CN210879103U - 一种陶瓷基片研磨抛光机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及陶瓷基片生产装置，具体涉及一种陶瓷基片研磨抛光机，包括基座，基座为“V”字形结构；基座上设有通过电机驱动旋转的旋转下圆盘；基座上左右两端分别设有左支撑架和右支撑架，左支撑架和右支撑架上横跨旋转下圆盘设有导轨和驱动螺杆；导轨上设有复数个抛光机构；抛光机构包括抛光底座、电动机、从动动力输出机构、从动动力输出机构上的动力输出轴连接的上圆盘和设于抛光底座上的油缸；油缸包括油缸筒和活塞杆，油缸筒固定设于抛光底座上；动力输出轴在活塞杆的带动下在旋转的同时上下运动；本实用新型提供一种陶瓷基片研磨抛光机，其机体小巧，结构简易，便于维护，成本低。
Description
技术领域
本实用新型涉及陶瓷基片生产装置，具体涉及一种陶瓷基片研磨抛光机。
背景技术
陶瓷基片表面的光滑度是产品优良的重要指标之一，因此在生产的过程中，需要经过研磨抛光的工艺处理，习用陶瓷基片的研磨抛光机机体庞大，结构复杂，设备昂贵，对于中小微企业来说，采购成本高。
因此，目前急需一种陶瓷基片研磨抛光机，其机体小巧，结构简易，便于维护，成本低。
实用新型内容
为了解决以上存在的技术问题，本实用新型提供一种陶瓷基片研磨抛光机，其机体小巧，结构简易，便于维护，成本低。
本实用新型采用如下技术方案：
一种陶瓷基片研磨抛光机，包括基座，所述基座为“V”字形结构；所述基座上设有通过电机驱动旋转的旋转下圆盘；所述基座上左右两端分别设有左支撑架和右支撑架，所述左支撑架和所述右支撑架上横跨所述旋转下圆盘设有导轨和驱动螺杆；所述导轨上设有复数个抛光机构；所述抛光机构包括设于所述导轨上通过所述驱动螺杆驱动进行左右滑动的抛光底座、设于抛光底座上的电动机、通过所述电动机的皮带带动的从动动力输出机构、所述从动动力输出机构上的动力输出轴连接的上圆盘和设于所述抛光底座上的油缸；所述油缸包括油缸筒和活塞杆，所述油缸筒固定设于所述抛光底座上；所述动力输出轴在所述活塞杆的带动下在旋转的同时上下运动。
所述活塞杆连接有轴承机构，所述轴承机构内套所述动力输出轴，所述动力输出轴底部侧面设有定位螺丝，所述定位螺丝包括设于所述动力输出轴的螺母、套设于所述螺母中的螺丝。
进一步，所述电动机为伺服电动机。
进一步，所述左支撑架上设有螺杆电机，所述螺杆电机为伺服电动机，所述螺杆电机用于驱动所述驱动螺杆旋转，通过所述驱动螺杆的旋转带动所述抛光底座的左右滑动。
更进一步，所述导轨为工字型导轨。
优选地，所述抛光机构数量为2座，所述旋转下圆盘中心的两侧等距各设一座所述抛光机构；所述从动动力输出机构两侧各设有一所述油缸。
由上述对本实用新型结构的描述可知，和现有技术相比，本实用新型具有如下优点：1、本实用新型通过油缸的活塞杆的下压带动旋转的动力输出轴下压，通过动力输出轴的下压带动上圆盘下压，从而实现旋转的上圆盘和旋转下圆盘对陶瓷基片的研磨抛光，同时驱动螺杆带动抛光底座左右移动，进一步实现对陶瓷基片的研磨抛光，结构简易，维护人员便于维修；2、本实用新型通过导轨进行跨度调节，调节精度高且性能稳定，进一步增强对产品的研磨的抛光度；3、本实用新型电动机为作无级变速的伺服电机，操作人员根据需要进行速度的调节，满足研磨工件对设备的研磨的速度需求；4、本实用新型的运动方式多样，对研磨工件在各个方向上的研磨均能进行高效的充分研磨，提高产品质量；5、本实用新型根据需要，可加装修盘器，提升设备的性能，进一步挺高产品质量。
附图说明
图1为本实用新型立体图1；
图2为本实用新型立体图2；
图3为本实用新型立体图3；
图4为本实用新型立体图4；
图5为图4中A部分的局部放大立体图。
具体实施方式
下面参照附图说明本实用新型的具体实施方式。
参见图1至图5，一种陶瓷基片研磨抛光机，包括基座1，基座1为“V”字形结构；基座1上设有通过电机驱动旋转的旋转下圆盘11；基座1上左右两端分别设有左支撑架12和右支撑架13，左支撑架12和右支撑架13上横跨旋转下圆盘11设有导轨14和驱动螺杆15；导轨14上设有复数个抛光机构2；抛光机构2包括设于导轨14上通过驱动螺杆15驱动进行左右滑动的抛光底座21、设于抛光底座21上的电动机22、通过电动机22的皮带23带动的从动动力输出机构24、从动动力输出机构24上的动力输出轴241连接的上圆盘25和设于抛光底座21上的油缸26；油缸26包括油缸筒261和活塞杆262，油缸筒261固定设于抛光底座21上；动力输出轴241在活塞杆262的带动下在旋转的同时上下运动。
参见图1至图5，活塞杆262连接有轴承机构3，轴承机构3内套动力输出轴241，动力输出轴241底部侧面设有定位螺丝4，定位螺丝4包括设于动力输出轴241的螺母41、套设于螺母41中的螺丝42。电动机22为伺服电动机，左支撑架12设有螺杆电机121，螺杆电机121为伺服电动机，螺杆电机121用于驱动驱动螺杆15旋转，通过驱动螺杆15的旋转带动抛光底座21的左右滑动，导轨14为工字型导轨；抛光机构2数量为2座，旋转下圆盘11中心的两侧等距各设一座抛光机构2；从动动力输出机构24两侧各设有一油缸26。
上述仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的设计构思并不局限于此，凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动，均应属于侵犯本实用新型保护范围的行为。
Claims (8)
1.一种陶瓷基片研磨抛光机，包括基座，其特征是：所述基座为“V”字形结构；所述基座上设有通过电机驱动旋转的旋转下圆盘；所述基座上左右两端分别设有左支撑架和右支撑架，所述左支撑架和所述右支撑架上横跨所述旋转下圆盘设有导轨和驱动螺杆；所述导轨上设有复数个抛光机构；所述抛光机构包括设于所述导轨上通过所述驱动螺杆驱动进行左右滑动的抛光底座、设于抛光底座上的电动机、通过所述电动机的皮带带动的从动动力输出机构、所述从动动力输出机构上的动力输出轴连接的上圆盘和设于所述抛光底座上的油缸；所述油缸包括油缸筒和活塞杆，所述油缸筒固定设于所述抛光底座上；所述动力输出轴在所述活塞杆的带动下在旋转的同时上下运动。
2.根据权利要求1所述的一种陶瓷基片研磨抛光机，其特征是：所述活塞杆连接有轴承机构，所述轴承机构内套所述动力输出轴，所述动力输出轴底部侧面设有定位螺丝，所述定位螺丝包括设于所述动力输出轴的螺母、套设于所述螺母中的螺丝。
3.根据权利要求1或2所述的一种陶瓷基片研磨抛光机，其特征是：所述电动机为伺服电动机。
4.根据权利要求1或2所述的一种陶瓷基片研磨抛光机，其特征是：所述左支撑架上设有螺杆电机，所述螺杆电机为伺服电动机，所述螺杆电机用于驱动所述驱动螺杆旋转，通过所述驱动螺杆的旋转带动所述抛光底座的左右滑动。
5.根据权利要求1或2所述的一种陶瓷基片研磨抛光机，其特征是：所述导轨为工字型导轨。
6.根据权利要求1或2所述的一种陶瓷基片研磨抛光机，其特征是：所述抛光机构数量为2座，所述旋转下圆盘中心的两侧等距各设一座所述抛光机构。
7.根据权利要求1或2所述的一种陶瓷基片研磨抛光机，其特征是：所述从动动力输出机构两侧各设有一所述油缸。
8.根据权利要求6所述的一种陶瓷基片研磨抛光机，其特征是：所述从动动力输出机构两侧各设有一所述油缸。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN201922015266.4U CN210879103U (zh) | 2019-11-20 | 2019-11-20 | 一种陶瓷基片研磨抛光机 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN210879103U true CN210879103U (zh) | 2020-06-30 |
Family
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Family Applications (1)
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Country Status (1)
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2019
- 2019-11-20 CN CN201922015266.4U patent/CN210879103U/zh active Active
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