CN209759574U - 一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座 - Google Patents

一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座 Download PDF

Info

Publication number
CN209759574U
CN209759574U CN201920424011.0U CN201920424011U CN209759574U CN 209759574 U CN209759574 U CN 209759574U CN 201920424011 U CN201920424011 U CN 201920424011U CN 209759574 U CN209759574 U CN 209759574U
Authority
CN
China
Prior art keywords
target
base
threaded rod
motor
telescopic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201920424011.0U
Other languages
English (en)
Inventor
付秋平
严伟
罗军
刘渊
聂盛强
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Guiyang University
Original Assignee
Guiyang University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Guiyang University filed Critical Guiyang University
Priority to CN201920424011.0U priority Critical patent/CN209759574U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN209759574U publication Critical patent/CN209759574U/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本实用新型涉及磁控溅射靶材技术领域,具体地,涉及一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座,包括有矩形的底座和加热装置,所述的底座的一端设置有矩形的卡槽,所述卡槽的一端设置有用于固定靶材的固定机构,加热装置包括有伸缩机构和加热机构,底座远离卡槽的一端设置有一根支撑柱,伸缩机构设置在支撑柱上,伸缩机构的输出端上设置有一块安装板,安装板的底部设置有旋转电机,电机的输出端延伸至安装板的另一侧,旋转电机的输出端连接有固定杆,固定杆的末端上固定连接有固定板,加热机构可拆卸安装在固定板上,所述加热机构为电阻丝发热板,本装置可以对靶材进行预热,防止靶材出现靶材开裂的情况。

Description

一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座
技术领域
本实用新型涉及磁控溅射靶材技术领域,具体地,涉及一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座。
背景技术
磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,相比于蒸发镀膜方式,其在很多方面有相当明显的优势。作为一项已经发展的较为成熟的技术,磁控溅射已经被应用于许多领域。溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是制备溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。
在靶材溅射中无机或者陶瓷靶材不进行很好的预热就直接溅射经常会导致靶材开裂,所以需要一种靶材基座可以对靶材进行预热,使得靶材在使用的过程中不会开裂。
实用新型内容
针对现有技术的不足,本实用新型提供一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座。解决了无机或者陶瓷靶材不进行很好的预热就直接溅射经常会导致靶材开裂的问题。
本实用新型公开的一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座,包括有矩形的底座和加热装置,所述的底座的一端设置有矩形的卡槽,所述卡槽的一端设置有用于固定靶材的固定机构,加热装置包括有伸缩机构和加热机构,底座远离卡槽的一端设置有一根支撑柱,伸缩机构设置在支撑柱上,伸缩机构的输出端上设置有一块安装板,安装板的底部设置有旋转电机,电机的输出端延伸至安装板的另一侧,旋转电机的输出端连接有固定杆,固定杆的末端上固定连接有固定板,加热机构可拆卸安装在固定板上,所述加热机构为电阻丝发热板。
进一步地,所述固定机构包括有夹板、螺纹杆和对称设置在螺纹杆两侧的伸缩导向杆,所述螺纹杆与底座螺纹连接,夹板轴接在螺纹杆位于卡槽内的一端,伸缩导向杆的输出端均与夹板连接,所述螺纹杆远离卡槽的一端设置有驱动螺纹杆转动的转动机构。
进一步地,所述转动机构为安装在螺纹杆端部的旋转盘。
进一步地,所述伸缩机构包括有伸缩杆、第一电机和齿轮,所述伸缩杆滑动连接在支撑柱的侧部,第一电机设置在支撑柱上,齿轮与第一电机的输出端固定连接,伸缩杆的侧部设置有齿条,所述齿轮与齿条啮合连接,安装板固定安装在伸缩杆的端部。
进一步地,所述支撑柱上设置有隔热箱,第一电机设置在隔热箱内。
进一步地,所述支撑柱的侧部设置有滑槽,伸缩杆靠近支撑柱的一侧设置有滑条,所述滑条滑动连接在滑槽内。
进一步地,所述夹板外侧和卡槽内侧均设置有防滑纹。
有益效果:装置的卡槽设置有固定机构,可以根据不同靶材的厚度调整固定机构,使得固定机构将靶材卡设在卡槽内;底座上设置有伸缩机构可以调整加热机构与底座之间的距离控制底座的温度;安装板上设置有旋转电机,加热机构设置在固定板上,通过旋转电机驱动加热机构的转动,使得加热机构可以对底座进行均匀的加热,底座通过热传导多靶材进行加热,实现对靶材的预热功能。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解,构成本申请的一部分,本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请,并不构成对本申请的不当限定。在附图中:
图1为本实用新型的结构示意图一;
图2为本实用新型的结构示意图二;
图3为本实用新型的固定机构的结构示意图;
图4为本实用新型的伸缩机构的结构示意图;
图5为本实用新型的加热机构的示意图;
附图标记说明:底座1,卡槽2,固定机构3,伸缩机构4,支撑柱5,安装板6,旋转电机7,固定杆8,固定板9,电阻丝发热板10,夹板11,螺纹杆12,伸缩导向杆13,旋转盘14,伸缩杆15,第一电机16,齿轮17,隔热箱18,滑槽19,滑条20,防滑纹21。
具体实施方式
以下将以图式揭露本实用新型的多个实施方式,为明确说明起见,许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而,应了解到,这些实务上的细节不应用以限制本实用新型。也就是说,在本实用新型的部分实施方式中,这些实务上的细节是非必要的。此外,为简化图式起见,一些习知惯用的结构与组件在图式中将以简单的示意的方式绘示之。
另外,在本实用新型中如涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的,并非特别指称次序或顺位的意思,亦非用以限定本实用新型,其仅仅是为了区别以相同技术用语描述的组件或操作而已,而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外,各个实施例之间的技术方案可以相互结合,但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础,当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在,也不在本实用新型要求的保护范围之内。
参照图1至图5所示的一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座,包括有矩形的底座1和加热装置,所述的底座1的一端设置有矩形的卡槽2,所述卡槽2的一端设置有用于固定靶材的固定机构3,加热装置包括有伸缩机构4和加热机构,底座1远离卡槽2的一端设置有一根支撑柱5,伸缩机构4设置在支撑柱5上,伸缩机构4的输出端上设置有一块安装板6,安装板6的底部设置有旋转电机7,电机的输出端延伸至安装板6的另一侧,旋转电机7的输出端连接有固定杆8,固定杆8的末端上固定连接有固定板9,加热机构可拆卸安装在固定板9上,所述加热机构为电阻丝发热板10。将靶材通过固定机构3固定在卡槽2内,驱动伸缩机构4调整电阻丝发热板10与底座1之间的距离,使得电阻丝发热板10对底座1进行加热,旋转电机7驱动电阻丝发热板10旋转,然后底座1通过热传导对靶材进行加热。旋转电机7驱动电阻丝发热板10旋转对底座1的背部进行均匀烘烤加热,由于对靶材的加热时不易升温过快,因此通过电阻丝发热板10对底座1烘烤加热,而不是直接通过其他导热部件进行热传导,可以避免底座1升温过快,缓慢升温的底座1通过热传导的方式将热量传递给靶材,进而避免靶材被底座1夹持的部分升温过快,进而导致靶材局部受热过快。所述电阻丝发热板10实际为在一个板体上放置电阻丝,具体地,电阻丝的发热原理采用现有技术。
所述固定机构3包括有夹板11、螺纹杆12和对称设置在螺纹杆12两侧的伸缩导向杆13,所述螺纹杆12与底座1螺纹连接,夹板11轴接在螺纹杆12位于卡槽2内的一端,伸缩导向杆13的输出端均与夹板11连接,所述螺纹杆12远离卡槽2的一端设置有驱动螺纹杆12转动的转动机构。旋转螺纹杆12,使得夹板11向卡槽2内推动,将靶材固定在卡槽2内,伸缩螺纹杆12可以防止夹板11随着螺纹杆12的转动而转动。
所述转动机构为安装在螺纹杆12端部的旋转盘14。
所述伸缩机构4包括有伸缩杆15、第一电机16和齿轮17,所述伸缩杆15滑动连接在支撑柱5的侧部,第一电机16设置在支撑柱5上,齿轮17与第一电机16的输出端固定连接,伸缩杆15的侧部设置有齿条,所述齿轮17与齿条啮合连接,安装板6固定安装在伸缩杆15的端部。伸缩机构4的第一电机16驱动齿轮17转动,与齿轮17啮合的伸缩杆15沿着支撑柱5上下移动来控制电阻丝发热板10到底座1之间的距离。
所述支撑柱5上设置有隔热箱18,第一电机16设置在隔热箱18内。
所述支撑柱5的侧部设置有滑槽19,伸缩杆15靠近支撑柱5的一侧设置有滑条20,所述滑条20滑动连接在滑槽19内。
所述夹板11外侧和卡槽2内侧均设置有防滑纹21。
工作原理:旋转螺纹杆12,使得夹板11向卡槽2内推动,将靶材固定在卡槽2内,伸缩螺纹杆12可以防止夹板11随着螺纹杆12的转动而转动,然后驱动伸缩机构4调整电阻丝发热板10与底座1之间的距离,使得电阻丝发热板10对底座1进行加热,旋转电机7驱动电阻丝发热板10然后底座1通过热传导对靶材进行加热。
上所述仅为本实用新型的实施方式而已,并不用于限制本实用新型。对于本领域技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原理的内所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包括在本实用新型的权利要求范围之内。

Claims (7)

1.一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座,其特征在于:包括有矩形的底座(1)和加热装置,所述的底座(1)的一端设置有矩形的卡槽(2),所述卡槽(2)的一端设置有用于固定靶材的固定机构(3),加热装置包括有伸缩机构(4)和加热机构,底座(1)远离卡槽(2)的一端设置有一根支撑柱(5),伸缩机构(4)设置在支撑柱(5)上,伸缩机构(4)的输出端上设置有一块安装板(6),安装板(6)的底部设置有旋转电机(7),电机的输出端延伸至安装板(6)的另一侧,旋转电机(7)的输出端连接有固定杆(8),固定杆(8)的末端上固定连接有固定板(9),加热机构可拆卸安装在固定板(9)上,所述加热机构为电阻丝发热板(10)。
2.根据权利要求1所述的一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座,其特征在于:所述固定机构(3)包括有夹板(11)、螺纹杆(12)和对称设置在螺纹杆(12)两侧的伸缩导向杆(13),所述螺纹杆(12)与底座(1)螺纹连接,夹板(11)轴接在螺纹杆(12)位于卡槽(2)内的一端,伸缩导向杆(13)的输出端均与夹板(11)连接,所述螺纹杆(12)远离卡槽(2)的一端设置有驱动螺纹杆(12)转动的转动机构。
3.根据权利要求2所述的一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座,其特征在于:所述转动机构为安装在螺纹杆(12)端部的旋转盘(14)。
4.根据权利要求3所述的一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座,其特征在于:所述伸缩机构(4)包括有伸缩杆(15)、第一电机(16)和齿轮(17),所述伸缩杆(15)滑动连接在支撑柱(5)的侧部,第一电机(16)设置在支撑柱(5)上,齿轮(17)与第一电机(16)的输出端固定连接,伸缩杆(15)的侧部设置有齿条,所述齿轮(17)与齿条啮合连接,安装板(6)固定安装在伸缩杆(15)的端部。
5.根据权利要求4所述的一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座,其特征在于:所述支撑柱(5)上设置有隔热箱(18),第一电机(16)设置在隔热箱(18)内。
6.根据权利要求5所述的一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座,其特征在于:所述支撑柱(5)的侧部设置有滑槽(19),伸缩杆(15)靠近支撑柱(5)的一侧设置有滑条(20),所述滑条(20)滑动连接在滑槽(19)内。
7.根据权利要求6所述的一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座,其特征在于:所述夹板(11)外侧和卡槽(2)内侧均设置有防滑纹(21)。
CN201920424011.0U 2019-04-01 2019-04-01 一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座 Expired - Fee Related CN209759574U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201920424011.0U CN209759574U (zh) 2019-04-01 2019-04-01 一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201920424011.0U CN209759574U (zh) 2019-04-01 2019-04-01 一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN209759574U true CN209759574U (zh) 2019-12-10

Family

ID=68757332

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201920424011.0U Expired - Fee Related CN209759574U (zh) 2019-04-01 2019-04-01 一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN209759574U (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114107929A (zh) * 2021-11-29 2022-03-01 青岛科技大学 一种可预热溅射靶材的旋靶管装置
CN114481072A (zh) * 2022-02-16 2022-05-13 青岛科技大学 一种旋转式中间预热磁控溅射靶装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114107929A (zh) * 2021-11-29 2022-03-01 青岛科技大学 一种可预热溅射靶材的旋靶管装置
CN114481072A (zh) * 2022-02-16 2022-05-13 青岛科技大学 一种旋转式中间预热磁控溅射靶装置
CN114481072B (zh) * 2022-02-16 2023-10-13 青岛科技大学 一种旋转式中间预热磁控溅射靶装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN209759574U (zh) 一种具有溅射靶材预热功能的靶材基座
CN205329148U (zh) 一种真空蒸发源装置及真空蒸镀设备
CN105821378B (zh) 一种铌掺杂二氧化锡透明导电膜及其制备方法
CN106978577A (zh) 一种非晶合金复合材料的激光3d打印方法
CN209243159U (zh) 一种用于蒸发镀膜的装置
KR20110082820A (ko) 유기전계발광 디스플레이 패널 제조용 증발원 및 이를 포함하는 증착장치
CN105714256A (zh) 一种磁控溅射低温制备dlc薄膜的方法
CN209816265U (zh) 一种靶材位置可调整的溅射靶材基座
CN104532190A (zh) 一种Zr-Cu金属玻璃薄膜的制备方法
TW201122132A (en) Coating machine
CN103866241B (zh) 一种离子辅助热蒸发复合磁控溅射镀膜装置
US4811687A (en) Temperature control apparatus for thin film deposition system
CN201158704Y (zh) 一种真空镀膜的加热基片架
CN102051497A (zh) 金银镶嵌靶材及其薄膜的制备方法
CN216404520U (zh) 一种真空蒸发镀膜设备
CN106637116B (zh) 一种二次电子发射薄膜的简易制备方法
CN201437549U (zh) 蒸镀装置
CN206814837U (zh) 一种激光加热、真空镀膜的电磁屏蔽膜制备装置
CN104561906A (zh) 一种梯度碳化硼薄膜及其制备方法
WO2017020534A1 (zh) 一种银铝合金晶振片镀膜工艺
CN209798082U (zh) 一种自动切换式修正机构
CN114481072B (zh) 一种旋转式中间预热磁控溅射靶装置
CN106947950B (zh) 一种利用率高的靶材系统及其使用方法
CN219297631U (zh) 一种可预热的溅射靶材用固定装置
CN108385078A (zh) 柔性基板及其制作方法

Legal Events

Date Code Title Description
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20191210

Termination date: 20210401