CN209803555U - 一种通用掩模夹盘 - Google Patents
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- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims 6
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 claims 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 claims 1
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 4
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 4
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
本实用新型公开了一种通用掩模夹盘,包括外部夹盘和内部夹盘,外部夹盘内侧设有内部夹盘,外部夹盘底部四周均匀设有四个固定轴,外部夹盘通过底部的固定轴固定于内部夹盘的外侧,外部夹盘顶部均匀设有四个七寸版限位杆,内部夹盘上靠内侧均匀设有四个五寸版限位杆,内部夹盘上靠外侧均匀设有四个六寸版限位杆,五寸版限位杆和六寸版限位杆均与内部夹盘固定连接,且每个七寸版限位杆、五寸版限位杆以及六寸版限位杆内侧均设有L型卡槽,本实用新型所达到的有益效果是:本实用新型结构紧凑,使用方便,功能实用,较传统的夹盘而言,无需在制作不同尺寸的掩模时更换夹盘,既省时又省力。
Description
技术领域
本实用新型涉及夹盘,特别涉及一种通用掩模夹盘,属于掩模夹盘技术领域。
背景技术
MASK(掩模):是半导体行业、IC(集成电路)制作时所需的一种模具,其是利用Mask上的图形,经曝光制成将图形复制于晶圆(Wafer)。Mask厂依据客户设计的图形,将图形数据转换后,利用Mask曝光机曝光在一种感光的石英基板上,经过显影制程使其表面产生透光与不透光的极细微的逻辑图形。掩模的制作必须经过曝光、显影、蚀刻、去胶、清洗等工艺流程。其中显影、湿法蚀刻、去胶、清洗等工艺机台都配备有掩模夹盘。不同尺寸的掩模版需配置不同的夹盘以及holder。但是目前阶段的掩模设备夹盘存在诸多不足之处,例如,目前主流的掩模设备夹盘是对应掩模尺寸的,5寸掩模对应5寸夹盘,6寸掩模对应6寸夹盘, 7寸掩模对应7寸夹盘以及5寸、6寸对应的复合夹盘盛放5寸、6寸版,操作不便。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷,提供一种通用掩模夹盘。
为了解决上述技术问题,本实用新型提供了如下的技术方案:
本实用新型一种通用掩模夹盘,包括外部夹盘和内部夹盘,所述外部夹盘内侧设有内部夹盘,所述外部夹盘底部四周均匀设有四个固定轴,所述外部夹盘通过底部的固定轴固定于内部夹盘的外侧,所述外部夹盘顶部均匀设有四个七寸版限位杆,所述内部夹盘上靠内侧均匀设有四个五寸版限位杆,所述内部夹盘上靠外侧均匀设有四个六寸版限位杆,所述五寸版限位杆和六寸版限位杆均与内部夹盘固定连接,且每个所述七寸版限位杆、五寸版限位杆以及六寸版限位杆内侧均设有L型卡槽。
优选的,四个所述五寸版限位杆内侧放置若干五寸版,四个所述六寸版限位杆内侧放置若干六寸版,四个所述七寸版限位杆内侧放置若干七寸版。
优选的,四个所述五寸版限位杆之间的连线面积等于五寸版的面积,四个所述六寸版限位杆之间的连线面积等于六寸版的面积,四个所述七寸版限位杆之间的连线面积等于七寸版的面积。
优选的,所述外部夹盘和内部夹盘均为聚四氟乙烯材质制成。
优选的,所述固定轴的长度为3cm。
本实用新型所达到的有益效果是:本实用新型分为两层,内部夹盘可放五寸、六寸板,外部夹盘可放置七寸版,本实用新型将现有的五寸、六寸以及七寸夹盘设计成一种混合夹盘可以盛放五寸、六寸以及七寸掩模,无需在制作不同尺寸的掩模时更换夹盘,既省时又省力,其中,四个五寸版限位杆内侧放置若干五寸版,四个六寸版限位杆内侧放置若干六寸版,四个七寸版限位杆内侧放置若干七寸版,可使用同一夹盘放置不同规格的版模;四个五寸版限位杆之间的连线面积等于五寸版的面积,四个六寸版限位杆之间的连线面积等于六寸版的面积,四个七寸版限位杆之间的连线面积等于七寸版的面积,提高放置的稳定性;外部夹盘和内部夹盘均为聚四氟乙烯材质制成,耐酸碱性能好,延长本实用新型的使用寿命;固定轴的长度为3cm,实现外部夹盘和内部夹盘的分层结构,本实用新型结构紧凑,使用方便,功能实用,较传统的夹盘而言,无需在制作不同尺寸的掩模时更换夹盘,既省时又省力。
附图说明
附图用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的限制。在附图中:
图1是本实用新型的结构示意图;
图2是本实用新型的外部夹盘和内部夹盘连接结构示意图。
图中:1、外部夹盘;2、内部夹盘;3、固定轴;4、七寸版限位杆;5、五寸版限位杆; 6、六寸版限位杆;7、五寸版;8、六寸版;9、七寸版。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明,应当理解,此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
实施例
如图1-2所示,一种通用掩模夹盘,包括外部夹盘1和内部夹盘2,外部夹盘1内侧设有内部夹盘2,外部夹盘1底部四周均匀设有四个固定轴3,外部夹盘1通过底部的固定轴3固定于内部夹盘2的外侧,外部夹盘1顶部均匀设有四个七寸版限位杆4,内部夹盘2上靠内侧均匀设有四个五寸版限位杆5,内部夹盘2上靠外侧均匀设有四个六寸版限位杆6,五寸版限位杆5和六寸版限位杆6均与内部夹盘2固定连接,且每个七寸版限位杆4、五寸版限位杆5以及六寸版限位杆6内侧均设有L型卡槽。
四个五寸版限位杆5内侧放置若干五寸版7,四个六寸版限位杆6内侧放置若干六寸版 8,四个七寸版限位杆4内侧放置若干七寸版9,可使用同一夹盘放置不同规格的版模;四个五寸版限位杆5之间的连线面积等于五寸版7的面积,四个六寸版限位杆6之间的连线面积等于六寸版8的面积,四个七寸版限位杆4之间的连线面积等于七寸版9的面积,提高放置的稳定性;外部夹盘1和内部夹盘2均为聚四氟乙烯材质制成,耐酸碱性能好,延长本实用新型的使用寿命;固定轴3的长度为3cm,实现外部夹盘1和内部夹盘2的分层结构。
具体的,本实用新型分为两层,内部夹盘2可放五寸、六寸板,外部夹盘1可放置七寸版,本实用新型将现有的五寸、六寸以及七寸夹盘设计成一种混合夹盘可以盛放五寸、六寸以及七寸掩模,无需在制作不同尺寸的掩模时更换夹盘,既省时又省力,其中,四个五寸版限位杆5内侧放置若干五寸版7,四个六寸版限位杆6内侧放置若干六寸版8,四个七寸版限位杆4内侧放置若干七寸版9,可使用同一夹盘放置不同规格的版模;四个五寸版限位杆5之间的连线面积等于五寸版7的面积,四个六寸版限位杆6之间的连线面积等于六寸版8的面积,四个七寸版限位杆4之间的连线面积等于七寸版9的面积,提高放置的稳定性;外部夹盘1和内部夹盘2均为聚四氟乙烯材质制成,耐酸碱性能好,延长本实用新型的使用寿命;固定轴3的长度为3cm,实现外部夹盘1和内部夹盘2的分层结构,本实用新型结构紧凑,使用方便,功能实用,较传统的夹盘而言,无需在制作不同尺寸的掩模时更换夹盘,既省时又省力。
最后应说明的是:以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种通用掩模夹盘,其特征在于,包括外部夹盘(1)和内部夹盘(2),所述外部夹盘(1)内侧设有内部夹盘(2),所述外部夹盘(1)底部四周均匀设有四个固定轴(3),所述外部夹盘(1)通过底部的固定轴(3)固定于内部夹盘(2)的外侧,所述外部夹盘(1)顶部均匀设有四个七寸版限位杆(4),所述内部夹盘(2)上靠内侧均匀设有四个五寸版限位杆(5),所述内部夹盘(2)上靠外侧均匀设有四个六寸版限位杆(6),所述五寸版限位杆(5)和六寸版限位杆(6)均与内部夹盘(2)固定连接,且每个所述七寸版限位杆(4)、五寸版限位杆(5)以及六寸版限位杆(6)内侧均设有L型卡槽。
2.根据权利要求1所述的一种通用掩模夹盘,其特征在于,四个所述五寸版限位杆(5)内侧放置若干五寸版(7),四个所述六寸版限位杆(6)内侧放置若干六寸版(8),四个所述七寸版限位杆(4)内侧放置若干七寸版(9)。
3.根据权利要求1所述的一种通用掩模夹盘,其特征在于,四个所述五寸版限位杆(5)之间的连线面积等于五寸版(7)的面积,四个所述六寸版限位杆(6)之间的连线面积等于六寸版(8)的面积,四个所述七寸版限位杆(4)之间的连线面积等于七寸版(9)的面积。
4.根据权利要求1所述的一种通用掩模夹盘,其特征在于,所述外部夹盘(1)和内部夹盘(2)均为聚四氟乙烯材质制成。
5.根据权利要求1所述的一种通用掩模夹盘,其特征在于,所述固定轴(3)的长度为3cm。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201822263937.4U CN209803555U (zh) | 2018-12-31 | 2018-12-31 | 一种通用掩模夹盘 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201822263937.4U CN209803555U (zh) | 2018-12-31 | 2018-12-31 | 一种通用掩模夹盘 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN209803555U true CN209803555U (zh) | 2019-12-17 |
Family
ID=68819226
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201822263937.4U Withdrawn - After Issue CN209803555U (zh) | 2018-12-31 | 2018-12-31 | 一种通用掩模夹盘 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN209803555U (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109557763A (zh) * | 2018-12-31 | 2019-04-02 | 无锡中微掩模电子有限公司 | 一种通用掩模夹盘 |
-
2018
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109557763A (zh) * | 2018-12-31 | 2019-04-02 | 无锡中微掩模电子有限公司 | 一种通用掩模夹盘 |
CN109557763B (zh) * | 2018-12-31 | 2024-04-12 | 无锡中微掩模电子有限公司 | 一种通用掩模夹盘 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
AV01 | Patent right actively abandoned |
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AV01 | Patent right actively abandoned |
Granted publication date: 20191217 Effective date of abandoning: 20240412 |
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AV01 | Patent right actively abandoned | ||
AV01 | Patent right actively abandoned |