CN210886196U - 一种高分子等离子表面真空镀膜设备 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种高分子等离子表面真空镀膜设备,包括腔体、基板和坩埚,腔体底部的四角均固定连接有支撑腿,腔体的正面转动连接有密封门,腔体内壁两侧之间的底部固定连接有支撑板,支撑板的顶部固定连接有防护框,防护框内壁的两侧均固定连接有第一滑轨,本实用新型涉及真空镀膜技术领域。该高分子等离子表面真空镀膜设备,当镀膜工作完成后,可以将坩埚密封在防护框内,这样就可以及时打开密封门,将基板取出准备下一次镀膜,能够有效防止镀膜材料喷溅,且省去坩埚降温的时间,提高了工作效率,电机工作能够调整两个限位板之间的距离,使其能够固定不同大小的基板,扩大了适用范围,适用性更强,提高了实用性。

Description

一种高分子等离子表面真空镀膜设备
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜技术领域,具体为一种高分子等离子表面真空镀膜设备。
背景技术
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法,例如,真空镀铝、真空镀铬等,真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺,简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法,称为真空镀膜。
现有的真空镀膜设备虽然能够完成镀膜的工作,但是当镀膜公祖完成后,由于腔体内部仍然处于真空状态,与外界环境具有一定的压强差,若过早打开密封门,坩埚温度依然很高,镀膜材料容易发生喷溅,造成危险,若等坩埚降温后再打开密封门,会耗费较多的时间,影响工作效率。
实用新型内容
针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种高分子等离子表面真空镀膜设备,解决了若过早打开密封门,镀膜材料容易发生喷溅,造成危险,若等坩埚降温后再打开密封门,会耗费较多的时间,影响工作效率的问题。
为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案予以实现:一种高分子等离子表面真空镀膜设备,包括腔体、基板和坩埚,所述腔体底部的四角均固定连接有支撑腿,并且腔体的正面转动连接有密封门,所述腔体内壁两侧之间的底部固定连接有支撑板,并且支撑板的顶部固定连接有防护框,所述防护框内壁的两侧均固定连接有第一滑轨,并且两个第一滑轨相对的一侧之间滑动连接有活动板,所述腔体内壁的底部固定连接有第一伸缩杆,所述第一伸缩杆的顶端贯穿支撑板和防护框并延伸至防护框的内部,所述第一伸缩杆输出轴的一端且位于防护框的内部与活动板的底部固定连接,所述腔体内壁的两侧均固定连接有第二伸缩杆,所述防护框顶部的两侧分别滑动连接有第一密封盖和第二密封盖,并且第一密封盖和第二密封盖相背离的一侧分别与两个第二伸缩杆的输出轴固定连接。
优选的,所述活动板的顶部固定连接有加热板,所述防护框内壁的底部且位于第一伸缩杆的表面固定连接有降温板。
优选的,所述腔体左侧的顶部固定连接有电机,并且电机输出轴的一端固定连接有双向螺纹杆。
优选的,所述双向螺纹杆远离电机的一端贯穿腔体并延伸至腔体的内部,所述双向螺纹杆位于腔体内部的一端与腔体内壁的右侧通过轴承转动连接。
优选的,所述双向螺纹杆表面的两侧且位于腔体的内部均螺纹连接有活动块,两个所述活动块的底部均固定连接有限位板,并且两个活动块的顶部均通过第二滑轨与腔体内壁的顶部滑动连接。
优选的,所述腔体左侧的底部固定连接有抽风机,并且抽风机进风口的一端连通有风管,所述风管远离抽风机的一端贯穿腔体并延伸至腔体的内部。
有益效果
本实用新型提供了一种高分子等离子表面真空镀膜设备。与现有技术相比具备以下有益效果:
(1)、该高分子等离子表面真空镀膜设备,通过两个第一滑轨相对的一侧之间滑动连接有活动板,第一伸缩杆输出轴的一端且位于防护框的内部与活动板的底部固定连接,防护框顶部的两侧分别滑动连接有第一密封盖和第二密封盖,并且第一密封盖和第二密封盖相背离的一侧分别与两个第二伸缩杆的输出轴固定连接,坩埚放置在加热板上,通过第一伸缩杆工作可以使坩埚运动至防护框内,两个第二伸缩杆工作能够控制密封盖将防护框密封,当镀膜工作完成后,可以将坩埚密封在防护框内,这样就可以及时打开密封门,将基板取出准备下一次镀膜,能够有效防止镀膜材料喷溅,且省去坩埚降温的时间,提高了工作效率。
(2)、该高分子等离子表面真空镀膜设备,通过腔体左侧的顶部固定连接有电机,并且电机输出轴的一端固定连接有双向螺纹杆,双向螺纹杆表面的两侧且位于腔体的内部均螺纹连接有活动块,两个活动块的底部均固定连接有限位板,电机工作能够调整两个限位板之间的距离,使限位板能够固定不同大小的基板,扩大了适用范围,适用性更强,提高了实用性。
附图说明
图1为本实用新型结构的立体图;
图2为本实用新型结构的剖视图;
图3为本实用新型图2中A处的局部放大图;
图4为本实用新型第一密封盖结构的立体图;
图5为本实用新型第二密封盖结构的立体图。
图中:1腔体、2基板、3坩埚、4支撑腿、5密封门、6支撑板、7防护框、8第一滑轨、9活动板、10第一伸缩杆、11第二伸缩杆、12第一密封盖、13第二密封盖、14加热板、15降温板、16电机、17双向螺纹杆、18活动块、19限位板、20第二滑轨、21抽风机、22风管。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-5,本实用新型提供一种技术方案:一种高分子等离子表面真空镀膜设备,包括腔体1、基板2和坩埚3,腔体1内壁底部的两侧分别固定连接有加热器和冷凝器,坩埚3放置在加热板14的顶部,腔体1左侧的底部固定连接有抽风机21,并且抽风机21进风口的一端连通有风管22,风管22远离抽风机21的一端贯穿腔体1并延伸至腔体1的内部,腔体1左侧的顶部固定连接有电机16,电机16通过导线与控制开关及外部电源连接,并且电机16输出轴的一端固定连接有双向螺纹杆17,双向螺纹杆17表面的两侧且位于腔体1的内部均螺纹连接有活动块18,两个活动块18的底部均固定连接有限位板19,两个限位板19相对的一侧均开设有与基板2相适配的限位槽,并且两个活动块18的顶部均通过第二滑轨20与腔体1内壁的顶部滑动连接,双向螺纹杆17远离电机16的一端贯穿腔体1并延伸至腔体1的内部,双向螺纹杆17位于腔体1内部的一端与腔体1内壁的右侧通过轴承转动连接,腔体1底部的四角均固定连接有支撑腿4,并且腔体1的正面转动连接有密封门5,腔体1内壁两侧之间的底部固定连接有支撑板6,并且支撑板6的顶部固定连接有防护框7,防护框7内壁的两侧均固定连接有第一滑轨8,并且两个第一滑轨8相对的一侧之间滑动连接有活动板9,活动板9的顶部固定连接有加热板14,防护框7内壁的底部且位于第一伸缩杆10的表面固定连接有降温板15,腔体1内壁的底部固定连接有第一伸缩杆10,第一伸缩杆10和第二伸缩杆11均通过导线与控制开关及外部电源连接,第一伸缩杆10的顶端贯穿支撑板6和防护框7并延伸至防护框7的内部,第一伸缩杆10输出轴的一端且位于防护框7的内部与活动板9的底部固定连接,腔体1内壁的两侧均固定连接有第二伸缩杆11,防护框7顶部的两侧分别滑动连接有第一密封盖12和第二密封盖13,第一密封盖12和第二密封盖13相对的一侧设置有相适配的卡接结构,能够加强其密封性,并且第一密封盖12和第二密封盖13相背离的一侧分别与两个第二伸缩杆11的输出轴固定连接。
使用时,打开密封门5,通过外部控制面板打开电机16,使双向螺纹杆17发生转动,带动两个活动块18和限位板19发生运动,使限位板19之间的距离与待镀膜的基板2相适配,然后将基板2推入两个限位板10之间的限位槽内,并关闭密封门5,打开抽风机21,将腔体1内的空气抽出,通过控制面板使加热器工作通过加热板14加热坩埚3进行镀膜,镀膜完成后,使第一伸缩杆10工作,带动活动板9运动,使坩埚3运动至防护框7内,然后第二伸缩杆11工作,推动第一密封盖12和第二密封该13发生运动,使防护框7密封,然后即可打开密封门5将基板取出或换面继续覆膜。
需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种高分子等离子表面真空镀膜设备,包括腔体(1)、基板(2)和坩埚(3),所述腔体(1)底部的四角均固定连接有支撑腿(4),并且腔体(1)的正面转动连接有密封门(5),其特征在于:所述腔体(1)内壁两侧之间的底部固定连接有支撑板(6),并且支撑板(6)的顶部固定连接有防护框(7),所述防护框(7)内壁的两侧均固定连接有第一滑轨(8),并且两个第一滑轨(8)相对的一侧之间滑动连接有活动板(9),所述腔体(1)内壁的底部固定连接有第一伸缩杆(10),所述第一伸缩杆(10)的顶端贯穿支撑板(6)和防护框(7)并延伸至防护框(7)的内部,所述第一伸缩杆(10)输出轴的一端且位于防护框(7)的内部与活动板(9)的底部固定连接,所述腔体(1)内壁的两侧均固定连接有第二伸缩杆(11),所述防护框(7)顶部的两侧分别滑动连接有第一密封盖(12)和第二密封盖(13),并且第一密封盖(12)和第二密封盖(13)相背离的一侧分别与两个第二伸缩杆(11)的输出轴固定连接。
2.根据权利要求1所述的一种高分子等离子表面真空镀膜设备,其特征在于:所述活动板(9)的顶部固定连接有加热板(14),所述防护框(7)内壁的底部且位于第一伸缩杆(10)的表面固定连接有降温板(15)。
3.根据权利要求1所述的一种高分子等离子表面真空镀膜设备,其特征在于:所述腔体(1)左侧的顶部固定连接有电机(16),并且电机(16)输出轴的一端固定连接有双向螺纹杆(17)。
4.根据权利要求3所述的一种高分子等离子表面真空镀膜设备,其特征在于:所述双向螺纹杆(17)远离电机(16)的一端贯穿腔体(1)并延伸至腔体(1)的内部,所述双向螺纹杆(17)位于腔体(1)内部的一端与腔体(1)内壁的右侧通过轴承转动连接。
5.根据权利要求3所述的一种高分子等离子表面真空镀膜设备,其特征在于:所述双向螺纹杆(17)表面的两侧且位于腔体(1)的内部均螺纹连接有活动块(18),两个所述活动块(18)的底部均固定连接有限位板(19),并且两个活动块(18)的顶部均通过第二滑轨(20)与腔体(1)内壁的顶部滑动连接。
6.根据权利要求1所述的一种高分子等离子表面真空镀膜设备,其特征在于:所述腔体(1)左侧的底部固定连接有抽风机(21),并且抽风机(21)进风口的一端连通有风管(22),所述风管(22)远离抽风机(21)的一端贯穿腔体(1)并延伸至腔体(1)的内部。
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