CN212468991U - 清洗设备 - Google Patents

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陈建铭
卢健平
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Zhonghuan Leading Xuzhou Semiconductor Materials Co ltd
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Xuzhou Xinjing Semiconductor Technology Co Ltd
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本实用新型公开了清洗设备,包括:清洗槽、泵、过滤器、第四连接管、微粒子检测仪和控制器,所述清洗槽包括内槽和设在所述内槽外周的外槽,所述外槽上设有出液口,所述内槽上设有喷嘴;所述泵与所述出液口通过第一连接管相连;所述过滤器的进料口通过第二连接管与所述泵相连,所述过滤器的出料口通过第三连接管与所述喷嘴相连;所述第四连接管与所述第一连接管相连,所述第四连接管上设有气动阀;所述微粒子检测仪与所述第二连接管相连;所述控制器分别与所述微粒子检测仪和所述气动阀相连,且所述控制器基于所述微粒子检测仪控制所述气动阀的开闭。由此,采用该清洗装置可以显著降低清洗槽内的微粒子数量,从而保证清洗后硅片具有较高的品质。

Description

清洗设备
技术领域
本实用新型属于清洗领域,具体涉及一种清洗设备。
背景技术
在槽式硅片清洗中,化学槽内的微粒子数量与清洗后硅片品质息息相关。尽管目前的槽式清洗装置都配置有循环微粒子过滤器,但往往溶液中的微粒子需要一定的过滤时间才能有效降低槽内溶液的微粒子数量,然而微粒子的产生却常常是持续不断且有可能是瞬间大量的产生的,因此仅仅靠循环微粒子过滤器就显得有些不足,在硅片清洗制程中化学溶液由于Zeta电位的影响,使得这些溶液中的微粒子表面带电荷与硅片表面电荷相互吸引,常造成硅片上的微粒子数量急剧增加,其根本原因就是化学槽内的即时微粒子数量过高。因此,现有的清洗技术有待改进。
实用新型内容
本实用新型旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此,本实用新型的一个目的在于提出一种清洗制备,采用该清洗装置可以显著降低清洗槽内的微粒子数量,从而保证清洗后硅片具有较高的品质。
在本实用新型的一个方面,本实用新型提出了一种清洗设备。根据本实用新型的实施例,所述清洗设备包括:
清洗槽,所述清洗槽包括内槽和设在所述内槽外周的外槽,并且所述外槽上设有出液口,所述内槽上设有喷嘴;
泵,所述泵与所述出液口通过第一连接管相连;
过滤器,所述过滤器的进料口通过第二连接管与所述泵相连,所述过滤器的出料口通过第三连接管与所述喷嘴相连;
第四连接管,所述第四连接管与所述第一连接管相连,并且所述第四连接管上设有气动阀;
微粒子检测仪,所述微粒子检测仪与所述第二连接管相连;
控制器,所述控制器分别与所述微粒子检测仪和所述气动阀相连,且所述控制器基于所述微粒子检测仪控制所述气动阀的开闭。
根据本实用新型实施例的清洗设备,通过在泵和过滤器之间的第二连接管上设置微粒子检测仪,同时在外槽和泵之间的第一连接管上设置第四连接管,并且在第四连接管上设置气动阀,并且设置分别与微粒子检测仪和气动阀相连的控制器,其中,微粒子检测仪可以实时监控流经第二连接管内清洗液中的微粒子数量,并将监测微粒子数量数据反馈到控制器,若大于预定微粒子阈值,则控制器控制打开气动阀,使得外槽内清洗液流经第一连接管后大部分再经第四连接管排放,即将含有大量微粒子的清洗液外排,从而快速降低清洗液中的微粒子,而少部分清洗液流经泵、第二连接管、过滤器和第三连接管后经设在内槽上的喷嘴对设在内槽内的研磨后硅片进行清洗,由于微粒子检测仪可以实时监控流经第二连接管内清洗液中的微粒子数量,一旦监测数据低于预定微粒子阈值,则控制器控制关闭气动阀,即使得流经第一连接管的清洗液流经泵、第二连接管、过滤器和第三连接管后经设在内槽上的喷嘴对设在内槽内的研磨后硅片进行清洗。由此,采用该清洗设备可以显著降低清洗槽内的微粒子数量,从而保证清洗后硅片具有较高的品质。
另外,根据本实用新型上述实施例的清洗制备还可以具有如下附加的技术特征:
优选的,所述外槽内设有液位计。
优选的,上述清洗设备进一步包括:水供给装置和清洗液供给装置,所述控制器分别与所述水供给装置、所述清洗液供给装置和所述液位计相连,且所述控制器基于所述液位计的显示控制所述水供给装置和所述清洗液供给装置的开闭。由此,可以保证该清洗设备的稳定性和连续性运行。
优选的,所述水供给装置上设有第一阀门,所述清洗液供给装置上设有第二阀门,所述控制器分别与所述第一阀门和所述第二阀门相连。由此,可以保证该清洗设备的稳定性和连续性运行。
本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本实用新型的实践了解到。
附图说明
本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
图1是根据本实用新型一个实施例的清洗设备的结构示意图;
图2是根据本实用新型再一个实施例的清洗设备的结构示意图。
具体实施方式
下面详细描述本实用新型的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本实用新型,而不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
在本实用新型的一个方面,本实用新型提出了一种清洗设备。根据本实用新型的实施例,参考图1-2,该清洗设备包括:清洗槽100、泵200、第一连接管300、过滤器400、第二连接管500、第三连接管600、第四连接管700、微粒子检测仪800和控制器900。
根据本实用新型的实施例,参考图1,清洗槽100包括内槽11和设在内槽11外周的外槽12,并且外槽12上设有出液口121,内槽11上设有喷嘴111。具体的,研磨后硅片沿着内槽11的长度方向设在内槽11,并且通过设在内槽11上的喷嘴111向设在内槽11内的研磨后硅片清洗清洗液对其进行清洗,至内槽11内的清洗液高于内槽11上壁,清洗液外溢进入外槽12内后经出液口121排出。
根据本实用新型的实施例,参考图1,泵200与出液口121通过第一连接管300相连,即为该清洗设备内清洗液的循环使用提供运输动力。
根据本实用新型的实施例,过滤器400的进料口401通过第二连接管500与泵200相连,过滤器400的出料口402通过第三连接管600与喷嘴111相连,即经外槽12上出液口121排出的清洗液在泵200的动力下经流经第一连接管300,再经过滤器400过滤掉清洗液中的微粒子,过滤后的液体再经第四连接管700供给至内槽11上的喷嘴111作为清洗液使用,从而实现清洗液的循环利用,降低清洗成本。需要说明的是,过滤器400为本领域使用的可以有效去除微粒子的过滤装置,此处不再赘述。
根据本实用新型的实施例,参考图1,第四连接管700与第一连接管300相连,并且第四连接管700上设有气动阀71,微粒子检测仪800与第二连接管500相连,控制器900分别与微粒子检测仪800和气动阀71相连,且控制器900基于微粒子检测仪800控制气动阀71的开闭。具体的,微粒子检测仪800可以实时监控流经第二连接管500内清洗液中的微粒子数量,并将监测微粒子数量数据反馈到控制器900,若大于预定微粒子阈值(预定微粒子阈值由技术人员根据自身的工艺来设定),则控制器900控制打开气动阀71,使得外槽12内清洗液流经第一连接管300后大部分再经第四连接管500排放,即将含有大量微粒子的清洗液外排,从而快速降低清洗液中的微粒子,而少部分清洗液流经泵200、第二连接管500、过滤器400和第三连接管600后经设在内槽11上的喷嘴111对设在内槽11内的研磨后硅片进行清洗,由于微粒子检测仪800可以实时监控流经第二连接管500内清洗液中的微粒子数量,一旦监测数据低于预定微粒子阈值,则控制器900控制关闭气动阀71,即使得流经第一连接管300的清洗液流经泵200、第二连接管500、过滤器400和第三连接管600后经设在内槽11上的喷嘴111对设在内槽内的研磨后硅片进行清洗。
根据本实用新型实施例的清洗设备,通过在泵和过滤器之间的第二连接管上设置微粒子检测仪,同时在外槽和泵之间的第一连接管上设置第四连接管,并且在第四连接管上设置气动阀,并且设置分别与微粒子检测仪和气动阀相连的控制器,其中,微粒子检测仪可以实时监控流经第二连接管内清洗液中的微粒子数量,并将监测微粒子数量数据反馈到控制器,若大于预定微粒子阈值,则控制器控制打开气动阀,使得外槽内清洗液流经第一连接管后大部分再经第四连接管排放,即将含有大量微粒子的清洗液外排,从而快速降低清洗液中的微粒子,而少部分清洗液流经泵第二连接管、过滤器和第三连接管后经设在内槽上的喷嘴对设在内槽内的研磨后硅片进行清洗,由于微粒子检测仪可以实时监控流经第二连接管内清洗液中的微粒子数量,一旦监测数据低于预定微粒子阈值,则控制器控制关闭气动阀,即使得流经第一连接管的清洗液流经泵、第二连接管、过滤器和第三连接管后经设在内槽上的喷嘴对设在内槽内的研磨后硅片进行清洗。由此,采用该清洗设备可以显著降低清洗槽内的微粒子数量,从而保证清洗后硅片具有较高的品质。
进一步的,参考图2,外槽12内设有液位计122,该液位计122用于实时监测外槽内液位的高度,并且上述清洗设备进一步包括水供给装置1000和清洗液供给装置1100,控制器900分别与水供给装置1000、清洗液供给装置1100和液位计122相连,且控制器900基于液位计122的显示控制水供给装置1000和清洗液供给装置1100的开闭。具体的,在气动阀71开启后,大量的清洗液经第四连接管700外排,使得外槽12内清洗液液位不断降低,而当清洗液液位低于液位预定阈值(液位预定阈值由技术人员根据自身的工艺来设定),则液位计122将液位数据反馈给控制器900,控制器900控制开启水供给装置1000和清洗液供给装置1100,即通过水供给装置1000和清洗液供给装置1100向外槽12内补给新鲜的水和清洗液使得外槽12液位至正常液位,并且新鲜水和清洗液的供给流量需大于气动阀71的开度(即经第四管道700外排清洗液的流量),才不致造成因气动阀71的连续打开而导致外槽12液位过低影响正常运作;而当外槽内液位至正常液位时,液位计122将液位数据反馈给控制器900,控制器900控制关闭水供给装置1000和清洗液供给装置1100,一方面,新鲜水和清洗液的加入可以稀释外槽内微粒子浓度,另一方面,可以保证该清洗设备稳定性和连续性运行。需要说明的是,本领域技术人员根据实际需要对清洗液和水供应的流速比例以及清洗液类型进行选择,此处不再赘述。
优选的,参考图2,水供给装置1000上设有第一阀门1001,清洗液供给装置1100上设有第二阀门1101,控制器900分别与第一阀门1001和第二阀门1101相连,即控制器900控制水供给装置1000和清洗液供给装置1100的开闭是通过控制第一阀门1001和第二阀门1101实现的。由此,可以保证该清洗设备的稳定性和连续性运行。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本实用新型的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本实用新型的限制,本领域的普通技术人员在本实用新型的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (4)

1.一种清洗设备,其特征在于,包括:
清洗槽,所述清洗槽包括内槽和设在所述内槽外周的外槽,并且所述外槽上设有出液口,所述内槽上设有喷嘴;
泵,所述泵与所述出液口通过第一连接管相连;
过滤器,所述过滤器的进料口通过第二连接管与所述泵相连,所述过滤器的出料口通过第三连接管与所述喷嘴相连;
第四连接管,所述第四连接管与所述第一连接管相连,并且所述第四连接管上设有气动阀;
微粒子检测仪,所述微粒子检测仪与所述第二连接管相连;
控制器,所述控制器分别与所述微粒子检测仪和所述气动阀相连,且所述控制器基于所述微粒子检测仪控制所述气动阀的开闭。
2.根据权利要求1所述的清洗设备,其特征在于,所述外槽内设有液位计。
3.根据权利要求2所述的清洗设备,其特征在于,进一步包括:水供给装置和清洗液供给装置,所述控制器分别与所述水供给装置、所述清洗液供给装置和所述液位计相连,且所述控制器基于所述液位计的显示控制所述水供给装置和所述清洗液供给装置的开闭。
4.根据权利要求3所述的清洗设备,其特征在于,所述水供给装置上设有第一阀门,所述清洗液供给装置上设有第二阀门,所述控制器分别与所述第一阀门和所述第二阀门相连。
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