빛 세마텍(주) 웨이퍼 가열장치
KR100528892B1 (ko) * 2003-08-22 2005-11-15 신도현 진공환경에서 사용하는 발수 및 발유처리용 담체
KR100609632B1 (ko) 2004-02-17 2006-08-10 테크앤라이프 주식회사 세라믹 담체 및 그 제조방법
JP2008150678A (ja) * 2006-12-19 2008-07-03 Sony Corp 蒸発源、蒸着装置、蒸着方法、有機el表示装置の製造装置、及び有機el表示装置の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101539624B1 (ko) * 2013-08-08 2015-07-27 바코스 주식회사 증착 물질 연속 공급장치 및 이를 이용한 하향식 내지문 코팅 증착 장치와 인라인 설비

Also Published As

Publication number Publication date
WO2013035993A2 (ko) 2013-03-14
WO2013035993A3 (ko) 2013-05-02
CN103748257A (zh) 2014-04-23
KR20130028410A (ko) 2013-03-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101310296B1 (ko) 열증착 장치
CN108352217A (zh) 透光性导电薄膜和调光薄膜
Chan et al. The Effect of annealing on nanothick indium tin oxide transparent conductive films for touch sensors
CN212247190U (zh) 一种坩埚蒸发装置
TWI452157B (zh) 一種面型蒸鍍源及其蒸鍍方法與系統
Pachlhofer et al. Non-reactive dc magnetron sputter deposition of Mo-O thin films from ceramic MoOx targets
JP2019123243A (ja) 光透過性導電層付きフィルム
US20110203921A1 (en) Method of bonding rotatable ceramic targets to a backing structure
JP2019534937A (ja) 坩堝、蒸着装置及び蒸着システム
JP6549731B2 (ja) 基板を保持するための方法及び支持体
KR100767026B1 (ko) 유기발광소자 증착용 벨트형 면소스
JP2009143759A (ja) イオンプレーティング用蒸発源材料の原料粉末、イオンプレーティング用蒸発源材料及びその製造方法、ガスバリア性シート及びその製造方法
Mehta Overview of Coating Deposition Techniques
US20180096867A1 (en) Heating apparatus with controlled thermal contact
KR101684446B1 (ko) 태양 전지용 고 헤이즈 하부층
KR102500535B1 (ko) 하이브리드 투명 전도성 전극
Yang et al. Plasma exposure inducing crystallization of indium oxide film with improved electrical and mechanical properties at room temperature
JP2012067331A (ja) 成膜方法およびスパッタリング装置
JP4525637B2 (ja) 防汚性薄膜の形成方法
CN212247189U (zh) 一种线性蒸发源
KR20140000071A (ko) 진공증착용 발열조립체 및 이를 구비하는 진공증착장치
TWI331635B (en) Substrate holder
JP2014174459A (ja) リフレクター、および、その製造方法
Dhar et al. Controlled microwave processing of IGZO thin films for improved optical and electrical properties
CN212247186U (zh) 一种加热板式蒸发源

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160824

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee