CN210938698U - 用于稳定辊加工的抛光设备 - Google Patents

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温成亮
宋毅
崔克顺
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Abstract

用于稳定辊加工的抛光设备,包括工作台、立柱、转轴、抛光机本体、抛光盘、支撑柱、上层板、底板、上调节杆、下调节杆、螺栓、滑道、电机支架、电机,工作台左右两侧相对设有立柱,立柱上分别设有转轴,位于工作台右侧的立柱上的转轴与电机的输出端连接,电机设在电机支架上,工作台后侧设有抛光机本体,抛光机本体上带有抛光盘,抛光机本体下侧设有支撑柱,支撑柱固定安装在上层板上,下层板下侧设有底板,上层板与底板之间分别设有通过螺栓连接的上调节杆与下调节杆,工作台上设有滑道,底板位于滑道内。本实用新型的优点在于:具有有效支撑辅助装置,可以实现抛光设备方便的对稳定辊进行全面抛光,抛光效率高,保证抛光质量,降低了废品率。

Description

用于稳定辊加工的抛光设备
技术领域
本实用新型涉及一种抛光设备,尤其涉及一种用于稳定辊加工的抛光设备。
背景技术
稳定辊分为前稳定辊和后稳定辊,均浸没在熔融锌基合金槽中,主要作用是使经过沉没辊的带钢获得一定的有效张力和导向,确保带钢连续稳定的通过气刀,稳定辊主要起到制止带钢摆动和调整涂锌版型的作用,目前一般都采用两根稳定辊交错布置在带钢的两侧的办法,并且有主动和被动两种传动形式,抛光是稳定辊后序加工的一道工艺,需要采用抛光机对其进行抛光,现有的抛光设备在对稳定辊进行抛光时,由于稳定辊自身的形状结构,缺少有效支撑辅助装置,导致抛光设备不便于对其进行全面抛光,抛光效率低下,抛光质量参差不齐,容易造成废品率升高。
发明内容
根据以上技术问题,本实用新型提供一种用于稳定辊加工的抛光设备,其特征在于包括工作台、立柱、转轴、抛光机本体、抛光盘、支撑柱、上层板、底板、上调节杆、下调节杆、螺栓、滑道、电机支架、电机、调节槽,所述工作台左右两侧相对设有立柱,所述立柱上分别设有转轴,所述转轴与立柱转动连接,其中,位于工作台右侧的立柱上的转轴与电机的输出端连接,所述电机安装在电机支架上,所述电机支架设置在工作台上,所述工作台后侧设有抛光机本体,所述抛光机本体上带有抛光盘,所述抛光机本体下侧设有支撑柱,所述支撑柱固定安装在上层板上,所述上层板下侧设有底板,所述上层板与底板之间分别设有上调节杆与下调节杆,所述上调节杆与下调节杆通过螺栓固定连接,所述工作台上设有滑道,所述底板位于滑道内。
所述滑道的长度大于两立柱之间的长度。
所述上调节杆直径大于下调节杆直径,所述上调节杆为中空结构,所述上调节杆与下调节杆的侧壁上均开设有调节槽,所述下调节杆套装在上调节杆内。
本实用新型的有益效果为:本实用新型为用于稳定辊加工的抛光设备,通过调节下调节杆伸入上调节杆内的长度,进而可以调节抛光机本体的位置高度,可根据具体使用情况进行灵活调节,将稳定辊安两端安装在转轴上,进行抛光时,启动电机,电机带动转轴进而带动稳定辊缓慢旋转,抛光盘在位置不动的情况下,可以实现对稳定辊外围圆周的抛光,推动抛光机本体,使底板在滑道内滑动,实现对稳定辊纵向的抛光,本实用新型具有有效支撑辅助装置,可以实现抛光设备方便的对稳定辊进行全面抛光,抛光效率高,保证抛光质量,降低了废品率。
附图说明
图1为本实用新型主体结构图;
图2为本实用新型左视图;
图3为上调节杆正视图。
如图,工作台-1、立柱-2、转轴-3、抛光机本体-4、抛光盘-5、支撑柱-6、上层板-7、底板-8、上调节杆-9、下调节杆-10、螺栓-11、滑道-12、电机支架-13、电机-14、稳定辊-15、调节槽-16。
具体实施方式
下面结合附图所示,对本实用新型进行进一步说明:本实用新型为用于稳定辊加工的抛光设备,包括工作台1、立柱2、转轴3、抛光机本体4、抛光盘5、支撑柱6、上层板7、底板8、上调节杆9、下调节杆10、螺栓11、滑道12、电机支架13、电机14、调节槽16,所述工作台1左右两侧相对设有立柱2,所述立柱2上分别设有转轴3,所述转轴3与立柱2转动连接,其中,位于工作台1右侧的立柱2上的转轴3与电机13的输出端连接,所述电机13安装在电机支架14上,所述电机支架14设置在工作台1上,所述工作台1后侧设有抛光机本体4,所述抛光机本体4上带有抛光盘5,所述抛光机本体4下侧设有支撑柱6,所述支撑柱6固定安装在上层板7上,所述上层板7下侧设有底板8,所述上层板7与底板8之间分别设有上调节杆9与下调节杆10,所述上调节9杆与下调节杆10通过螺栓11固定连接,所述上调节杆9直径大于下调节杆10直径,所述上调节杆9为中空结构,所述上调节杆9与下调节杆10的侧壁上均开设有调节槽16,所述下调节杆10套装在上调节杆9内,所述工作台1上设有滑道12,所述底板8位于滑道12内,所述滑道12的长度大于两立柱2之间的长度。
工作原理:通过调节下调节10杆伸入上调节杆9内的长度,进而可以调节抛光机本体4的位置高度,可根据具体使用情况进行灵活调节,将稳定辊15安两端安装在转轴3上,进行抛光时,启动电机14,电机14带动转轴3进而带动稳定辊15缓慢旋转,抛光盘5在位置不动的情况下,可以实现对稳定辊15外围圆周的抛光,推动抛光机本体4,使底板8在滑道12内滑动,实现对稳定辊14纵向的抛光,本实用新型具有有效支撑辅助装置,可以实现抛光设备方便的对稳定辊进行全面抛光,抛光效率高,保证抛光质量,降低了废品率。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出的是,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进,这些改进也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (3)

1.用于稳定辊加工的抛光设备,其特征在于包括工作台、立柱、转轴、抛光机本体、抛光盘、支撑柱、上层板、底板、上调节杆、下调节杆、螺栓、滑道、电机支架、电机、调节槽,所述工作台左右两侧相对设有立柱,所述立柱上分别设有转轴,所述转轴与立柱转动连接,其中,位于工作台右侧的立柱上的转轴与电机的输出端连接,所述电机安装在电机支架上,所述电机支架设置在工作台上,所述工作台后侧设有抛光机本体,所述抛光机本体上带有抛光盘,所述抛光机本体下侧设有支撑柱,所述支撑柱固定安装在上层板上,所述上层板下侧设有底板,所述上层板与底板之间分别设有上调节杆与下调节杆,所述上调节杆与下调节杆通过螺栓固定连接,所述工作台上设有滑道,所述底板位于滑道内。
2.按照权利要求1所述的用于稳定辊加工的抛光设备,其特征在于所述滑道的长度大于两立柱之间的长度。
3.按照权利要求1所述的用于稳定辊加工的抛光设备,其特征在于所述上调节杆直径大于下调节杆直径,所述上调节杆为中空结构,所述上调节杆与下调节杆的侧壁上均开设有调节槽,所述下调节杆套装在上调节杆内。
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