CN211170855U - 一种镀膜均匀的真空镀膜设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种镀膜均匀的真空镀膜设备，具体涉及真空镀膜领域，包括真空箱，所述真空箱内部中心处固定设有固定机构，所述固定机构包括固定筒、齿轮组、一号固定杆、二号固定杆和接触块，所述齿轮组活动设于固定筒内部，所述一号固定杆和二号固定杆贯穿于固定筒两侧，所述接触块固定设于固定筒底部，所述一号固定杆和二号固定杆远离固定筒的一端均固定设有固定板，所述固定筒两侧表面均开设有开槽，所述一号固定杆和二号固定杆贯穿于对应开槽内部，所述真空箱内部底端开设有底槽。本实用新型可提供真空蒸发镀膜及真空电镀膜两种加工方式，减少生产成本，便于调整靶件的镀膜方式，使用更加灵活方便。

Description

一种镀膜均匀的真空镀膜设备

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜领域，更具体地说，本实用涉及一种镀膜均匀的真空镀膜设备。

背景技术

真空电镀是一种物理沉积现象，即在真空状态下注入氩气，氩气撞击靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层，真空蒸发镀膜是在高真空的条件下，加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件表面而形成薄膜的一种方法。

现有的真空镀膜设备仅能提供一种真空镀膜方式，增加了生产成本，使用不够灵活方便。

实用新型内容

为了克服现有技术的上述缺陷，本实用新型的实施例提供一种镀膜均匀的真空镀膜设备，本实用新型所要解决的技术问题是：如何在一个装置上提供两种镀膜加工方式。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种镀膜均匀的真空镀膜设备，包括真空箱，所述真空箱内部中心处固定设有固定机构，所述固定机构包括固定筒、齿轮组、一号固定杆、二号固定杆和接触块，所述齿轮组活动设于固定筒内部，所述一号固定杆和二号固定杆贯穿于固定筒两侧，所述接触块固定设于固定筒底部，所述一号固定杆和二号固定杆远离固定筒的一端均固定设有固定板，所述固定筒两侧表面均开设有开槽，所述一号固定杆和二号固定杆贯穿于对应开槽内部，所述真空箱内部底端开设有底槽，所述底槽内部顶端固定设有坩埚，所述坩埚外周固定设有导板，所述真空箱顶部活动设有箱盖，所述箱盖底部固定设有连接管，所述连接管顶部固定设有分流管，且分流管贯穿于箱盖内部中心处，所述分流管两侧分别设有抽气管和收集管。

使用时，通过坩埚与一号加热板的结合，可进行真空蒸发镀膜，通过进气管与靶弧源的结合，可进行真空电镀，靶件固定在固定板的外侧面，真空箱与箱盖密封连接，通过连接管对真空箱内部进行抽真空，真空蒸发镀膜时，两组固定板靠近接触块合并形成半圆形，可比平面的固定板固定更多的靶件，同时靶件的接触面更加广泛，不会背对靶材，一号加热板可对坩埚进行加热，靶件在半圆形固定板的固定下，便于坩埚内部的靶材蒸发并均匀附着在固定板表面的靶件上，真空电镀时，电机带动主动齿轮及二号固定杆转动，被动齿轮及一号固定杆以反方向转动，一号固定杆和二号固定杆沿对应的开槽内部滑动，使两组固定板反向翻转呈括号形分布，两组固定板对应真空箱内部两侧的靶弧源，靶弧源连接外部电源工作，通过进气管向真空箱内部通入反应气体，此时可对固定板表面的靶件进行镀膜。

在一个优选地实施方式中，所述底槽两侧均设有进气管，且进气管贯穿于真空箱内部底端，便于向真空箱内部输送反应气体。

在一个优选地实施方式中，所述真空箱内部两侧均固定设有靶弧源，且靶弧源连接外部电源，便于进行电镀膜。

在一个优选地实施方式中，所述坩埚底部固定设有一号加热板，且一号加热板位于底槽内部中层，便于对坩埚内部靶材进行加热蒸发。

在一个优选地实施方式中，所述连接管两侧均设有二号加热板，且二号加热板与固定板之间对应设置，便于对固定板进行加热。

在一个优选地实施方式中，所述真空箱与箱盖之间为密封设置，所述导板远离坩埚的侧面呈弧形设置，便于引导靶材下落。

在一个优选地实施方式中，所述齿轮组包括主动齿轮和被动齿轮，且主动齿轮端部通过连接轴固定连接有电机，便于一号固定杆和二号固定杆的翻转。

在一个优选地实施方式中，所述固定板呈劣弧形设置，且固定板在接触块与二号加热板之间翻转设置，便于调整固定板的位置。

本实用新型的技术效果和优点：

1、本实用新型通过设有固定机构，便于调整靶件的镀膜方式，通过坩埚与一号加热板的结合，可进行真空蒸发镀膜，通过进气管与靶弧源的结合，可进行真空电镀，两组固定板靠近接触块合并形成半圆形时，可比平面的固定板固定更多的靶件，同时靶件的接触面更加广泛，不会背对靶材，反向翻转呈括号形分布时，便于对固定板表面的靶件进行电镀膜，与现有技术相比，整体可提供真空蒸发镀膜及真空电镀膜两种加工方式，可减少生产成本，使用灵活方便；

2、本实用新型通过设有导板和连接管，便于对靶材进行收集，抽气管可通过分流管及连接管对真空箱内部进行抽真空，收集管通过分流管及连接管将真空箱内部剩余的反应气体抽出，便于后续再次使用或排放处理，坩埚周围蒸发掉落的靶材可通过导板的导向流至底槽的底层，便于后续集中处理，与现有技术相比，可收集剩余靶材，便于后续的集中处理。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构示意图。

图2为本实用新型的固定机构结构示意图。

图3为本实用新型的固定筒结构示意图。

图4为本实用新型的齿轮组结构示意图。

图5为本实用新型的连接管结构示意图。

附图标记为：1真空箱、2固定机构、3底槽、4坩埚、5导板、6进气管、7靶弧源、8箱盖、9连接管、10一号加热板、11二号加热板、12固定筒、13齿轮组、14一号固定杆、15二号固定杆、16接触块、17固定板、18开槽、19分流管、20抽气管、21收集管。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

本实用新型提供了一种镀膜均匀的真空镀膜设备，包括真空箱1，所述真空箱1内部中心处固定设有固定机构2，所述固定机构2包括固定筒12、齿轮组13、一号固定杆14、二号固定杆15和接触块16，所述齿轮组13活动设于固定筒12内部，所述一号固定杆14和二号固定杆15贯穿于固定筒12两侧，所述接触块16固定设于固定筒12底部，所述一号固定杆14和二号固定杆15远离固定筒12的一端均固定设有固定板17，所述固定筒12两侧表面均开设有开槽18，所述一号固定杆14和二号固定杆15贯穿于对应开槽18内部，所述真空箱1内部底端开设有底槽3，所述底槽3内部顶端固定设有坩埚4，所述坩埚4外周固定设有导板5，所述真空箱1顶部活动设有箱盖8。

所述底槽3两侧均设有进气管6，且进气管6贯穿于真空箱1内部底端。

所述真空箱1内部两侧均固定设有靶弧源7，且靶弧源7连接外部电源。

所述坩埚4底部固定设有一号加热板10，且一号加热板10位于底槽3内部中层。

所述连接管9两侧均设有二号加热板11，且二号加热板11与固定板17之间对应设置。

所述齿轮组13包括主动齿轮和被动齿轮，且主动齿轮端部通过连接轴固定连接有电机。

所述固定板17呈劣弧形设置，且固定板17在接触块16与二号加热板11之间翻转设置。

如图1-4所示，实施方式具体为：使用时，通过坩埚4与一号加热板10的结合，可进行真空蒸发镀膜，通过进气管6与靶弧源7的结合，可进行真空电镀，靶件固定在固定板17的外侧面，真空箱1与箱盖8密封连接，通过连接管9对真空箱1内部进行抽真空，真空蒸发镀膜时，两组固定板17靠近接触块16合并形成半圆形，可比平面的固定板固定更多的靶件，同时靶件的接触面更加广泛，不会背对靶材，一号加热板10连接外部电源及开关可对坩埚4进行加热，靶件在半圆形固定板17的固定下，便于坩埚4内部的靶材蒸发并均匀附着在固定板17表面的靶件上，真空电镀时，主动齿轮与被动齿轮之间平行啮合，电机带动主动齿轮及二号固定杆15转动，被动齿轮及一号固定杆14以反方向转动，一号固定杆14和二号固定杆15沿对应的开槽18内部滑动，使两组固定板17反向翻转呈括号形分布，两组固定板17与对应的二号加热板11相接触，便于进行加热，同时两组固定板17对应真空箱1内部两侧的靶弧源7，靶弧源7连接外部电源工作，通过进气管6向真空箱1内部通入反应气体，此时可对固定板17表面的靶件进行镀膜，该实施方式具体解决了现有真空镀膜设备仅能提供一种真空镀膜方式的问题。

所述真空箱1与箱盖8之间为密封设置，所述导板5远离坩埚4的侧面呈弧形设置。

所述箱盖8底部固定设有连接管9，所述连接管9顶部固定设有分流管19，且分流管19贯穿于箱盖8内部中心处，所述分流管19两侧分别设有抽气管20和收集管21。

如图1和5所示，实施方式具体为：抽气管20连接外部真空泵，收集管21连接外部循环气泵，抽气管20和收集管21不能同时工作，抽气管20工作时，可通过分流管19及连接管9对真空箱1内部进行抽真空，收集管21工作时，同样通过分流管19及连接管9将真空箱1内部剩余的反应气体抽出，便于后续再次使用或排放处理，坩埚4周围蒸发掉落的靶材可通过导板5的导向流至底槽3的底层，便于后续集中处理，该实施方式具体解决了现有真空镀膜设备不便对真空箱1内部靶材进行处理的问题。

本实用新型工作原理：

参照说明书附图1-5，使用时，通过坩埚4与一号加热板10的结合，可进行真空蒸发镀膜，通过进气管6与靶弧源7的结合，可进行真空电镀，靶件固定在固定板17的外侧面，真空箱1与箱盖8密封连接，通过连接管9对真空箱1内部进行抽真空，真空蒸发镀膜时，两组固定板17靠近接触块16合并形成半圆形，可比平面的固定板固定更多的靶件，同时靶件的接触面更加广泛，不会背对靶材，一号加热板10可对坩埚4进行加热，靶件在半圆形固定板17的固定下，便于坩埚4内部的靶材蒸发并均匀附着在固定板17表面的靶件上，真空电镀时，电机带动主动齿轮及二号固定杆15转动，被动齿轮及一号固定杆14以反方向转动，一号固定杆14和二号固定杆15沿对应的开槽18内部滑动，使两组固定板17反向翻转呈括号形分布，两组固定板17与对应的二号加热板11相接触，便于进行加热，同时两组固定板17对应真空箱1内部两侧的靶弧源7，靶弧源7连接外部电源工作，通过进气管6向真空箱1内部通入反应气体，此时可对固定板17表面的靶件进行镀膜，抽气管20工作时，可通过分流管19及连接管9对真空箱1内部进行抽真空，收集管21工作时，同样通过分流管19及连接管9将真空箱1内部剩余的反应气体抽出，便于后续再次使用或排放处理，坩埚4周围蒸发掉落的靶材可通过导板5的导向流至底槽3的底层，便于后续集中处理。

最后应说明的几点是：首先，在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,可以是机械连接或电连接,也可以是两个元件内部的连通,可以是直接相连,“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变，则相对位置关系可能发生改变；

其次：本实用新型公开实施例附图中，只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计，在不冲突情况下，本实用新型同一实施例及不同实施例可以相互组合；

最后：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种镀膜均匀的真空镀膜设备，包括真空箱(1)，其特征在于：所述真空箱(1)内部中心处固定设有固定机构(2)，所述固定机构(2)包括固定筒(12)、齿轮组(13)、一号固定杆(14)、二号固定杆(15)和接触块(16)，所述齿轮组(13)活动设于固定筒(12)内部，所述一号固定杆(14)和二号固定杆(15)贯穿于固定筒(12)两侧，所述接触块(16)固定设于固定筒(12)底部，所述一号固定杆(14)和二号固定杆(15)远离固定筒(12)的一端均固定设有固定板(17)，所述固定筒(12)两侧表面均开设有开槽(18)，所述一号固定杆(14)和二号固定杆(15)贯穿于对应开槽(18)内部，所述真空箱(1)内部底端开设有底槽(3)，所述底槽(3)内部顶端固定设有坩埚(4)，所述坩埚(4)外周固定设有导板(5)，所述真空箱(1)顶部活动设有箱盖(8)，所述箱盖(8)底部固定设有连接管(9)，所述连接管(9)顶部固定设有分流管(19)，且分流管(19)贯穿于箱盖(8)内部中心处，所述分流管(19)两侧分别设有抽气管(20)和收集管(21)。

2.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜设备，其特征在于：所述底槽(3)两侧均设有进气管(6)，且进气管(6)贯穿于真空箱(1)内部底端。

3.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜设备，其特征在于：所述真空箱(1)内部两侧均固定设有靶弧源(7)，且靶弧源(7)连接外部电源。

4.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜设备，其特征在于：所述坩埚(4)底部固定设有一号加热板(10)，且一号加热板(10)位于底槽(3)内部中层。

5.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜设备，其特征在于：所述连接管(9)两侧均设有二号加热板(11)，且二号加热板(11)与固定板(17)之间对应设置。

6.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜设备，其特征在于：所述真空箱(1)与箱盖(8)之间为密封设置，所述导板(5)远离坩埚(4)的侧面呈弧形设置。

7.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜设备，其特征在于：所述齿轮组(13)包括主动齿轮和被动齿轮，且主动齿轮端部通过连接轴固定连接有电机。

8.根据权利要求5所述的一种镀膜均匀的真空镀膜设备，其特征在于：所述固定板(17)呈劣弧形设置，且固定板(17)在接触块(16)与二号加热板(11)之间翻转设置。

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