CN209936588U - 晶体反射层打磨机 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种晶体反射层打磨机,包括机架、工作台、控制装置和移动架,工作台和移动架之间设置有接水槽;工作台上设置有工作槽,工作槽内设置有放置打磨晶体的打磨座,打磨座的上方设置有打磨砂轮,打磨砂轮上端连接有打磨电机,且打磨砂轮上套设有遮挡罩,遮挡罩上连接有烟尘排出管,烟尘排出管与除尘装置连接,工作槽与接水槽相互连通;机架侧面的支柱上设置有喷水装置;移动架的一侧设置有控制工作台前后和左右移动的第二转轮,机架上设置有控制工作台上下移动的第三转轮。本实用新型结构简单,工作台可进行前后左右上下移动,便于操作,同时可打磨不同尺寸的晶体,设置了烟尘回收装置,防止了污染环境,提高了工作效率。

Description

晶体反射层打磨机
技术领域
本实用新型涉及晶体加工设备技术领域,尤其是涉及一种晶体反射层打磨机。
背景技术
晶体是有大量微观物质单位(原子、离子、分子等)按一定规则有序排列的结构,因此可以从结构单位的大小来研究判断排列规则和晶体形态,对于晶体的反射层需要进行打磨后才能进行下一道工序,晶体的形状大小各异给对它的打磨工作造成了许多不便,普通的晶体表面打磨机,在运行过程中无法对打磨后的晶体粉末进行收集,同时无法针对不同大小尺寸形状的小型晶体进行打磨固定,给使用造成了不便,降低了工作效率。同时,现有的晶体打磨机的工作台不能移动,给打磨带来很大的不便。鉴于以上原因,设计一种晶体反射层打磨机是很有必要的。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种晶体反射层打磨机,结构简单,工作台可进行前后左右上下移动,便于操作,同时可打磨不同尺寸的晶体,设置了烟尘回收装置,防止了污染环境,提高了工作效率。
为实现上述目的,本实用新型提供了一种晶体反射层打磨机,包括机架、工作台、控制装置和移动架,所述移动架和所述控制装置均固定在所述机架上,所述工作台和所述移动架之间设置有接水槽;
所述工作台上设置有工作槽,所述工作槽内设置有放置打磨晶体的打磨座,所述打磨座的上方设置有打磨砂轮,所述打磨砂轮上端连接有打磨电机,且所述打磨砂轮上套设有遮挡罩,所述遮挡罩上连接有烟尘排出管,所述烟尘排出管与除尘装置连接,所述工作槽与所述接水槽相互连通;
所述机架侧面的支柱上设置有喷水装置;
所述移动架的一侧设置有控制所述工作台前后移动的第一转轮和控制所述工作台左右移动的第二转轮,所述机架上设置有控制所述工作台上下移动的第三转轮。
优选的,所述第三转轮的设置高度低于所述第二转轮的设置高度,所述第二转轮的设置高度低于所述第一转轮的设置高度。
优选的,所述工作台上设置有锁紧所述打磨座的锁紧装置,所述锁紧装置穿过所述工作槽与所述打磨座连接。
优选的,所述工作槽的末端设置有挡板,所述挡板与所述工作槽一体成型且与所述工作槽相互垂直。
因此,本实用新型采用上述结构的晶体反射层打磨机,结构简单,工作台可进行前后左右上下移动,便于操作,同时可打磨不同尺寸的晶体,设置了烟尘回收装置,防止了污染环境,提高了工作效率。
下面通过附图和实施例,对本实用新型的技术方案做进一步的详细描述。
附图说明
图1为本实用新型一种晶体反射层打磨机实施例的结构示意图。
具体实施方式
实施例
图1为本实用新型一种晶体反射层打磨机实施例的结构示意图,如图所示,本实用新型提供了一种晶体反射层打磨机,包括机架1、工作台2、控制装置3和移动架4,移动架4和控制装置3均固定在机架1上,工作台2和移动架4之间设置有接水槽5;工作台2上设置有工作槽6,工作槽6内设置有放置打磨晶体的打磨座7,打磨座7的上方设置有打磨砂轮8,打磨砂轮8上端连接有打磨电机9,且打磨砂轮8上套设有遮挡罩10,防止烟尘四处飞溅,影响工作室的环境,遮挡罩10上连接有烟尘排出管11,烟尘排出管11与除尘装置连接,能够及时将打磨过程中的烟尘排出进行处理,防止了污染环境,工作槽6与接水槽5相互连通;机架1侧面的支柱上设置有喷水装置12,边打磨边喷水,防止烟尘飞溅;移动架4的一侧设置有控制工作台2前后移动的第一转轮13和控制工作台2左右移动的第二转轮14,机架1上设置有控制工作台2上下移动的第三转轮15;第三转轮15的设置高度低于第二转轮14的设置高度,第二转轮14的设置高度低于第一转轮13的设置高度。
工作台2上设置有锁紧打磨座7的锁紧装置16,锁紧装置16穿过工作槽6与打磨座7连接,工作槽6的末端设置有挡板17,挡板17与工作槽6一体成型且与工作槽6相互垂直。
本实用新型公开的打磨机在使用时,通过调节第一转轮可以使工作台进行前后移动,调节第二转轮可以使工作台进行前后方向移动,调节第三转轮可以使工作台进行上下方向移动,放置晶体时,首先将工作台下降,然后将工作台向外移动,将晶体放置在打磨座上,通过转动第一转轮和第二转轮使晶体处于打磨砂轮的下方,通过转动第三转轮使打磨砂轮与晶体贴合,然后调节锁紧装置,将打磨座固定好,防止打磨过程中,打磨座移动,影响打磨晶体的效果,打磨过程中将喷水装置转动到工作槽的上方,边打磨边喷水,防止烟尘外溅。
因此,本实用新型采用上述结构的晶体反射层打磨机,结构简单,工作台可进行前后左右上下移动,便于操作,同时可打磨不同尺寸的晶体,设置了烟尘回收装置,防止了污染环境,提高了工作效率。
最后应说明的是:以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非对其进行限制,尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换,而这些修改或者等同替换亦不能使修改后的技术方案脱离本实用新型技术方案的精神和范围。

Claims (4)

1.一种晶体反射层打磨机,其特征在于:
包括机架、工作台、控制装置和移动架,所述移动架和所述控制装置均固定在所述机架上,所述工作台和所述移动架之间设置有接水槽;
所述工作台上设置有工作槽,所述工作槽内设置有放置打磨晶体的打磨座,所述打磨座的上方设置有打磨砂轮,所述打磨砂轮上端连接有打磨电机,且所述打磨砂轮上套设有遮挡罩,所述遮挡罩上连接有烟尘排出管,所述烟尘排出管与除尘装置连接,所述工作槽与所述接水槽相互连通;
所述机架侧面的支柱上设置有喷水装置;
所述移动架的一侧设置有控制所述工作台前后移动的第一转轮和控制所述工作台左右移动的第二转轮,所述机架上设置有控制所述工作台上下移动的第三转轮。
2.根据权利要求1所述的晶体反射层打磨机,其特征在于:所述第三转轮的设置高度低于所述第二转轮的设置高度,所述第二转轮的设置高度低于所述第一转轮的设置高度。
3.根据权利要求2所述的晶体反射层打磨机,其特征在于:所述工作台上设置有锁紧所述打磨座的锁紧装置,所述锁紧装置穿过所述工作槽与所述打磨座连接。
4.根据权利要求3所述的晶体反射层打磨机,其特征在于:所述工作槽的末端设置有挡板,所述挡板与所述工作槽一体成型且与所述工作槽相互垂直。
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