CN211729641U - 一种半自动陶瓷工件浸釉机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种半自动陶瓷工件浸釉机，包括设置于传送带上料端的浸釉系统，浸釉系统一侧设有浸釉槽，浸釉槽位于底座A上，底座A下方设有控制器；浸釉系统包括设置于底座B上的旋转机构，旋转机构上方设有上托盘和下托盘，上托盘和下托盘之间均匀设有若干组升降机构，若干组升降机构径向设置于上托盘及下托盘的四周，每组升降机构的顶端通过连杆安装有工件放置架，上托盘和下托盘上设有用于控制升降机构动作和旋转机构动作的限位机构，工件放置架设置于浸釉槽的上方；升降机构、旋转机构及限位机构均与控制器电连接。本实用新型可一次浸釉多个工件，结构简单合理，降低了工人的劳动强度，提高了生产效率，适用于陶瓷生产设备技术领域。

Description

一种半自动陶瓷工件浸釉机

技术领域

本实用新型属于陶瓷生产设备技术领域，具体的说，涉及一种半自动陶瓷工件浸釉机。

背景技术

陶瓷工件上的釉是覆盖在陶瓷制品表面的无色或有色的玻璃质薄层，是用矿物原料(长石、石英、滑石、高岭土等)和原料按一定比例配合(部分原料可先制成熔块)经过研磨制成釉浆，施于坯体表面，经一定温度煅烧而成。能增加制品的机械强度、热稳定性和电介强度，还有美化器物、便于拭洗、不被尘土腥秽侵蚀等特点。

通常陶瓷工件上的釉是通过手工浸釉的方法，将加工好的毛坯工件逐个浸入盛有釉的槽体中，然后取出，但是这种手工浸釉的方法，手部经常与釉接触，会对工人的身体造成伤害，劳动强度大，生产效率低。

实用新型内容

本实用新型提供一种一种半自动陶瓷工件浸釉机，用于解决传统陶瓷工件生产中采用手工浸釉的方法，手部经常与釉接触，对工人的身体造成伤害，劳动强度大，生产效率低的问题。

为实现上述目的，本实用新型所采用的技术方案如下：

一种半自动陶瓷工件浸釉机，包括设置于传送带上料端的浸釉系统，浸釉系统一侧设有浸釉槽，浸釉槽位于底座A上，底座A下方设有控制器；

浸釉系统包括设置于底座B上的旋转机构，旋转机构上方设有上托盘和下托盘，上托盘和下托盘之间均匀设有若干组升降机构，若干组升降机构径向设置于上托盘及下托盘的四周，每组升降机构的顶端通过连杆安装有工件放置架，上托盘和下托盘上设有用于控制升降机构动作和旋转机构动作的限位机构，工件放置架设置于浸釉槽的上方；所述升降机构、旋转机构及限位机构均与控制器电连接。

进一步的，所述旋转机构包括旋转电机、减速器和转轴，旋转电机和减速器固设于底座B上，旋转电机的输出轴与减速器的输入轴同轴固定，减速器的输出轴通过转轴与下托盘固定连接。

进一步的，所述升降机构包括气缸和导杆，导杆的两端分别与上托盘和下托盘固定连接，气缸设于导杆外侧，气缸的固定端与下托盘固定连接，连杆的一端套装在导杆上，工件放置架安装在连杆的另一端，气缸的活动端固设于连杆的两端之间，下托盘中间固设有金属管，金属管上端穿过上托盘通过气管与气源连接，下托盘上还设有用于控制气缸动作的电磁阀和用于控制陶瓷工件浸釉时间的时间继电器，金属管的下端通过电磁阀与气缸相连，所述电磁阀和时间继电器均与控制器相连。

进一步的，所述工件放置架包括形状为长方体结构的框架，框架上等距离垂直设有若干根用于使陶瓷工件间隔放置的金属丝，金属丝通过弹簧与框架相连。

进一步的，所述底座A一侧还设有储釉槽，所述储釉槽通过泵送循环系统与浸釉槽联通。

进一步的，所述泵送循环系统包括泵体，泵体的入口通过抽釉管与储釉槽相连通，泵体的出口通过供釉管与浸釉槽相连通，浸釉槽和储釉槽之间还设有回釉管。

进一步的，所述储釉槽还设有搅拌机构，搅拌机构包括搅拌电机和搅拌器，搅拌电机固设于储釉槽上方，搅拌器位于储釉槽内，搅拌器与搅拌电机的输出轴通过联轴器同轴固定。

进一步的，所述限位机构包括用于控制旋转机构动作的限位开关和用于控制升降机构动作的接近开关，限位开关固设于下托盘上，底座B上固设有限位挡板；接近开关固设于上托盘上，限位开关与接近开关与工件放置架的位置相应设置。

进一步的，所述搅拌器为框锚式搅拌器。

进一步的，所述下托盘上还安装有圆筒状的防护罩。

本实用新型由于采用了上述的结构，其与现有技术相比，所取得的技术进步在于：将浸釉系统设置在传送带的上料端，浸釉前，首先将加工好的毛坯零件放满一个工件放置架，然后启动浸釉系统，通过控制器使旋转机构转动，将毛坯工件放满其他工件放置架；浸釉时，旋转机构转动至浸釉槽上方，在限位机构作用下停止转动，通过升降机构使装满毛坯工件的一个工件放置架下降至浸釉槽中浸釉一定时间，然后升降机构在限位机构作用下使该工件放置架上升至原位置，旋转机构继续转动使另一个工件放置架转动至浸釉槽上方后再下降浸釉，浸釉一定时间后上升至原位置，以此类推；当工件放置架上的毛坯工件浸釉结束后，通过旋转机构，依次将工件放置架上浸釉后的工件取下，放于传送带上，输送至下一道工序；

综上，本实用新型脱离了手工浸釉的方法，通过升降机构使装满工件的工件放置架浸入浸釉槽浸釉，一次多件浸釉，并通过旋转机构实现不同工位工件放置架上的工件依次浸釉，既避免了手部经常与釉料接触，对工人的身体造成伤害，也降低了工人的劳动强度，自动化程度高，提高了生产效率，适用于陶瓷生产设备技术领域。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。

在附图中：

图1为本实用新型实施例的结构示意图；

图2为本实用新型实施例的浸釉系统结构示意图；

图3为本实用新型实施例的浸釉系统另一个角度的结构示意图；

图4为本实用新型实施例的工件放置架结构示意图；

图5为本实用新型实施例的搅拌机构结构示意图；

图6为图2中A处的局部放大图；

图7为图2中B处的局部放大图。

标注部件：1-工件放置架，11-框架，12-金属丝，13-弹簧，14-螺杆，15-传送带，2-连杆，21-凹槽，3-浸釉系统，31-上托盘，32-下托盘，33-底座B，331-限位挡板，34-气缸，341-导杆，342-电磁阀，343-时间继电器，35-导电滑环，361-旋转电机，362-减速器，363-转轴，364-金属管，365-气管接头，366-限位开关，367-连接片，368-接近开关，4-气管，41-气压表，5-浸釉槽，51-支撑杆，52-底座A，6-控制器，61-脚踏开关，71-供釉管，72-回釉管，73-泵体，74-抽釉管，75-储釉槽，76-搅拌机构，761-搅拌电机，762-联轴器，763-搅拌器，8-防护罩。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明。应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

本实用新型公开了一种半自动陶瓷工件浸釉机，如图1所示，包括设置在传送带15上料端的浸釉系统3，浸釉系统3一侧设置有浸釉槽5，浸釉槽5设置在底座A52上方，底座A52下方设置有控制器6；

浸釉系统3包括设置在底座B33上的旋转机构，旋转机构上方设置有上托盘31和下托盘32，上托盘31和下托盘32之间均匀设置有多组升降机构，多组升降机构径向设置在上托盘31及下托盘32的四周，每组升降机构的顶端通过连杆2安装有工件放置架1，上托盘31和下托盘32上设置有用于控制升降机构动作和旋转机构动作的限位机构，工件放置架1设置在浸釉槽5的上方；升降机构、旋转机构及限位机构均与控制器6电连接。

本实用新型的有益效果在于：将浸釉系统3设置在传送带15的上料端，浸釉前，首先将加工好的毛坯零件放满一个工件放置架1，然后启动浸釉系统3，通过控制器6使旋转机构转动，将毛坯工件放满其他工件放置架1；浸釉时，旋转机构转动至浸釉槽5上方，在限位机构作用下停止转动，通过升降机构使装满毛坯工件的一个工件放置架1下降至浸釉槽5中浸釉一定时间，然后升降机构在限位机构作用下使该工件放置架1上升至原位置，旋转机构继续转动使另一个工件放置架1转动至浸釉槽5上方后再下降浸釉，浸釉一定时间后上升至原位置，以此类推；当工件放置架1上的毛坯工件浸釉结束后，通过旋转机构，依次将工件放置架1上浸釉后的工件取下，放于传送带15上，输送至下一道工序。本实用新型脱离了手工浸釉的方法，通过升降机构使装满工件的工件放置架1浸入浸釉槽5浸釉，一次多件浸釉，并通过旋转机构实现不同工位工件放置架1上的工件依次浸釉，既避免了手部经常与釉料接触，对工人的身体造成伤害，也降低了工人的劳动强度，自动化程度高，提高了生产效率。

本实施例中，如图3所示，旋转机构包括旋转电机361、减速器362和转轴363，旋转电机361和减速器362固设于底座B33上，旋转电机361的输出轴与减速器362的输入轴同轴固定，减速器362的输出轴通过转轴363与下托盘32固定连接。

本实施例中，如图2所示，升降机构包括气缸34和导杆341，导杆341的两端分别与上托盘31和下托盘32固定连接，气缸34设于导杆341外侧，气缸34的固定端与下托盘32固定连接，连杆2的一端套装在导杆341上，工件放置架1安装在连杆2的另一端，气缸34的活动端通过螺杆连接固定安装连杆2的两端之间，连杆2上开设有用于与气缸34连接的凹槽21，下托盘32中间固定安装有金属管364，金属管364上端穿过上托盘31通过气管4与气源连接，下托盘32上还设有用于控制气缸34动作的电磁阀342和用于控制陶瓷工件浸釉时间的时间继电器343，当气缸34的活动端使工件放置架1下降浸入浸釉槽5中后，时间继电器343开始计时，到达规定时间后，将信号传递给控制器6控制电磁阀342动作，使气缸34活动端动作，带动工件放置架1上升离开浸釉槽5，金属管364的下端通过电磁阀342与气缸34相连，电磁阀342和时间继电器343均与控制器6相连。底座A52上焊接有用于气管4和导线固定的支撑杆51，支撑杆51为倒置的“L”形，气管4上安装有可调整气体压力的压力表，以保证气缸34动作顺畅。支撑杆51的末端固定安装有导电滑环35，金属管364上端穿过导电滑环35内孔后通过气管4接头365与气管4连接，导线从控制器6沿支撑杆51经导电滑环35定子后，从转子出来，沿金属管364下行与旋转机构和升降机构电连接。通过设置导电滑环35，可防止导线在旋转机构转动的过程拧结断线，导电滑环型号为：SRH2578-6P。为方便操作，底座B一侧还设有用于控制浸釉系统动作的脚踏开关61，脚踏开关61与控制器电连接。

作为本实用新型一个优选的实施例，如图4所示，工件放置架1包括形状为长方体结构的框架11，框架11上等距离垂直设有若干根用于毛坯工件间隔放置的金属丝12，金属丝12通过弹簧13与框架11相连。本实施例中，框架11是由12根金属杆焊接而成的长方体，框架11上端的两个金属杆焊接有两个螺杆14，两个螺杆14固定安装在连杆2的另一端。金属丝12的一端捆绑在框架11上端一根金属杆上，另一端绕过框架11下端后通过弹簧13与上端的另一根金属杆连接。金属丝12与竖直的金属杆、金属丝12与金属丝12之间形成毛坯工件放置的空间。金属丝12与工件接触面积小，对工件上釉效果影响小；通过设置弹簧13连接，方便调整金属丝12之间的距离，且金属丝12具有一定的张力，便于毛坯工件的取放。

作为本实用新型一个优选的实施例，为了使浸釉槽5内的釉料始终处于良好的状态，底座A52一侧还设置有储釉槽75，储釉槽75通过泵送循环系统与浸釉槽5联通。泵送循环系统包括泵体73，泵体73的入口通过抽釉管74与储釉槽75相的上部连通，泵体73的出口通过供釉管71与浸釉槽5的下部相连通，浸釉槽5和储釉槽75之间还设有回釉管72，回釉管72的一端与浸釉槽5的一侧下部联通，另一端通入储釉槽75内。通过泵送循环系统，使浸釉槽5和储釉槽75内的釉料实现循环流动，保证釉料的状态且不会沉淀，从而保证浸釉质量。储釉槽75还设有搅拌机构76，搅拌机构76包括搅拌电机761和搅拌器763，搅拌电机761固设于储釉槽75上方，搅拌器763位于储釉槽75内，搅拌器763与搅拌电机761的输出轴通过联轴器762同轴固定。所述搅拌器763为框锚式搅拌器763。通过设置搅拌机构76，使储釉槽75内用于与浸釉槽5循环的釉料状态更加均匀，进一步保证工件的浸釉质量。

作为本实用新型一个优选的实施例，如图6、图7所示，限位机构包括用于控制旋转机构动作的限位开关366和用于控制升降机构动作的接近开关368，限位开关366固定安装在下托盘32上，底座B33上焊接有限位挡板331，旋转机构转动时，限位开关366随下托盘32一起转动，每个与工件放置架1相对应的限位开关366遇到限位挡板331后，限位开关366将信号传递给控制器6，使旋转机构停止转动，电磁阀342动作，升降机构进行下一个浸釉动作或者放件取件的工序；接近开关368通过连接片367安装在上托盘31上，接近开关368位于凹槽21的上方位置处，当升降机构通过气缸34推动连杆2上升至接近开关368位置一定距离时，接近开关368将信号传递给控制器6控制连杆2停止上升，浸釉系统3进入下一步动作。

作为本实用新型一个优选的实施例，如图1所示，下托盘32上还安装有圆筒状的防护罩8。通过设置防护罩8，可使工件放置架1从浸釉槽5出来后所携带的釉料在低落过程中溅射到下托盘32上的升降机构等部件，保证设备整洁卫生，延长使用寿命。为便于便于检修观察，本实施中圆筒状防护罩8为透明材质。

最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型权利要求保护的范围之内。

Claims (10)

1.一种半自动陶瓷工件浸釉机，其特征在于：包括设置于传送带上料端的浸釉系统，浸釉系统一侧设有浸釉槽，浸釉槽位于底座A上，底座A下方设有控制器；

浸釉系统包括设置于底座B上的旋转机构，旋转机构上方设有上托盘和下托盘，上托盘和下托盘之间均匀设有若干组升降机构，若干组升降机构径向设置于上托盘及下托盘的四周，每组升降机构的顶端通过连杆安装有工件放置架，上托盘和下托盘上设有用于控制升降机构动作和旋转机构动作的限位机构，工件放置架设置于浸釉槽的上方；所述升降机构、旋转机构及限位机构均与控制器电连接。

2.根据权利要求1所述的一种半自动陶瓷工件浸釉机，其特征在于：所述旋转机构包括旋转电机、减速器和转轴，旋转电机和减速器固设于底座B上，旋转电机的输出轴与减速器的输入轴同轴固定，减速器的输出轴通过转轴与下托盘固定连接。

3.根据权利要求1所述的一种半自动陶瓷工件浸釉机，其特征在于：所述升降机构包括气缸和导杆，导杆的两端分别与上托盘和下托盘固定连接，气缸设于导杆外侧，气缸的固定端与下托盘固定连接，连杆的一端套装在导杆上，工件放置架安装在连杆的另一端，气缸的活动端固设于连杆的两端之间，下托盘中间固设有金属管，金属管上端穿过上托盘通过气管与气源连接，下托盘上还设有用于控制气缸动作的电磁阀和用于控制陶瓷工件浸釉时间的时间继电器，金属管的下端通过电磁阀与气缸相连，所述电磁阀和时间继电器均与控制器相连。

4.根据权利要求1所述的一种半自动陶瓷工件浸釉机，其特征在于：所述工件放置架包括形状为长方体结构的框架，框架上等距离垂直设有若干根用于使陶瓷工件间隔放置的金属丝，金属丝通过弹簧与框架相连。

5.根据权利要求1所述的一种半自动陶瓷工件浸釉机，其特征在于：所述底座A一侧还设有储釉槽，所述储釉槽通过泵送循环系统与浸釉槽联通。

6.根据权利要求5所述的一种半自动陶瓷工件浸釉机，其特征在于：所述泵送循环系统包括泵体，泵体的入口通过抽釉管与储釉槽相连通，泵体的出口通过供釉管与浸釉槽相连通，浸釉槽和储釉槽之间还设有回釉管。

7.根据权利要求5所述的一种半自动陶瓷工件浸釉机，其特征在于：所述储釉槽还设有搅拌机构，搅拌机构包括搅拌电机和搅拌器，搅拌电机固设于储釉槽上方，搅拌器位于储釉槽内，搅拌器与搅拌电机的输出轴通过联轴器同轴固定。

8.根据权利要求1所述的一种半自动陶瓷工件浸釉机，其特征在于：所述限位机构包括用于控制旋转机构动作的限位开关和用于控制升降机构动作的接近开关，限位开关固设于下托盘上，底座B上固设有限位挡板；接近开关固设于上托盘上，限位开关与接近开关与工件放置架的位置相应设置。

9.根据权利要求7所述的一种半自动陶瓷工件浸釉机，其特征在于：所述搅拌器为框锚式搅拌器。

10.根据权利要求1所述的一种半自动陶瓷工件浸釉机，其特征在于：所述下托盘上还安装有圆筒状的防护罩。

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