CN212247189U - 一种线性蒸发源 - Google Patents
一种线性蒸发源 Download PDFInfo
- Publication number
- CN212247189U CN212247189U CN202020902842.7U CN202020902842U CN212247189U CN 212247189 U CN212247189 U CN 212247189U CN 202020902842 U CN202020902842 U CN 202020902842U CN 212247189 U CN212247189 U CN 212247189U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- evaporation source
- linear evaporation
- shaped crucible
- crucible
- linear
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本实用新型公开了一种线性蒸发源，其特征在于，包括长槽形坩埚以及绕设于长槽形坩埚四周外壁的加热部件，长槽形坩埚内设有放置金属蒸镀材料的容置腔，加热部件与电源连接。其有益效果在于，通电后，加热部件均匀加热使得线性蒸发源均匀受热，置于蒸发源内的金属蒸镀材料在蒸镀时也均匀受热并熔融气化，微粒团均匀的附着在与金属蒸镀材料对向设置的基材表面，从而减少微粒团溅射到镀膜上击穿镀膜。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空蒸镀技术领域，尤其涉及一种线性蒸发源。
背景技术
真空镀膜是在真空环境中，对蒸镀材料进行加热使其蒸发，从而使其在镀膜对象表面沉积形成薄膜，目前常用的真空镀膜方法主要包括真空蒸镀、分子束沉积和离子电镀。其中，真空镀膜方法中加热蒸镀材料的方法又包括比如电阻加热、电子束加热、激光束加热等方法。
现有的蒸发源主要是在蒸发槽中放置多个小型蒸发坩埚，其缺点有:一是多个小型蒸发坩埚的布置容易导致蒸发的金属微粒不均匀，从而使镀膜厚度不一致；二是加热部件不均匀的放置在坩埚的下方或者是其他位置来提供加热源，导致蒸发装置局部受热不均匀，容易激发出高温金属微粒团而将镀膜击穿。
以上问题，有待解决。
发明内容
为了克服现有的技术的不足，本实用新型提供一种线性蒸发源。
本实用新型技术方案如下所述：
一种线性蒸发源，其特征在于，包括长槽形坩埚以及均匀绕设于所述长槽形坩埚四周外壁的加热部件，所述长槽形坩埚内设有金属蒸镀材料的容置腔，所述加热部件与电源连接。
根据上述方案的本实用新型，其特征在于，所述长槽形坩埚呈倒梯形结构，所述容置腔呈倒梯形结构。
根据上述方案的本实用新型，其特征在于，所述长槽形坩埚的材料为耐高温材料。
根据上述方案的本实用新型，其特征在于，所述加热部件为发热盘管或发热丝。
根据上述方案的本实用新型，其特征在于，所述长槽形坩埚的长度为120cm-140cm。
根据上述方案的本实用新型，其特征在于，所述长槽形坩埚的上底边的宽度为30cm-50cm。
根据上述方案的本实用新型，其特征在于，所述长槽形坩埚的高度为30cm-40cm。
根据上述方案的本实用新型，其特征在于，所述容置腔的底部至所述长槽形坩埚的底部的厚度为1cm-5cm。
根据上述方案的本实用新型，其特征在于，所述容置腔的槽边厚度为1cm-3cm。
根据上述方案的本实用新型，其特征在于，所述槽边与所述长槽形坩埚的锅底呈α角度倾斜固定，其中，90°<α<180°。
根据上述方案的本实用新型，其有益效果在于，通电后，加热部件均匀加热使得线性蒸发源均匀受热，置于蒸发源内的金属蒸镀材料在蒸镀时也均匀受热并熔融气化，微粒团均匀的附着在与金属蒸镀材料对向设置的基材表面，从而减少微粒团溅射到镀膜上击穿镀膜。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
在图中，1、长槽形坩埚，2、加热部件，10、容置腔，100、槽边。
具体实施方式
下面结合附图以及实施方式对本实用新型进行进一步的描述：
如图1所示，一种线性蒸发源，包括长槽形坩埚1以及均匀绕设于长槽形坩埚1四周外壁的加热部件2，长槽形坩埚1内设有放置金属蒸镀材料的容置腔10。长槽形坩埚1呈倒梯形结构，容置腔10的槽边100围合形成倒梯形结构。
优选的，长槽形坩埚1的材料为耐高温材料，如石墨、钼等。
优选的，加热部件2为发热盘管或发热丝。
长槽形坩埚1的长度为120cm-140cm，长槽形坩埚1的上底边的宽度为30cm-50cm，长槽形坩埚1的高度为30cm-40cm。长槽形坩埚1的锅底厚度为1cm-5cm。
容置腔10的槽边100厚度为1cm-3cm。
槽边100与长槽形坩埚1的锅底呈α角度倾斜固定，其中，90°<α<180°。
蒸镀时，将线性蒸发源置于真空蒸镀设备的真空腔内，向长槽形坩埚1的容置腔10内放入金属蒸镀材料，金属蒸镀材料可以为铜、金、银、锌、铬、铝等任意一种。将真空腔内部空气减压后，通电加热线性蒸发源，容置腔10内的金属蒸镀材料熔融并蒸发或者金属蒸镀材料升华气化，然后微粒团均匀的附着在与金属蒸镀材料对向设置的基材表面，最终实现基材表面镀上均匀的薄膜。由于加热部件2均匀缠绕于长槽形坩埚1的外壁，通电后长槽形坩埚1均匀受热使得金属蒸镀材料在蒸镀时也能达到均匀受热，最终实现金属蒸镀材料均匀的镀在薄膜基材上，同时避免因受热不均匀产生的高温金属微粒团溅射在薄膜基材上导致击穿镀膜的现象。
应当理解的是，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，而所有这些改进和变换都应属于本实用新型所附权利要求的保护范围。
上面结合附图对本实用新型专利进行了示例性的描述，显然本实用新型专利的实现并不受上述方式的限制，只要采用了本实用新型专利的方法构思和技术方案进行的各种改进，或未经改进将本实用新型专利的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本实用新型的保护范围内。
Claims (10)
1.一种线性蒸发源，其特征在于，包括长槽形坩埚以及均匀绕设于所述长槽形坩埚四周外壁的加热部件，所述长槽形坩埚内设有放置金属蒸镀材料的容置腔，所述加热部件与电源连接。
2.根据权利要求1所述的线性蒸发源，其特征在于，所述长槽形坩埚呈倒梯形结构，所述容置腔呈倒梯形结构。
3.根据权利要求1所述的线性蒸发源，其特征在于，所述长槽形坩埚的材料为耐高温材料。
4.根据权利要求1所述的线性蒸发源，其特征在于，所述加热部件为发热盘管或发热丝。
5.根据权利要求1所述的线性蒸发源，其特征在于，所述长槽形坩埚的长度为120cm-140cm。
6.根据权利要求2所述的线性蒸发源，其特征在于，所述长槽形坩埚的上底边的宽度为30cm-50cm。
7.根据权利要求1所述的线性蒸发源，其特征在于，所述长槽形坩埚的高度为30cm-40cm。
8.根据权利要求1所述的线性蒸发源，其特征在于，所述容置腔的底部至所述长槽形坩埚的底部的厚度为1cm-5cm。
9.根据权利要求1所述的线性蒸发源，其特征在于，所述容置腔的槽边厚度为1cm-3cm。
10.根据权利要求9所述的线性蒸发源，其特征在于，所述槽边与所述长槽形坩埚的底部呈α角度倾斜固定，其中，90°<α<180°。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202020902842.7U CN212247189U (zh) | 2020-05-26 | 2020-05-26 | 一种线性蒸发源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202020902842.7U CN212247189U (zh) | 2020-05-26 | 2020-05-26 | 一种线性蒸发源 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN212247189U true CN212247189U (zh) | 2020-12-29 |
Family
ID=73976304
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202020902842.7U Expired - Fee Related CN212247189U (zh) | 2020-05-26 | 2020-05-26 | 一种线性蒸发源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN212247189U (zh) |
-
2020
- 2020-05-26 CN CN202020902842.7U patent/CN212247189U/zh not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN100513629C (zh) | 薄膜沉积用分子束源装置和分子束沉积薄膜的方法 | |
| US6086945A (en) | Method of forming polycrystalline silicon thin layer | |
| CN105821378B (zh) | 一种铌掺杂二氧化锡透明导电膜及其制备方法 | |
| US3560252A (en) | Vapor deposition method including specified solid angle of radiant heater | |
| KR101125008B1 (ko) | 하향식 증발원과 이를 구비한 증착장치 | |
| CN108203805A (zh) | 蒸镀设备及其磁性固定板 | |
| CN212247189U (zh) | 一种线性蒸发源 | |
| CN212247190U (zh) | 一种坩埚蒸发装置 | |
| CN212247186U (zh) | 一种加热板式蒸发源 | |
| CN211112181U (zh) | 一种蒸镀机构 | |
| KR101310296B1 (ko) | 열증착 장치 | |
| KR101087685B1 (ko) | 진공증착장치 | |
| CN215517609U (zh) | 一种电子束蒸镀装置 | |
| CN115029669B (zh) | 一种采用液态金属高功率脉冲磁控溅射提高沉积效率的方法 | |
| KR20180016150A (ko) | 스피팅 방지 구조체를 구비한 증착장치용 증발원 | |
| CN214271023U (zh) | 一种用于镀膜的蒸镀装置 | |
| CN108330444A (zh) | 一种制备硫化锌膜的方法 | |
| CN102051497A (zh) | 金银镶嵌靶材及其薄膜的制备方法 | |
| CN106637116B (zh) | 一种二次电子发射薄膜的简易制备方法 | |
| Karim et al. | Deposition of tin-doped indium oxide films by a modified reactive magnetron sputtering process | |
| CN106222618B (zh) | SnO2掺杂ZnO溅射靶材的制备方法 | |
| CN206486584U (zh) | 一种线状蒸发源及真空蒸镀装置 | |
| JP2002047559A (ja) | Ｉｔｏ膜及びその成膜方法 | |
| US3795783A (en) | Apparatus for surface coating articles | |
| US3673006A (en) | Method and apparatus for surface coating articles |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20201229 Termination date: 20210526 |
|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |