CN210879047U - 一种环形工件的抛光装置 - Google Patents

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熊翼
姚依鑫
孙黄玲
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Abstract

本实用新型公开了一种环形工件的抛光装置,涉及打磨装置领域,包括下架台,所述下架台的顶板下设有电机一,所述电机一的输出轴连接有定位盘,所述下架台上还设有上架台,所述上架台的立柱上均设有滑槽一,上架台的中下部设有支撑板,上架台的顶部下设有气缸,所述支撑板通过滑槽一与上架台滑动连接,所述支撑板上设有两个抛光装置,所述气缸的伸缩杆顶部与支撑板固定连接。本实用新型利用一对抛光装置可同时对环形工件的内外壁同时进行打磨,且打磨程度一致,工件表面圆弧完整连续,无过度抛光导致的不平整。两个抛光装置的相对位置可调,可适应不同厚度工件的内外壁打磨。

Description

一种环形工件的抛光装置
技术领域
本实用新型涉及打磨装置领域,具体涉及一种环形工件的抛光装置。
背景技术
环形工件在进行抛光时,现有抛光装置无法对内壁和外壁同时进行抛光,需要进行两次抛光操作,效率低下,费时费力,且分别对内壁和外壁进行抛光时无法保证抛光程度一致,无法实现标准化操作,且抛光程度不同容易造成使用过程中内外壁的磨损程度不同,使工件出现过早报废的现象。人工打磨过程中还可能破坏环形工件的弧度完整性,使工件的表面无法形成完整的圆形,增加废品率。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种环形工件的抛光装置,克服目前环形工件无法内外侧同时抛光及抛光面不标准的缺陷。
一种环形工件的抛光装置,包括下架台,所述下架台的顶板下设有电机一,所述电机一的输出轴连接有定位盘,所述下架台上还设有上架台,所述上架台的立柱上均设有滑槽一,上架台的中下部设有支撑板,上架台的顶部下设有气缸,所述支撑板通过滑槽一与上架台滑动连接,所述支撑板上设有两个抛光装置,所述气缸的伸缩杆顶部与支撑板固定连接。
优选地,所述支撑板上设有方形孔,两个抛光装置均穿过方形孔并与支撑板滑动连接。
优选地,所述抛光装置包括滑块、打磨电机和打磨棒,所述滑块两侧分别设有上凸块和下凸块,滑块通过下凸块与方形孔的侧壁滑动连接,所述上凸块上设有限位螺钉,所述打磨电机设于滑块上,所述打磨电机的输出轴顶端穿过滑块与打磨棒上端连接。
优选地,所述定位盘的顶端上有若干定位孔,底端上设有清扫孔。
优选地,所述下架台的底部设有缓震垫。
本实用新型的优点在于:利用一对抛光装置可同时对环形工件的内外壁同时进行打磨,且打磨程度一致,工件表面圆弧完整连续,无过度抛光导致的不平整。两个抛光装置的相对位置可调,可适应不同厚度工件的内外壁打磨。
附图说明
图1~3为本实用新型的整体结构示意图。
图4为抛光装置的结构示意图。
图5为定位盘的结构示意图。
其中,1-下架台,2-上架台,21-滑槽一,3-电机一,4-定位盘,41-定位孔,42-清扫孔,5-支撑板,6-抛光装置,61-限位螺钉,62-打磨电机,63-滑块,64-上凸块,65-下凸块,66-打磨棒,7-气缸,8-方形孔,9-缓震垫。
具体实施方式
为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本实用新型。
如图1至图5所示,一种环形工件的抛光装置,包括下架台1,所述下架台1的顶板下设有电机一3,所述电机一3的输出轴连接有定位盘4,所述下架台1上还设有上架台2,所述上架台2的立柱上均设有滑槽一21,上架台2的中下部设有支撑板5,上架台2的顶部下设有气缸7,所述支撑板5通过滑槽一21与上架台2滑动连接,所述支撑板5上设有两个抛光装置6,所述气缸7的伸缩杆顶部与支撑板5固定连接。
优选地,所述支撑板5上设有方形孔8,两个抛光装置6均穿过方形孔8并与支撑板5滑动连接。方形孔8的长轴沿工件的径向设置。
优选地,所述抛光装置6包括滑块63、打磨电机62和打磨棒66,所述滑块63两侧分别设有上凸块64和下凸块65,滑块63通过下凸块65与方形孔8的侧壁滑动连接,所述上凸块64上设有限位螺钉61,所述打磨电机62设于滑块63上,所述打磨电机62的输出轴顶端穿过滑块63与打磨棒66上端连接。
优选地,所述定位盘4的顶端上有若干定位孔41,底端上设有清扫孔42。
优选地,所述下架台的底部设有缓震垫9。
工作过程及原理:打磨工件前,将工件放置于定位盘上4,将工件上的定位孔与定位盘上的定位孔41对齐,用螺钉将工件底部固定在定位盘4上,再移动滑块63,调整打磨棒66之间的距离,使两个打磨棒66分别与工件的内外壁接触并相切,随后通过限位螺钉61锁定抛光装置6,打开两个打磨电机62,打开气缸7,下降支撑板5,使抛光装置6位于打磨工位上,再打开电机一3使得工件随定位盘4缓慢匀速转动即可进行内外壁同时抛光。抛光完成后,先抬升支撑板5,打磨棒66完全离开工件表面后,关闭电机一3和打磨电机62,取下工件即可。当定位盘4中的碎屑过多时,可通过清扫孔42清除。缓震垫可9在打磨过程显著减低架台的震动,提高打磨精度。
由技术常识可知,本实用新型可以通过其它的不脱离其精神实质或必要特征的实施方案来实现。因此,上述公开的实施方案,就各方面而言,都只是举例说明,并不是仅有的。所有在本实用新型范围内或在等同于本实用新型的范围内的改变均被本实用新型包含。

Claims (5)

1.一种环形工件的抛光装置,其特征在于,包括下架台(1),所述下架台(1)的顶板下设有电机一(3),所述电机一(3)的输出轴连接有定位盘(4),所述下架台(1)上还设有上架台(2),所述上架台(2)的立柱上均设有滑槽一(21),上架台(2)的中下部设有支撑板(5),上架台(2)的顶部下设有气缸(7),所述支撑板(5)通过滑槽一(21)与上架台(2)滑动连接,所述支撑板(5)上设有两个抛光装置(6),所述气缸(7)的伸缩杆顶部与支撑板(5)固定连接。
2.根据权利要求1所述的一种环形工件的抛光装置,其特征在于,所述支撑板(5)上设有方形孔(8),两个抛光装置(6)均穿过方形孔(8)并与支撑板(5)滑动连接。
3.根据权利要求2所述的一种环形工件的抛光装置,其特征在于,所述抛光装置(6)包括滑块(63)、打磨电机(62)和打磨棒(66),所述滑块(63)两侧分别设有上凸块(64)和下凸块(65),滑块(63)通过下凸块(65)与方形孔(8)的侧壁滑动连接,所述上凸块(64)上设有限位螺钉(61),所述打磨电机(62)设于滑块(63)上,所述打磨电机(62)的输出轴顶端穿过滑块(63)与打磨棒(66)上端连接。
4.根据权利要求1所述的一种环形工件的抛光装置,其特征在于,所述定位盘(4)的顶端上有若干定位孔(41),底端上设有清扫孔(42)。
5.根据权利要求4所述的一种环形工件的抛光装置,其特征在于,所述下架台的底部设有缓震垫(9)。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN117798786A (zh) * 2024-03-01 2024-04-02 三明市南益机械设备有限公司 一种铸件表面处理装置

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