CN211217821U - 清洁装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及清洁领域,公开了一种清洁装置,包括:具有收容空间的壳体;收容于所述收容空间的气体收容部件,所述气体收容部件包括用于放气的出气口;设置在所述壳体外侧的吹扫部件,所述出气口与所述吹扫部件连通,所述吹扫部件处设置有控制所述吹扫部件开合的阀门。本实用新型实施方式所提供的清洁装置具有清洁成本较低、清洁操作较为简单且安全的优点。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体制备领域,特别涉及一种清洁装置。
背景技术
晶圆载物台常被置于反应腔室中,用于在基于等离子体的或基于真空的半导体处理过程(例如蚀刻、CVD和离子注入等)中承载晶圆。晶圆载物台通常为包含静电吸盘(ESC),静电吸盘内包含电极,在半导体处理期间,电极被配置施加吸附电压以在静电吸盘表面形成静电磁场,晶圆通过静电力被吸附于静电吸盘表面。但是,静电吸盘在长期使用的过程中,表面容易附着污染颗粒物,污染颗粒物的大量附着造成晶圆无法平稳吸附于静电吸盘表面,影响反应腔室中进行工艺的均匀性和一致性,甚至因为设备报警而无法正常工作。
然而,本实用新型的发明人发现,但由于静电吸盘位于反应腔室内部,现有技术中清洁静电吸盘通常需要将静电吸盘取出、或者是使用离子束与污染颗粒物进行反应,整个清洁的过程较为复杂、清洁成本较高且存在损坏静电吸盘的风险。
实用新型内容
本实用新型实施方式的目的在于提供一种清洁装置,清洁成本较低、清洁操作较为简单且安全。
为解决上述技术问题,本实用新型的实施方式提供了一种清洁装置,包括:具有收容空间的壳体,收容于所述收容空间的气体收容部件,所述气体收容部件包括用于放气的出气口,设置在所述壳体外侧的吹扫部件,所述出气口与所述吹扫部件连通,所述吹扫部件处设置有控制所述吹扫部件开合的阀门。
本实用新型实施方式相对于现有技术而言,气体收容部件的出气口与吹扫部件连接,在放气的过程中利用吹扫部件将待清洁物表面的微粒污染物吹掉,从而有效地对待清洁物表面进行清洁,由于本实用新型实施方式所提供的清洁装置的结构较为简单,清洁的成本较低。此外,仅需向气体收容部件内通入清洁气体、即可通过吹气的方式对待清洁物进行清洁,整个清洁的操作较为简单且不存在损坏待清洁物的风险,清洁过程较为安全。
另外,所述吹扫部件内形成有贯穿所述吹扫部件的通气孔,所述通气孔一端与所述出气口连通。通气孔一端与出气口连通,从而对出气口放出的气体进行导流,使得放出的气体更为集中,有效的提升放气时的风速,进而提升清洁效果。
另外,所述吹扫部件为万向喷嘴,所述万向喷嘴包括卡接组件和可调向喷嘴组件,所述卡接组件的一端与所述壳体固定连接且连通所述出气口,所述可调向喷嘴组件可转动的设置在所述卡接组件的另一端上。设置吹扫部件为万向万向喷嘴,在吹扫的过程中,可调向喷嘴组件进行转动,从而朝多个方向吹气,提升吹扫面积,有效的提升清洁效果。
另外,所述吹扫部件为多孔喷嘴,所述多孔喷嘴内形成多个所述通气孔,多个所述通气孔形成于所述吹扫部件的多个方位。多个通气孔形成于吹扫部件的多个方位,从而将出气口放出的空气进行导流,同时从多个方向对待清洁物表面进行吹气,有效的提升清洁效果。
另外,所述吹扫部件可移动的设置在所述壳体上。将吹扫部件可移动得设置在壳体上,随着吹扫部件得移动,可以对待清洁物的不同位置进行吹扫,提升待清洁物的吹扫面积,有效的提升清洁效果。
另外,还包括设置在所述壳体底部的导轨,所述吹扫部件可移动的设置在所述导轨上,所述气体收容部件固定在所述壳体顶部,所述气体收容部件放气时用于带动所述吹扫部件沿所述导轨移动。气体收容部件在放气得过程中带动吹扫部件沿导轨滑动,从而自动控制吹扫部件在壳体得表面移动,无需进行人工的控制,进一步的简化操作。
另外,所述气体收容部件为弹性气囊,所述弹性气囊还包括充气口,所述充气口固定在所述壳体上。设置气体收容部件为弹性气囊,弹性气囊在充气完成后,打开阀门即可自动向外放气,结构较为简单且原料较为廉价,从而有效的降低清洁成本;此外,将充气口固定在壳体上,对弹性气囊进行充气时无需将弹性气囊取出,从而增加充气过程的便利性。
另外,还包括设置在所述壳体上的开关组件,所述开关组件用于与待清洁物接触后、控制所述阀门打开。通过在壳体上设置开关槽,开关槽在与待清洁物接触后、自动控制阀门打开,无需人工控制阀门打开,从而进一步的简化了清洁操作。
另外,还包括设置在所述壳体靠近所述待清洁物一侧的表面的静电吸附膜。在壳体靠近待清洁物一侧表面设置静电吸附膜,对吹起的微粒进行吸附,避免微粒污染物再次落在待清洁物表面,进一步的提升清洁的效果。
另外,还包括设置在所述静电吸附膜表面的防护网。在静电吸附膜表面设置防护网,避免静电吸附膜与其它物体发生直接接触,有效的对静电吸附膜进行保护。
附图说明
一个或多个实施例通过与之对应的附图中的图片进行示例性说明,这些示例性说明并不构成对实施例的限定,附图中具有相同参考数字标号的元件表示为类似的元件,除非有特别申明,附图中的图不构成比例限制。
图1是本实用新型第一实施方式所提供的清洁装置的剖视图;
图2是图1中A部的局部放大图;
图3是本实用新型另一实施方式所提供的清洁装置的剖视图;
图4是本实用新型第二实施方式所提供的清洁装置的俯视图;
图5是本实用新型第二实施方式所提供的清洁装置充气状态时的剖面图;
图6是本实用新型第二实施方式所提供的清洁装置放气状态时的俯视图;
图7是本实用新型第三实施方式所提供的清洁装置的剖视图;
图8是本实用新型第四实施方式所提供的清洁装置的剖视图;
图9是本实用新型第五实施方式所提供的清洁装置的剖视图。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本实用新型的各实施方式进行详细的阐述。然而,本领域的普通技术人员可以理解,在本实用新型各实施方式中,为了使读者更好地理解本申请而提出了许多技术细节。但是,即使没有这些技术细节和基于以下各实施方式的种种变化和修改,也可以实现本申请所要求保护的技术方案。
本领域的普通技术人员可以理解,所示附图仅为示意性的而非限制性的,因此附图中不同结构的构造、形状、数量、相对位置以及相对尺寸等仅为示意之用,实际应用可根据需要进行改变。
本实用新型的第一实施方式涉及一种清洁装置,如图1、图2所示,其中,图2为图1中A部的局部放大图,包括:壳体10、气体收容部件20以及吹扫部件30,其中,壳体10具有收容空间40,气体收容部件20收容于收容空间40内。气体收容部件20包括用于向待清洁物放气的出气口21,出气口21与吹扫部件30连通,在吹扫部件30处设置有控制吹扫部件30开合的阀门50。
本实用新型第一实施方式所提供的清洁装置设置吹扫部件30与气体收容部件20的出气口21连通,在气体收容部件20进行放气时,吹扫部件30可以利用放气产生的气流、将待清洁物表面的微粒污染物吹掉,有效的对待清洁物表面进行清洁。由于本实施方式所提供的清洁装置的结构较为简单,因此清洁的成本较低。此外,在对待清洁物进行清洁时,仅需向气体收容部件20内通入清洁气体(如无尘空气,高纯氮气等),并在适当的时候控制阀门50打开,即可完成清洁,清洁操作的过程较为简单且不存在损坏待清洁物的风险,清洁过程较为安全。
优选的,在本实施方式中,气体收容部件20为弹性气囊,弹性气囊20固定在壳体10上。设置气体收容部件20为弹性气囊,弹性气囊20在充气完成后,打开阀门50即可自动向外放气,无需额外的结构和操作进行放气,简化清洁装置结构的同时,原料较为廉价,有效的降低清洁装置的成本。可以理解的是,上述气体收容部件20为弹性气囊仅为本实施方式中的一种具体的实施实例,并不构成限定,在本实用新型的其它实施方式中,气体收容部件20也可以是其他充气结构,例如设置有移动板的充气腔室,通过移动板向外放气等结构,在此不进行一一列举,具体可以根据实际需要进行灵活设置。
具体的,在本实施方式中,弹性气囊20的材质为硅胶。使用硅胶材质的弹性气囊,造价较低的同时、不易产生脱落物,可以有效的防止弹性气囊20对待清洁物造成二次污染。可以理解的是,弹性气囊20的材质为硅胶仅为本实施方式中的一种具体的举例说明,并不构成限定,在本实用新型的其它实施方式中,弹性气囊20也可以是其它材质,如乳胶、橡胶或热塑性聚氨酯等,在此不进行一一列举,具体可以根据实际需要进行灵活的设定。
进一步的,在本实施方式中,根据使用的情景不同,壳体10的形状和大小可以与待清洁物配合设置。例如,在清洁静电吸盘时,壳体10可以设置为与晶圆直径一致的圆盘状壳体,从而可以通过晶圆传递通道或机械手臂等直接传送至反应腔室内部对静电吸盘进行清洁,无需将静电吸盘拆出即可完成清洁,进一步的简化清洁过程。晶圆具有4寸、6寸、12寸……等多种不同的尺寸,清洁装置的盘面直径可也可为多种尺寸,在此不做限定。比如在对放置12寸晶圆的静电吸盘进行清洁时,所述清洁装置盘面直径可为300mm,与12寸晶圆尺寸的直径相同,约为300mm左右,具体可为304mm或305mm。
清洁装置的厚度大于晶圆的厚度,比如,清洁装置的整体厚度可为大于1cm小于5cm。清洁装置的壳体厚度可小于5mm,以免过厚的壳体占用气体收容部件20的空间,从而保证气体收容部件20的容积,使得其容纳足够多的清洁气体。可以理解的是,上述仅为本实施方式中当待清洁物为静电吸盘时得一种具体的举例说明,并不构成限定,当待清洁物为其它结构时,壳体10得形状也可以进行相应的改变,以与待清洁物配合设置,在此不进行一一列举,具体可以根据实际需要进行灵活的设定。
此外,在本实施方式中,气体收容部件20还包括用于向气体收容部件20内充气的充气口22。设置充气口22,可以便于向气体收容部件20内进行充气。可以理解的是,在气体收容部件20上设置充气口22仅为本实施方式中的一种具体的举例说明,并不构成限定,在本实用新型的其它实施方式中,也可以是直接通过出气口21向气体收容部件20内进行充气。
具体的,在本实施方式中,充气口22由内置气门芯和硅胶塞组成,用充气针将充气口22中的气门芯结构顶开,充气完成后拔掉充气针,气门芯结构会关闭,然后塞紧硅胶塞,即可完成充气。将充气口22设置为气门芯和硅胶塞结构,完成充气后,可以快速关闭充气口22,从而减少漏气。
进一步的,在本实施方式中,阀门50设置在收容空间30外部。可以理解的是,阀门50设置在收容空间30外部仅为本实施方式中的一种具体的举例说明,并不构成限定,在本实用新型的其它实施方式中,也可以是设置在收容空间30内部,具体可以根据实际需要进行灵活的设定。
进一步的,在本实施方式中,吹扫部件30包括通气孔31,通气孔31一端与出气口21连通。通过在壳体10外侧设置吹扫部件30,吹扫部件30内设通气孔31与出气口21连通,从而对出气口21放出的气体进行导流,使得放出的气体更为集中,从而有效的提升放气时形成的气流的流速,进而有效的提升清洁效果。
优选的,在本实施方式中,吹扫部件30为万向喷嘴,万向喷嘴30包括卡接组件32和可调向喷嘴组件33,卡接组件32的一端与壳体10固定连接且连通出气口21,可调向喷嘴组件33可转动的设置在卡接组件31的另一端上。可调向喷嘴组件33可以是扇形喷嘴也可以是锥形喷嘴,不限于此。在吹扫的过程中,可调向喷嘴组件33可以在卡接组件32上进行转动,从而改变气流的方向,从多个方向对待清洁物进行清洁,使得待清洁物的各个位置都可以得到清洁,有效的提升清洁效果。
可以理解的是,设置吹扫部件30为万向喷嘴仅为本实施方式中的一种具体的举例说明,并不构成限定,在本实用新型的另一实施方式中,如图3所示,吹扫部件30也可以是多孔喷嘴,多孔喷嘴内形成多个通气孔31,多个通气孔31形成于吹扫部件30的多个方位。如此设置,同样可以增大吹扫部件30的吹扫面积,提升清洁效果。此外,在本实用新型的其它实施方式中,吹扫部件30也可以是其它结构,在此不进行一一列举,具体可以根据实际需要进行灵活的设定。
本实用新型的第二实施方式涉及一种清洁装置,如图4所示。第二实施方式与第一实施方式大致相同,同样包括壳体10、气体收容部件20、吹扫部件30、阀门50,主要区别之处在于,在本实施方式中,吹扫部件30可移动的设置在壳体10上。
本实用新型第二实施方式所提供的清洁装置在保留第一实施方式的全部技术效果的同时,将吹扫部件30可移动的设置在壳体10上,在对待清洁物进行清洁的过程中,吹扫部件30在壳体10表面移动,从而对待清洁物的不同部位进行吹扫,提升待清洁物被吹扫的表面积,有效的提升清洁效果。
具体的,在本实施方式中,壳体10上设置有导轨60,吹扫部件30可移动的设置在导轨60上,气体收容部件20固定在壳体10上、并在放气时带动吹扫部件20沿导轨移动。如图5、图6所示分别为本实施方式所提供的清洁装置在充气状态和放弃过程中的剖面图。气体收容部件20在放气的过程中带动吹扫部件30沿图6中A方向移动,从而自动控制吹扫部件30在壳体10的表面移动,无需进行人工的控制,进一步的简化操作。导轨60可以是直线型导轨,还可以是曲线形导轨或螺旋形导轨等。例如,设置气体收容部件20为弹性气囊,与弹性气囊20连接的吹扫部件30可停留在导轨的一端,而弹性气囊20的充气口22可固定在壳体10上靠近导轨的另一端的顶部。弹性气囊20在放气的过程中逐渐收缩,弹性气囊20的充气口22固定在壳体10上,从而带动吹扫部件30沿导轨60的一端向另一端滑动。可以理解的是,上述设置气体收容部件20为弹性气囊仅为本实施方式中的一种具体的举例说明,并不构成限定,在本实用新型的其它实施方式中,也可以是其它的结构或方法带动吹扫部件30沿导轨60滑动,如电力驱动等,在此不进行一一列举,具体可以根据实际需要进行灵活的设定。
可以理解的是,设置导轨60,使吹扫部件30沿导轨60滑动仅为本实施方式中的一种具体的举例说明,并不构成限定,在本实用新型的其它实施方式中,也可以是其它的结构,如设置凹槽,使吹扫部件30沿凹槽移动,或者是电力驱动吹扫部件30在壳体10表面移动等,在此不进行一一列举,具体可以根据实际需要进行灵活的设定。
优选的,在本实施方式中,导轨60包括限位块61。在阀门50打开之前,吹扫部件30被限位块61限制在初始位置,在阀门50打开后,限位块61释放吹扫部件30,使得吹扫部件30可以沿导轨60进行滑动。
本实用新型的第三实施方式涉及一种清洁装置,如图7所示。第三实施方式与第一实施方式大致相同,同样包括壳体10、气体收容部件20、吹扫部件30以及阀门50,主要区别之处在于,在本实施方式中,还包括设置在壳体10上的开关组件70,开关组件70与待清洁物接触后、控制阀门50打开。
本实用新型第四实施方式所提供的清洁装置通过在壳体10上设置开关组件70,开关组件70在与待清洁物接触后、自动控制阀门50打开,无需人工控制阀门50打开,从而进一步的简化了清洁操作。
具体的,如图7所示,在本实施方式中,开关组件70为开关槽,待清洁物100上设置有开关结构200(如升降销等),升降销200插入开关槽70后,即可以触发阀门50打开。可以理解的是,上述仅为本实施方式中的开关组件70的一种具体的举例说明,并不构成限定,在本实用新型的其它实施方式中,也可以是开关组件70为开关脚,待清洁物上的开关结构为开关槽等,在此不进行一一列举,具体可以根据实际情况进行灵活的设定。
优选的,在本实施方式中,开关组件70的数量为多个,多个开关组件70同时与待清洁物接触后、控制阀门50打开,从而防止单个开关组件70与其它物体碰撞后即控制阀门50打开,提升清洁装置使用过程中的适用性。
进一步的,在本实施方式中,开关组件70上设置有电子开关,开关组件70与待清洁物接触后,电子开关被按下,从而控制阀门50打开。可以理解的是,上述仅为本实施方式中的一种具体的举例说明,并不构成限定,在本实用新型的其它实施方式中,也可以是使用如压力传感器等其它结构控制阀门50打开,在此不进行一一列举,具体可以根据实际需要进行灵活的设定。
优选的,在本实施方式中,还包括多个用于开关组件70与待清洁物进行配合接触的定位结构。定位结构可以为设置在壳体10表面的磁力结构、也可以是画在壳体10表面的特定图案等,在此不进行一一列举,具体可以根据实际需要进行灵活的设定。
本实用新型的第四实施方式涉及一种清洁装置,如图8所示。第四实施方式与第一实施方式大致相同,同样包括壳体10、气体收容部件20、吹扫部件30以及阀门50,主要区别之处在于,在本实施方式中,还包括设置在壳体10上的静电吸附膜80。
本实用新型第四实施方式在保留第一实施方式的全部技术效果的同时,在壳体10上的静电吸附膜80,待清洁物上的微粒污染物被吹气后,可以被静电吸附膜80吸附,从而防止微粒污染物再次落在待清洁物上,有效的提升清洁效果。
具体的,在本实施方式中,静电吸附膜80至少设置在壳体10靠近待清洁物一侧的表面。仅将静电吸附膜80设置在壳体10靠近待清洁物一侧的表面,可以有效的减少静电吸附膜80的面积,降低制作成本。可以理解的是,静电吸附膜80至少设置在壳体10靠近待清洁物一侧的表面仅为本实施方式中的一种具体的举例说明,并不构成限定,在本实用新型的其它实施方式中,可以是设置在壳体的其它部位,具体可以根据实际需要进行灵活的设定。
本实用新型的第五实施方式涉及一种清洁装置,如图9所示。第六实施方式与第五实施方式大致相同,同样包括壳体10、气体收容部件20、吹扫部件30、阀门50以及静电吸附膜80,主要区别之处在于,在本实施方式中,还包括设置在静电吸附膜80表面的防护网90。
本实用新型第五实施方式在保留第四实施方式的全部技术效果的同时,在静电吸附膜80表面的防护网90,可以防止静电吸附膜80与其它物体发生直接碰撞,有效的对静电吸附膜80进行保护。比如可以防止机械手臂或传送带直接接触清洁装置的静电吸附膜80,避免对机械手臂或传送带造成污染,以及避免机械手臂或传送带对待清洁物的二次污染。
具体的,在本实施方式中,防护网90的材料为聚甲基丙烯酸甲酯(polymethylmethacrylate,PMMA)。使用PMMA材质的防护网90,造价较为低廉且不会对待清洁物造成二次污染。可以理解的是,设置防护网90的材料为PMMA仅为本实施方式中的一种具体的举例说明,并不构成限定,在本实用新型的其它实施方式中,也可以是金属等其它材质,在此不进行一一列举,具体可以根据实际需要进行灵活的设定。
本领域的普通技术人员可以理解,上述各实施方式是实现本实用新型的具体实施例,而在实际应用中,可以在形式上和细节上对其作各种改变,而不偏离本实用新型的精神和范围。
Claims (11)
1.一种清洁装置,其特征在于,包括:
具有收容空间的壳体;
收容于所述收容空间的气体收容部件,所述气体收容部件包括用于放气的出气口;
设置在所述壳体外侧的吹扫部件,所述出气口与所述吹扫部件连通,所述吹扫部件处设置有控制所述吹扫部件开合的阀门。
2.根据权利要求1所述的清洁装置,其特征在于,所述吹扫部件内形成有贯穿所述吹扫部件的通气孔,所述通气孔一端与所述出气口连通。
3.根据权利要求2所述的清洁装置,其特征在于,所述吹扫部件为万向喷嘴,所述万向喷嘴包括卡接组件和可调向喷嘴组件,所述卡接组件的一端与所述壳体固定连接且连通所述出气口,所述可调向喷嘴组件可转动的设置在所述卡接组件的另一端上。
4.根据权利要求2所述的清洁装置,其特征在于,所述吹扫部件为多孔喷嘴,所述多孔喷嘴内形成多个所述通气孔,多个所述通气孔朝向多个方位。
5.根据权利要求1所述的清洁装置,其特征在于,所述吹扫部件可移动的设置在所述壳体上。
6.根据权利要求5所述的清洁装置,其特征在于,还包括设置在所述壳体底部的导轨,所述吹扫部件可移动的设置在所述导轨上,所述气体收容部件固定在所述壳体顶部,所述气体收容部件放气时用于带动所述吹扫部件沿所述导轨移动。
7.根据权利要求1所述的清洁装置,其特征在于,所述气体收容部件为弹性气囊,所述弹性气囊还包括充气口,所述充气口固定在所述壳体上。
8.根据权利要求1所述的清洁装置,其特征在于,还包括设置在所述壳体上的开关组件,所述开关组件用于与待清洁物接触后、控制所述阀门打开。
9.根据权利要求1所述的清洁装置,其特征在于,还包括设置在所述壳体靠近待清洁物一侧的表面的静电吸附膜。
10.根据权利要求9所述的清洁装置,其特征在于,还包括设置在所述静电吸附膜表面的防护网。
11.根据权利要求1所述的清洁装置,其特征在于,所述清洁装置呈圆盘状,且所述清洁装置的盘面直径与晶圆相同,所述清洁装置的厚度大于所述晶圆的厚度。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201921684204.6U CN211217821U (zh) | 2019-10-08 | 2019-10-08 | 清洁装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN201921684204.6U CN211217821U (zh) | 2019-10-08 | 2019-10-08 | 清洁装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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CN211217821U true CN211217821U (zh) | 2020-08-11 |
Family
ID=71940196
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201921684204.6U Active CN211217821U (zh) | 2019-10-08 | 2019-10-08 | 清洁装置 |
Country Status (1)
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CN (1) | CN211217821U (zh) |
Cited By (2)
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CN112620243A (zh) * | 2019-10-08 | 2021-04-09 | 长鑫存储技术有限公司 | 清洁装置及清洁方法 |
CN113210379A (zh) * | 2021-05-23 | 2021-08-06 | 中广核新能源六安有限公司 | 用于滑环室碳粉的自动清洁装置 |
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---|---|---|---|
GR01 | Patent grant | ||
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