CN210699103U - 抛光液循环过滤系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及抛光液循环过滤系统，其搭载于抛光机床上，包括：储液装置，储液装置为倒置布置的锥形桶，锥形桶上部为出液侧，其下部为回液侧；第一供液装置和第二供液装置，第一供液装置和第二供液装置的进液端并列连接于储液装置出液侧；第一供液装置和第二供液装置的出液端连接至抛光机床；回液装置，回液装置回液进液端连接至抛光机床的储液槽，其回液出液端连通于储液装置的进液侧，回流的抛光液从锥形桶底部冲入锥形桶内，使锥形桶内的抛光液形成自扰动；控制终端，第一供液装置、第二供液装置和回液装置均与控制终端电性连接；控制终端按照预设程序控制第一供液装置和/或第二供液装置供液提高系统供液可靠性。
Description
技术领域
本实用新型涉及光学元件制造技术领域，更具体的说是涉及抛光液循环过滤系统。
背景技术
在抛光加工工艺过程中抛光液是必不可少的加工辅料，工艺过程中需要持续有抛光液参与，抛光液一般由抛光粉和水按照一定比例混合而成的悬浊液，由于抛光粉颗粒团聚或者外部杂质导致抛光液中存在大量的粗大颗粒，因此在抛光液喷至加工区前需要进行精密过滤，但是由于这种颗粒物的存在容易造成过滤部件堵塞，导致抛光液无法充足供应，导致抛光工具烧蚀，同时光学元件表面面形也将遭到严重破坏。
因此，如何提供一种能够持续供液的装置是本领域技术人员亟需解决的问题。
实用新型内容
有鉴于此，本实用新型提供了一种抛光液循环过滤系统，解决了现有技术抛光中由于管路堵塞无法保证抛光液持续供应的技术问题。
为了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：
抛光液循环过滤系统，其搭载于抛光机床上，包括：
储液装置，储液装置为倒置布置的锥形桶，锥形桶上部为出液侧，其下部为回液侧；
第一供液装置和第二供液装置，第一供液装置和第二供液装置的进液端并列连接于储液装置出液侧；第一供液装置和第二供液装置的出液端连接至抛光机床；
回液装置，回液装置回液进液端连接至抛光机床的储液槽，其回液出液端连通于储液装置的进液侧，回流的抛光液从锥形桶底部冲入锥形桶内，使锥形桶内的抛光液形成自扰动；
控制终端，第一供液装置、第二供液装置和回液装置均与控制终端电性连接；控制终端按照预设程序控制第一供液装置和/或第二供液装置供液提高系统供液可靠性。
经由上述的技术方案可知，与现有技术相比，本实用新型公开提供了一种抛光液循环过滤系统，由于布置了两套供液装置，供液装置由控制终端控制，可实现任一供液装置或两个供液装置供液，保证当任一供液装置出现故障，另外一套能够启用，保证抛光液的持续供给，有效防止了由于缺少抛光液导致的抛光工具烧蚀，光学元件表面面形遭到严重破坏的问题；同时由于储液装置为倒置布置的锥形桶，回液装置回液进液端连接至抛光机床的储液槽，其回液出液端连通于储液装置的进液侧，回流的抛光液从锥形桶底部冲入锥形桶内，使锥形桶内的抛光液形成自扰动，防止储液装置内抛光粉沉淀。
优选地，第一供液装置和第二供液装置结构相同，均包括：供液泵、过滤器、压力传感器、流量计及供液管路；
供液泵与储液装置出液侧连通，用于将抛光液泵出；
过滤器通过供液管路连接于供液泵和抛光机床之间，用于过滤抛光液中的杂质；
压力传感器固定于过滤器顶部，用于检测过滤器的压力值；
流量计安装于供液泵和抛光机床之间，用于计量供至抛光机床的抛光液量；
其中供液泵、压力传感器和流量计均与控制终端电性连接；控制终端接收压力传感器检测的过滤器的压力信号，超过设置阈值报警提示；控制终端接收流量计的流量信息，并与加工程序预设的抛光液量比对，控制供液泵工作。
其中流量计可以用于计量流入抛光机床的抛光液的量，此量低于所需值，控制终端提示系统检修或报故障；压力传感器用于检测过滤器的压力值，并将其反馈至控制终端，压力信号超过预设值报警提示维修或更换。
采用此方案的效果为：控制终端可以通过控制不同的供液泵实现供液，可降低系统中硬件故障导致抛光液整体断流的风险，提高系统运行可靠性。
优选地，供液泵为潜水泵，用于泵取锥形桶内部的悬浮液防止大颗粒杂质泵出参与工作；可降低大颗粒被喷出的风险。
优选地，还包括三通阀，三通阀第一端连接供液泵、第二端连接至过滤器，使抛光液经过过滤器过滤杂质，第三端连接至锥形桶底部回液侧，增加锥形桶内部抛光液扰动防止其沉淀。由此，供液泵具有回流功能，使每路抛光液从储液装置喷出后均进行分流，一部分通向抛光机床，一部分从储液装置底部回流增加锥形桶内部抛光液扰动防止其沉淀。
优选地，三通阀的第三端与锥形桶底部回液侧之间设置有阀门，阀门用于调节回流液体的回流量大小，该阀门可以为机械式或电子式。
优选地，过滤器内设置有过滤袋，过滤压力传感器用于监测过滤袋内的压力，并将其反馈至控制终端，控制终端根据预设的压力值判断压力是否正常，并提示更换过滤袋。其中报警可以在控制终端上显示，也可以在过滤器上设置报警器报警。
优选地，回液装置包括回收桶、回收桶液位传感器及回收泵；
回收桶连通抛光机床的出液槽，用于回收抛光机床上的抛光液；
回收桶液位传感器位于回收桶内，用于监测回收桶内抛光液的液位值；
回收泵包括两个，每一个回收泵的回液进液端均连通回收桶，其回液出液端通过管路均连通于锥形桶的回液侧；
其中回收桶液位传感器、回收泵均与控制终端电性连接；控制终端根据回收桶液位传感器反馈的抛光液液位信息，超过预设上限位置，控制任一个或两个回收泵工作，将抛光液回流至锥形桶内，抛光液达到下限位置控制回收泵停止工作。
采用此方案将抛光机床的抛光液回收至储液装置，形成抛光液的循环供液；回收桶内部安装液位传感器；当抛光液达到上限位则回收泵启动，将抛光液将抛光液回收桶回流至储液装置内；抛光液达到下限位则回收泵停止工作。布置两条回液通道，可降低系统中硬件故障导致抛光液整体断流的风险，提高系统运行可靠性。
优选地，还包括与控制终端电性连接的冷却装置，储液装置内壁上盘置有与冷却装置连接的冷却管；冷却水在冷却管中循环冷却抛光液。由于抛光液中抛光粉易沉淀，所以抛光液需要搅动否则抛光液浓度会因抛光粉沉淀导致浓度大幅降低。而现有技术中为了降低抛光粉沉淀，一般采用搅拌电机带动叶片搅动抛光液，这种方式下由于搅拌电机长时间工作发热，导致其成为抛光液发热的重要热源。通过抛光液内部循环形成自扰动的搅动方式可以避免搅拌电机发热问题，在加工过程中不可避免会存在导致抛光液温升的热源，如泵发热、工作台发热、加工热等，这种热量会影响加工条件变化，导致光学元件去除材料性能不稳定。因此，本实用新型中采用了冷却装置，增加抛光液温度的可控性，提高光学元件加工精度。
优选地，储液装置内设置有与控制终端电性连接的温度传感器；温度传感器将储液装置中的抛光液温度信息反馈至控制终端，控制终端根据温度信息控制冷却装置工作。
优选地，储液装置内设置有与控制终端电性连接的储液液位传感器；储液液位传感器监测储液装置内抛光液位置信息，并将其反馈至控制终端，控制终端根据抛光液位置信息，提示操作人员补液或排液，以防止桶内抛光液过少导致供液泵空吸，或防止储液装置内抛光液过多导致抛光液溢出。
综上，本实用新型通过设置两条供液通道、两条回液通道降低系统中硬件故障导致抛光液整体断流的风险，提高装置运行可靠性。储液装置为倒锥形布置的储液桶，同时抛光液回流均从锥形桶底部进液孔冲入桶内，从而使锥形桶内抛光液形成自扰动，避免了抛光液在桶底沉淀，提升抛光液浓度稳定保持能力。通过冷却装置增加了抛光液的温控功能，提高光学元件加工精度。本实用新型通过监测压力信号、液位信号、温度信号及流量信号等提高了系统的自动化水平。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1附图为本实用新型提供的抛光液循环过滤系统的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型实施例公开了一种抛光液循环过滤系统，解决了现有技术抛光中由于管路堵塞无法保证抛光液持续供应的技术问题。
参见附图1，本实用新型提供了抛光液循环过滤系统，其搭载于抛光机床上，包括：
储液装置1，储液装置1为倒置布置的锥形桶，锥形桶上部为出液侧，其下部为回液侧；
第一供液装置和第二供液装置，第一供液装置和第二供液装置的进液端并列连接于储液装置1出液侧；第一供液装置和第二供液装置的出液端连接至抛光机床；
回液装置，回液装置回液进液端连接至抛光机床的储液槽，其回液出液端连通于储液装置1的进液侧，回流的抛光液从锥形桶底部冲入锥形桶内，使锥形桶内的抛光液形成自扰动；
控制终端，第一供液装置、第二供液装置和回液装置均与控制终端电性连接；控制终端按照预设程序控制第一供液装置和/或第二供液装置供液提高系统供液可靠性。
本实用新型公开提供了一种抛光液循环过滤系统，由于布置了两套供液装置，供液装置由控制终端控制，可实现任一供液装置或两个供液装置供液，保证当任一供液装置出现故障，另外一套能够启用，保证抛光液的持续供给，有效防止了由于缺少抛光液导致的抛光工具烧蚀，光学元件表面面形遭到严重破坏的问题。
具体而言，第一供液装置和第二供液装置结构相同，均包括：供液泵2、过滤器3、压力传感器、流量计4及供液管路；
供液泵2与储液装置1出液侧连通，用于将抛光液泵出；
过滤器3通过供液管路连接于供液泵2和抛光机床之间，用于过滤抛光液中的杂质；
压力传感器固定于过滤器3顶部，用于检测过滤器3的压力值；
流量计4安装于供液泵2和抛光机床之间，用于计量供至抛光机床的抛光液量；
其中供液泵2、压力传感器和流量计4均与控制终端电性连接；控制终端接收压力传感器检测的过滤器的压力信号，超过设置阈值报警提示；控制终端接收流量计的流量信息，并与加工程序预设的抛光液量对比，控制供液泵2工作。
其中流量计可以用于计量流入抛光机床的抛光液的量，此量低于所需值，控制终端提示系统检修或报故障；压力传感器用于检测过滤器的压力值，并将其反馈至控制终端，压力信号超过预设值报警提示维修或更换。
采用此方案的效果为：控制终端可以通过控制不同的供液泵实现供液，可降低系统中硬件故障导致抛光液整体断流的风险，提高系统运行可靠性。
有利的是，供液泵2为潜水泵，用于泵取锥形桶内部的悬浮液防止大颗粒杂质泵出参与工作；可降低大颗粒被喷出的风险。
在本实用新型提供的实施例中，还包括三通阀5，三通阀5第一端连接供液泵2、第二端连接至过滤器3，使抛光液经过过滤器3过滤杂质，第三端连接至锥形桶底部回液侧，增加锥形桶内部抛光液扰动防止其沉淀。由此，供液泵具有回流功能，使每路抛光液从储液装置喷出后均进行分流，一部分通向抛光机床，一部分从储液装置底部回流增加锥形桶内部抛光液扰动防止其沉淀。
有利的是，三通阀5的第三端与锥形桶底部回液侧之间设置有阀门，阀门用于调节回流液体的回流量大小。该阀门可以为机械式或电子式。
在本实用新型的一个实施例中，过滤器3内设置有过滤袋，过滤压力传感器用于监测过滤袋内的压力，并将其反馈至控制终端，控制终端根据预设的压力值判断压力是否正常，并提示更换过滤袋。其中报警可以在控制终端上显示，也可以在过滤器上设置报警器报警。
在本实用新型的另一些实施例中，回液装置包括回收桶6、回收桶液位传感器7及回收泵8；
回收桶6连通抛光机床的出液槽，用于回收抛光机床上的抛光液；
回收桶液位传感器7位于回收桶6内，用于监测回收桶6内抛光液的液位值；
回收泵8包括两个，每一个回收泵8的回液进液端均连通回收桶6，其回液出液端通过管路均连通于锥形桶的回液侧；
其中回收桶液位传感器7、回收泵8均与控制终端电性连接；控制终端根据回收桶液位传感器7反馈的抛光液液位信息，超过预设上限位置，控制任一个或两个回收泵8工作，将抛光液回流至锥形桶内，抛光液达到下限位置控制回收泵8停止工作。
由此将抛光机床的抛光液回收至储液装置，形成抛光液的循环供液；回收桶内部安装液位传感器；当抛光液达到上限位则回收泵启动，将抛光液将抛光液回收桶回流至储液装置内；抛光液达到下限位则回收泵停止工作。布置两条回液通道，可降低系统中硬件故障导致抛光液整体断流的风险，提高系统运行可靠性。
在本实用新型提供的另一些实施例中，还包括与控制终端电性连接的冷却装置9，储液装置1内壁上盘置有与冷却装置9连接的冷却管；冷却水在冷却管中循环冷却抛光液。由于抛光液中抛光粉易沉淀，所以抛光液需要搅动否则抛光液浓度会因抛光粉沉淀导致浓度大幅降低。而现有技术中为了降低抛光粉沉淀，一般采用搅拌电机带动叶片搅动抛光液，这种方式下由于搅拌电机长时间工作发热，导致其成为抛光液发热的重要热源。通过抛光液内部循环形成自扰动的搅动方式可以避免搅拌电机发热问题，在加工过程中不可避免会存在导致抛光液温升的热源，如泵发热、工作台发热、加工热等，这种热量会影响加工条件变化，导致光学元件去除材料性能不稳定。因此，本实用新型中采用了冷却装置，增加抛光液温度的可控性，提高光学元件加工精度。
在上述各实施例中，储液装置1内设置有与控制终端电性连接的温度传感器；温度传感器将储液装置1中的抛光液温度信息反馈至控制终端，控制终端根据温度信息控制冷却装置9工作。
在上述各实施例中储液装置1内设置有与控制终端电性连接的储液液位传感器；储液液位传感器监测储液装置1内抛光液位置信息，并将其反馈至控制终端，控制终端根据抛光液位置信息，提示操作人员补液或排液，以防止桶内抛光液过少导致供液泵2空吸，或防止储液装置1内抛光液过多导致抛光液溢出。
综上，本实用新型通过设置两条供液通道、两条回液通道降低系统中硬件故障导致抛光液整体断流的风险，提高装置运行可靠性。储液装置为倒锥形布置的储液桶，同时抛光液回流均从锥形桶底部进液孔冲入桶内，从而使锥形桶内抛光液形成自扰动，避免了抛光液在桶底沉淀，提升抛光液浓度稳定保持能力。通过冷却装置增加了抛光液的温控功能，提高光学元件加工精度。本实用新型通过监测压力信号、液位信号、温度信号及流量信号等提高了系统的自动化水平。
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置而言，由于其与实施例公开的方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
Claims (10)
1.抛光液循环过滤系统，其搭载于抛光机床上，其特征在于，包括：
储液装置(1)，所述储液装置(1)为倒置布置的锥形桶，所述锥形桶上部为出液侧，其下部为回液侧；
第一供液装置和第二供液装置，所述第一供液装置和所述第二供液装置的进液端并列连接于所述储液装置(1)出液侧；所述第一供液装置和所述第二供液装置的出液端连接至抛光机床；
回液装置，所述回液装置回液进液端连接至所述抛光机床的储液槽，其回液出液端连通于所述储液装置(1)的进液侧，回流的抛光液从所述锥形桶底部冲入锥形桶内，使锥形桶内的抛光液形成自扰动；
控制终端，所述第一供液装置、所述第二供液装置和所述回液装置均与所述控制终端电性连接；所述控制终端按照预设程序控制所述第一供液装置和/或所述第二供液装置供液提高系统供液可靠性。
2.根据权利要求1所述的抛光液循环过滤系统，其特征在于，所述第一供液装置和所述第二供液装置结构相同，均包括：供液泵(2)、过滤器(3)、压力传感器、流量计(4)及供液管路；
所述供液泵(2)与所述储液装置(1)出液侧连通，用于将抛光液泵出；
所述过滤器(3)通过所述供液管路连接于所述供液泵(2)和所述抛光机床之间，用于过滤抛光液中的杂质；
所述压力传感器固定于所述过滤器(3)顶部，用于检测所述过滤器(3)的压力值；
所述流量计(4)安装于所述供液泵(2)和所述抛光机床之间，用于计量供至所述抛光机床的抛光液量；
其中所述供液泵(2)、所述压力传感器和所述流量计(4)均与所述控制终端电性连接；所述控制终端接收所述压力传感器检测的过滤器的压力信号，超过设置阈值报警提示；所述控制终端接收所述流量计的流量信息，并与加工程序预设的抛光液量，控制所述供液泵(2)工作。
3.根据权利要求2所述的抛光液循环过滤系统，其特征在于，所述供液泵(2)为潜水泵，用于泵取所述锥形桶内部的悬浮液防止大颗粒杂质泵出参与工作。
4.根据权利要求2所述的抛光液循环过滤系统，其特征在于，还包括三通阀(5)，所述三通阀(5)第一端连接所述供液泵(2)、第二端连接至所述过滤器(3)，使抛光液经过所述过滤器(3)过滤杂质，第三端连接至所述锥形桶底部回液侧，增加所述锥形桶内部抛光液扰动防止其沉淀。
5.根据权利要求4所述的抛光液循环过滤系统，其特征在于，所述三通阀(5)的第三端与所述锥形桶底部回液侧之间设置有阀门，所述阀门用于调节回流液体的回流量大小。
6.根据权利要求2所述的抛光液循环过滤系统，其特征在于，所述过滤器(3)内设置有过滤袋，所述过滤压力传感器用于监测所述过滤袋内的压力，并将其反馈至所述控制终端，所述控制终端根据预设的压力值判断压力是否正常，并提示更换所述过滤袋。
7.根据权利要求2所述的抛光液循环过滤系统，其特征在于，所述回液装置包括回收桶(6)、回收桶液位传感器(7)及回收泵(8)；
所述回收桶(6)连通所述抛光机床的出液槽，用于回收抛光机床上的抛光液；
所述回收桶液位传感器(7)位于所述回收桶(6)内，用于监测回收桶(6)内抛光液的液位值；
所述回收泵(8)包括两个，每一个所述回收泵(8)的回液进液端均连通所述回收桶(6)，其回液出液端通过管路均连通于所述锥形桶的回液侧；
其中所述回收桶液位传感器(7)、所述回收泵(8)均与所述控制终端电性连接；所述控制终端根据所述回收桶液位传感器(7)反馈的抛光液液位信息，超过预设上限位置，控制任一个或两个所述回收泵(8)工作，将抛光液回流至所述锥形桶内，抛光液达到下限位置控制所述回收泵(8)停止工作。
8.根据权利要求7所述的抛光液循环过滤系统，还包括与所述控制终端电性连接的冷却装置(9)，所述储液装置(1)内壁上盘置有与所述冷却装置(9)连接的冷却管；冷却水在所述冷却管中循环冷却抛光液。
9.根据权利要求8所述的抛光液循环过滤系统，所述储液装置(1)内设置有与所述控制终端电性连接的温度传感器；所述温度传感器将所述储液装置(1)中的抛光液温度信息反馈至所述控制终端，所述控制终端根据温度信息控制所述冷却装置(9)工作。
10.根据权利要求8所述的抛光液循环过滤系统，所述储液装置(1)内设置有与所述控制终端电性连接的储液液位传感器；所述储液液位传感器监测所述储液装置(1)内抛光液位置信息，并将其反馈至所述控制终端，所述控制终端根据抛光液位置信息，提示操作人员补液或排液，以防止桶内抛光液过少导致所述供液泵(2)空吸，或防止所述储液装置(1)内抛光液过多导致抛光液溢出。
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110227294A (zh) * | 2019-06-17 | 2019-09-13 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 抛光液循环过滤系统 |
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2019
- 2019-06-17 CN CN201920907878.1U patent/CN210699103U/zh not_active Withdrawn - After Issue
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110227294A (zh) * | 2019-06-17 | 2019-09-13 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 抛光液循环过滤系统 |
| CN110227294B (zh) * | 2019-06-17 | 2024-04-19 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 抛光液循环过滤系统 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| AV01 | Patent right actively abandoned |
Granted publication date: 20200609 Effective date of abandoning: 20240419 |
|
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