CN211591915U - 耐磨耐温烫印膜 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种耐磨耐温烫印膜。所述耐磨耐温烫印膜包括依次层叠设置的薄膜基层、离型层、耐磨层、成像层、金属反射层、结构保护层及背胶层，所述成像层的一表面具有全息图像微纳米结构，所述金属反射层紧密贴合于所述成像层设有全息图像微纳米结构的表面，所述结构保护层紧密贴合于所述金属反射层背向所述成像层的表面。本实用新型的技术方案能够提升烫印膜的耐磨和耐温性。

Description

耐磨耐温烫印膜

技术领域

本实用新型涉及烫印膜技术领域，特别涉及一种耐磨耐温烫印膜。

背景技术

烫印膜已广泛应用于包装领域，相对于传统的印刷技术，烫印膜色彩绚丽且极具动感，并具有一定的防伪力度。烫印膜的背面设有与物体粘接的背胶层，当背胶层与物体粘接固定后，剥离烫印膜正面的PET薄膜层，即可露出设有防伪图案的成像层。现有烫印膜的成像层直接与外界环境接触，可能会受到外界的磕碰、撞击而摩擦受损，且容易受到温度影响，进而影响烫印膜的成像质量。

上述内容仅用于辅助理解本实用新型的技术方案，并不代表承认上述内容是现有技术。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提供一种耐磨耐温烫印膜，旨在提升烫印膜的耐磨和耐温性能。

为实现上述目的，本实用新型提出的耐磨耐温烫印膜，包括依次层叠设置的薄膜基层、离型层、耐磨层、成像层、金属反射层、结构保护层及背胶层，所述成像层的一表面具有全息图像微纳米结构，所述金属反射层紧密贴合于所述成像层设有全息图像微纳米结构的表面，所述结构保护层紧密贴合于所述金属反射层背向所述成像层的表面。

可选地，所述耐磨层的材质为丙烯酸清漆或有机硅清漆。

可选地，所述耐磨层背向所述成像层的表面设置有纳米颗粒层或高分子树脂层。

可选地，所述耐磨层的厚度范围为0.5μm至8μm；和/或，所述结构保护层的厚度范围为0.1μm至2μm。

可选地，所述结构保护层的材质选用热塑性树脂或交联体系树脂。

可选地，所述背胶层的厚度范围为700μm至900μm。

可选地，所述成像层与所述金属反射层之间还设有二维码标签。

可选地，所述成像层背向所述耐磨层的表面设置有激光防伪图案，所述激光防伪图案与所述二维码标签相互错开设置。

可选地，所述激光防伪图案与所述二维码标签的颜色不同。

可选地，所述金属反射层为厚度范围为30nm-50nm的铝层。

本实用新型的技术方案，通过在烫印膜的在成像层和离型层之间设置耐磨层，可实现对成像层的防护，避免成像层被刮花或磨损掉色，进而保证成像层的图案完整且清晰度高，以提升烫印膜的显示效果。同时，在金属反射层和背胶层之间设置结构保护层，可以实现对成像层微纳米结构的固化，提高烫印膜的全息图案的耐温性能。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本实用新型耐磨耐温烫印膜一实施例的结构示意图；

图2为本实用新型耐磨耐温烫印膜另一实施例的结构示意图。

附图标号说明：

标号	名称	标号	名称
				100	烫印膜	50	二维码标签
10	薄膜基层	60	金属反射层
				20	离型层	70	结构保护层
30	耐磨层	80	背胶层
				40	成像层

本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明，本实用新型实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，在本实用新型中如涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“连接”、“固定”等应做广义理解，例如，“固定”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

另外，本实用新型各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。

本实用新型提出一种耐磨耐温烫印膜100。

请参阅图1，在本实用新型耐磨耐温烫印膜100一实施例中，耐磨耐温烫印膜100包括依次层叠设置的薄膜基层10、离型层20、耐磨层30、成像层40、金属反射层60、结构保护层70及背胶层80，所述成像层40的一表面具有全息图像微纳米结构，所述金属反射层60紧密贴合于所述成像层40设有全息图像微纳米结构的表面，所述结构保护层70紧密贴合于所述金属反射层60背向所述成像层40的表面。

这里薄膜基层10一般采用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜层，PET薄膜是以聚对苯二甲酸乙二醇酯为原料，采用挤出法制成厚片，再经双向拉伸制成的薄膜材料，其具有良好的透明性和气密性。离型层20是由是离型剂所形成的，用于防止成型的薄膜层与成像层40相互粘接，按照离型剂的不同状态，离型层20可以为薄膜、膏状或蜡状。成像层40是烫印膜100最主要的涂层，决定烫印膜100的颜色、亮度、切边性、柔韧性、耐高温、耐磨损等主要性能。金属反射层60主要使得膜片发出闪闪发亮的金属光泽，使色层颜色增光添彩，这正是烫金所追求的效果。背胶层80是由压敏胶或热熔胶形成的，用于将烫印膜100粘接固定在待印制的表面。在成像层40和离型层20之间设置耐磨层30，可实现对成像层40的防护，避免成像层40被刮花或磨损掉色，进而保证成像层40的图案完整且清晰度高，以提升烫印膜100的显示效果。由于成像层40的一表面具有全息图像微纳米结构，将金属反射层60紧密贴合于其全息图像微纳米结构，可以将该全息图案微纳米结构拓印到金属反射层60上。并且，金属反射层60和背胶层80之间设置结构保护层70，以对全息图像微纳米结构进行保护，这里结构保护层70朝向金属反射层60的表面形成有与全息图像微纳米结构相适配的表面，并紧密贴合于金属反射层60，这样可以实现对成像层40微纳米结构的固化，保护烫印膜100的全息图像不被高温所破坏。

因此，可以理解的，本实用新型的方案，通过在烫印膜100的在成像层40和离型层20之间设置耐磨层30，可实现对成像层40的防护，避免成像层40被刮花或磨损掉色，进而保证成像层40的图案完整且清晰度高，以提升烫印膜100的显示效果。同时，在金属反射层60和背胶层80之间设置结构保护层70，可以实现对成像层40微纳米结构的固化，提高烫印膜100的全息图案的耐温性能。

可以理解的，烫印膜100最终需要将薄膜基层10撕除，离型层20的作用是便于薄膜基层10与成像层40的脱离，离型层120的离型剂可以为OP蜡、OPE蜡或蒙旦蜡中的一种。其中，OP蜡离型剂价格便宜、使用方便、无毒、脱模效果好，因此，在本实施例中，该离型层20所采用的离型剂优选为OP蜡。

可选地，耐磨层30的材质为丙烯酸清漆或有机硅清漆。

这里丙烯酸清漆的主要成分是丙烯酸树脂、体质颜料助剂和有机溶剂等，丙烯酸清漆可常温干燥，具有良好的耐候性、耐光性、耐热性、防霉性及附着力。此外，丙烯酸清漆层不仅具有良好的耐磨性能，还具有良好的耐温、耐候性，如此，本实用新型通过在成像层40与离型层20之间设置耐磨层30，使得撕下薄膜层和离型层20后，耐磨层30粘接固定在成像层40面向离型层20的层面上，进而通过丙烯酸清漆材质的耐磨层30对成像层40起到耐温和耐磨的双重防护作用。有机硅清漆的主要成分是有机硅，耐磨层30也可选用有机硅清漆材料，以实现对成像层40的防护。

一般地，耐磨层30由空气喷涂工艺或光固化工艺粘接固定在成像层40的层面，由于丙烯酸清漆和有机硅清漆的初始状态均为液态，为了将液态的耐磨层30均匀地涂覆在成像层40与离型层20之间，通常采用的做法是通过空气喷涂工艺涂覆耐腐蚀层。空气喷涂工艺的具体工作原理是：利用压缩空气的气流，流过喷枪喷嘴孔形成负压，负压使丙烯酸清漆或有机硅清漆从吸管吸入，经喷嘴喷出，进而形成漆雾，该漆雾喷射到成像层40表面上形成均匀的耐磨层30。

进一步地，耐磨层30背向成像层40的表面设置有纳米颗粒层或高分子树脂层。

纳米颗粒层或高分子层的设置，可进一步提高冷烫膜的耐磨性能。纳米颗粒可选用纳米金属粒子，具有较高的硬度，能够大幅度提高冷烫膜表面的耐磨能力，从而有效地避免成像层40被刮花。当然的，纳米颗粒亦可选用纳米非金属粒子，比如纳米氧化钛，纳米氧化钙等，以大幅度提高冷烫膜表面的耐磨能力。

可选地，耐磨层30的厚度范围为0.5μm至8μm；

这里耐磨层30的厚度要选择适宜，比如采用耐磨层30的厚度为0.5μm、或3μm、或6μm、或8μm。如若耐磨层30的厚度小于0.5μm，则耐磨效果不明显，或随着使用时间的延长，其耐磨效果逐渐消除；如若耐磨层30的厚度大于8μm，则会影响冷烫耐磨膜的显示效果，而且还会增加成本，造成资源浪费。优选地，耐磨层30的厚度为0.5μm至3μm。

可选地，结构保护层70的厚度范围为0.1μm至2μm。这里结构保护层70的主要是用来拓印出成像层40的微纳米结构，并在一定温度下保持结构不变，以实现对成像层40全息图案微纳米结构的保护，故其厚度要选择适宜，一般选用其厚度为0.1μm、0.5μm、1μm或2μm。

可选地，结构保护层70的材质选用热塑性树脂或交联体系树脂。

这里结构保护层70一般为树脂层，采用热塑性树脂或交联体系树脂，这里热塑性树脂只有在极端条件下才会发生化学反应，具有良好的化学结构稳定性。交联体系树脂是线型或支型高分子链间以共价键连接所形成网状或体型高分子，其具有良好的力学强度、弹性、尺寸稳定性和耐溶剂性等。可以理解的，由于热塑性树脂和交联体系可以具有良好的耐温性和结构稳定性，并且玻璃化温度较高，可以作为结构保护层70使用。

可选地，热塑性树脂为纤维素硝酸酯、乙酸丁酸纤维素、聚碳酸酯、聚丙烯酰胺、聚乙烯咔唑、苯乙烯-马来酸酐共聚物、丙烯酸树脂中的一种。

在本实用新型的一实施例中，背胶层80为强力胶层。强力胶层可以对烫印膜100起到更好的保护，且能够大大增加烫印膜100的延展性，耐拉伸，不容易出现折痕，不会出现全息图案断裂的现象，使得烫印膜100的寿命延长。

需要说明的是，这里背胶层80的厚度一般选用700μm-900μm，比如700μm、800μm或900μm。

进一步地，请参阅图2，在本实用新型的一实施例中，成像层40与金属反射层60之间还设有二维码标签50。

这里二维码标签50用于制作防伪标识或用于向人们展示相关内容和信息。二维码标签50设于成像层40与金属反射层60之间，这样可以避免二维码标签50直接外露，有效地避免了二维码标签50被刮花的风险。

可选地，成像层40背向耐磨层30的表面设置有激光防伪图案，激光防伪图案与二维码标签50相互错开设置。这样可以有效避免激光防伪图案和二维码标签50相互重合而造成的识别干扰。

进一步地，激光防伪图案与二维码标签50的颜色不同。二者选用不同的延伸，以有利于人们的肉眼识别，增强两者的区别程度。

可选地，金属反射层60为厚度范围为30nm-50nm的铝层。

这里金属反射层60选用镀铝层，镀铝层是采用真空镀铝法在成像层40之上镀铝，作用是使得膜片发出闪闪发亮的金属光泽，使色层颜色增光添彩，这正是烫金所追求的效果。一般镀铝层的厚度选用30nm、35nm、40nm、45nm或50nm。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的发明构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种耐磨耐温烫印膜，其特征在于，包括依次层叠设置的薄膜基层、离型层、耐磨层、成像层、金属反射层、结构保护层及背胶层，所述成像层的一表面具有全息图像微纳米结构，所述金属反射层紧密贴合于所述成像层设有全息图像微纳米结构的表面，所述结构保护层紧密贴合于所述金属反射层背向所述成像层的表面。

2.如权利要求1所述的耐磨耐温烫印膜，其特征在于，所述耐磨层的材质为丙烯酸清漆或有机硅清漆。

3.如权利要求1所述的耐磨耐温烫印膜，其特征在于，所述耐磨层背向所述成像层的表面设置有纳米颗粒层或高分子树脂层。

4.如权利要求1所述的耐磨耐温烫印膜，其特征在于，所述耐磨层的厚度范围为0.5μm至8μm；

和/或，所述结构保护层的厚度范围为0.1μm至2μm。

5.如权利要求1所述的耐磨耐温烫印膜，其特征在于，所述结构保护层的材质选用热塑性树脂或交联体系树脂。

6.如权利要求1至5中任一项所述的耐磨耐温烫印膜，其特征在于，所述背胶层的厚度范围为700μm至900μm。

7.如权利要求1至5中任一项所述的耐磨耐温烫印膜，其特征在于，所述成像层与所述金属反射层之间还设有二维码标签。

8.如权利要求7所述的耐磨耐温烫印膜，其特征在于，所述成像层背向所述耐磨层的表面设置有激光防伪图案，所述激光防伪图案与所述二维码标签相互错开设置。

9.如权利要求8所述的耐磨耐温烫印膜，其特征在于，所述激光防伪图案与所述二维码标签的颜色不同。

10.如权利要求1至5中任一项所述的耐磨耐温烫印膜，其特征在于，所述金属反射层为厚度范围为30nm-50nm的铝层。

Images