CN209644713U - 烤架盘 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了烤架盘,该烤架盘是为了解决有呈弯曲圆顶形状的烧烤部分的常规盘所存在的问题而创建的。本实用新型提供了用于烧烤的水平平面,但是能够将从正被烧烤的肉品渗出的油通过专门设计的沟槽排出,该沟槽引导油流到烧烤平面的边缘,由此使肉品适当干燥并且不会油腻湿润。这通过提供若干长且窄的沟槽来实现,不同深度水平的沟槽从烧烤平面的中心到烧烤平面由汤沟围绕的边缘对齐。这些长且窄的沟槽被设计为当在横截面上观察时类似于U形形状,以便避免在该长且窄的沟槽的下拐角处出现凹处以便于清洁。
Description
技术领域
本发明涉及机械工程领域,更具体地涉及烧烤盘。
背景技术
饮食文化一起已经存在了相当长的时间。烤肉餐厅在青少年中非常受欢迎,因为这类餐厅以可承受的价格制备好了用于烧烤的肉品。烧烤食物(比如烤猪肉、烤鸡、烤牛肉以及烤鱼)在被烧烤时由于脂肪滴从五花肉滴落到燃料(比如,木炭)上而引起致癌物。脂肪的不完全燃烧引起由多环芳香烃或PAH组成的致癌物,其随着黑烟一起在空气中浮起并粘附到食物的表面上。在烧焦区域大量发现此类致癌物。政府机构(例如,卫生署和公共卫生部)经常提醒公众选择使用可以减少或防止油直接滴到炉上的烧烤设备的餐厅,比如不透明的烧烤板。
广泛使用的盘或金属丝筛网由钢或铝制成。在正常使用过程中,其被放置在利用木炭作为燃料的木炭火盆或炉上。受欢迎的烧烤架或烤架盘类型是一种具有窄沟环绕的弯曲圆顶形状的烧烤架或烤架盘。这种沟被设计为接收从放在盘的顶部上的肉块滴落的油脂。弯曲的烧烤平面通常在其表面上或者沿从弯曲圆顶的顶部到环绕烧烤平面的边缘的沟的径向线具有纵向孔。这些纵向孔被设计为允许热量浮动穿过这些孔以便使盘足够热以迅速地烹饪肉品。烧烤肉品的常用方法是将盘加热到期望温度。随后将猪油放置在表面上或擦在盘的弯曲圆顶平面上。当猪油开始变得有油腻感时,油将渗出且猪油将烧焦。当烧烤肉品时,人们通常横穿弯曲圆顶平面周围的孔将肉品放置或铺散开以便使肉品迅速地得到烹饪。与此同时,来自肉品的油脂将通过孔滴落到燃料或木炭上从而引起烟雾或引燃火焰。这容易导致被烧烤的肉品烧焦并发黑。如上所述这对健康是有害的。因此,并不推荐将具有这些纵向孔的盘用于烧烤肉品。
被广泛使用的烧烤架或烤架盘为何具有弯曲圆顶形状的另一个原因是其能够使油脂迅速地从肉品向下渗到沟中。然而,这种弯曲圆顶形状具有不利的影响,并非呈扁平形状的肉品、虾、贝壳和鱿鱼,当被放置在这种弯曲圆顶形状的表面时,它们会从弯曲平面上落下从而导致肉品夹生或者未均匀烧熟。因此,人们不得不几乎始终在烧烤架或烤架盘上方(利用筷子或类似设备)挤压或夹持肉品,从而引起不必要的热感。有时他们的手臂还可能接触到盘的边缘从而导致水泡性烧伤。
2004年2月14日公开了发明名称为“利用水的电烤架”的美国专利第 20040031785号。其披露了常见烤架盘的缺点,在于当来自被烧烤的肉品和蔬菜的油或汁液滴落到燃料上时,其有时会被点燃从而引起烟雾和烧焦味。这是不卫生的。根据所述专利,其提供了一种紧挨炉放置的加热材料。该特征可以防止来自被烧烤肉品的油脂直接滴落到该加热材料上,并且其还在炉内侧提供了水容器。当水被加热时,其将汽化并增加被烧烤肉品的表面上的水分,从而防止肉品过干。在该发明中,存在用来调节水容器水位的弹簧。当水过度汽化时,电流将被自动切断。尽管该发明可以解决来自肉品的油脂直接滴落到燃料(加热材料)上的问题,但是该发明需要炉内有水以减少烟雾并且需要用来提醒向炉内再装满水的机构。因此,该发明并未有效地解决问题,却使系统变得更为复杂。
针对以上原因,需要设计一种没有孔或者呈实心形式的烧烤架或烤架盘,以便解决被烧烤肉品从弯曲平面滚下的问题。因此,该烧烤架或烤架盘的设计理念为使盘的顶部平面如图1中所示般均匀地平坦,即烧烤架或烤架盘(1)具有实心的长窄沟槽(5),脊部具有相同的高度水平且沟槽水平地具有相同的深度水平。这些特征解决了被烧烤肉品从盘的表面滚下的问题。然而,由于浅沟槽的深度是均匀的,也存在缺点,在于来自被烧烤肉品的油不会向下渗出或流到围绕烧烤平面的汤沟中,从而使肉品缓慢变干而浪费能源。常见烧烤架或烤架盘所存在的问题仍然尚未被解决。根据以上提及的设计理念,仍然存在需要解决的缺陷。因此,本发明旨在设计一种具有围绕烧烤平面的汤沟的新型烧烤架或烤架盘,其中被烧烤肉品将不会从表面滚下且油可以容易地向下流动到汤沟中。
发明内容
根据本发明的烧烤架或烤架盘目的在于解决肉品在类似圆顶形状的弯曲平面上烧烤时从该平面落下或滚下的问题以及来自被烧烤肉品的油脂通过平面的孔滴落到燃料上的问题,如对现有技术的描述中所提到的。因此,本发明旨在提供一种烧烤架或烤架盘,其具有实心且水平的烧烤平面,该烧烤平面由汤沟围绕。
本发明的目标是提供一种均匀的烧烤平面,其能够容易地将来自被烧烤肉品的油脂排到围绕该烧烤平面的汤沟内。这有助于肉品适当地干燥而不会油腻湿润。这种烧烤架或烤架盘提供了若干长且窄的沟槽,沟槽从烧烤平面的中心开始并通向围绕该烧烤平面的汤沟。本发明引入了沟槽,该沟槽在所述沟槽的横截面视图上具有U形形状以防止任何凹陷。因此,相比于具有尖锐边缘的沟槽,本发明的沟槽易于清洁。
根据本发明的烧烤架或烤架盘的另一目标是提供相同高度水平的沟槽脊部并且使盘能够轻易地将油脂排到汤沟内。后一个特征“使盘能够轻易地将油脂排到汤沟内”通过将沟槽在烧烤平面中心处的深度设计成比沟槽在烧烤平面边缘处的深度更浅来实现。沟槽的这种深度差异使从肉品渗出的油脂能够容易地流动到围绕的沟内。
本发明的另一个目标是使沟槽的脊部足够热以在肉品表面上形成类似于老式烤肉的烧烤条纹并保持与通过常规或传统烤架盘烧烤的相同味道。
本发明的烧烤架或烤架盘的另一目标是提供一种围绕烧烤区域的汤沟并将沟的宽度形成为适合于汤匙的尺寸。沟的侧部或沟的垂直面还被设计为从沟的顶部边缘向沟的底部弯曲。
本发明的公开内容
图2示出了本发明的烧烤架或烤架盘的横截面,显示出在该烤架盘 (1)在烤架盘(1)的中间具有烧烤区域或平面(2)。烧烤平面(2)处于比烤架盘(1)的外壁的上边缘更高的水平面,其中所述外壁与烧烤平面(2)的水平面的边缘间隔开,从而形成围绕烧烤区域或平面(2)的沟的形状。该沟用于包含汤汁(4)。
图2还示出了烤架盘的横截面。根据本发明,该烧烤平面(2)的水平面具有平坦的脊部水平以防止肉品或蔬菜向下滚到汤沟(4)内。在烧烤区域或平面上,本发明提供了若干长且窄的沟槽(5),该沟槽从烧烤平面的中心朝向围绕所述烧烤平面(2)的汤沟(4)放置。所述长且窄的沟槽(5)在烧烤平面(2)的中心处的底部水平(52)比烧烤平面(2) 的边缘处的底部水平(53)更浅,从而形成朝向汤沟(4)的斜坡。长且窄的沟槽(5)的深度开始具有从烧烤平面(2)的中心朝向其半径倾斜效应,距离大约5厘米,借此坡度从0度开始到嵌入在烧烤平面(2)中的长且窄的沟槽(5)的底部水平(53)的边缘处的10度,烧烤平面的主体连接至汤沟(4),从而使来自被烧烤肉品的油脂容易地流动到围绕烧烤区域的汤沟(4)内。该油脂当与汤汁混合时,还极好地提升了汤汁的味道。
根据本发明的烤架盘提供了长且窄的沟槽(5),它们的底部水平朝向烧烤区域的边缘向下倾斜。沟槽从脊部(51)到底部水平(53)的深度在3.0至5.66毫米之间。适当的深度为4.5毫米。
根据本发明的烤架盘的汤沟(4)具有针对常见汤匙的合适宽度尺寸。烤架盘还被设计为具有宽沟,该宽沟具有从烧烤平面(2)的边缘到汤沟 (4)的底部的弯曲侧面。
根据图2,其显示了在烤架盘的烧烤平面下面的表面(8)的特征。所述表面稍微弯曲而非笔直水平。通过稍微弯曲,其形成了用于烤架盘和电磁炉一起使用的适当空间(9)。当将根据本发明的烤架盘放置在电磁炉的上平面或炉灶面(10)上或与其一起组装时,在烤架盘的烧烤平面下面的表面(8)与电磁炉的上平面或炉灶面(10)之间存在大约2.5 至5毫米的空间(9)。该适当空间略小于5毫米。这种设计的效果是它会均匀地为烹饪肉品产生适当的热量,并在肉品上产生轻微的烧焦痕迹。
图3示出了本发明的烤架盘的俯视图。其示出了烤架盘(2)的长且窄的沟槽(5)。该长且窄的沟槽(5)被设计为当在横截面上观察时类似于U形形状,以便避免在该长且窄的沟槽(5)的下拐角处出现难以清洁的凹处。根据本发明,其提供了若干长且窄的沟槽,该沟槽从烧烤区域的中心到烧烤区域的外边缘沿半径纵向地对齐。
图4示出了本发明的烤架盘的俯视图。其显示了一组笔直的长且窄的沟槽(5)的另一实施例。这些笔直的长且窄的沟槽(5)对齐并聚集成三角形框架或形状。当将它们放在一起时,其形成相机光圈的快门的形状。
图5示出了本发明的烤架盘的俯视图。其显示了一组弯曲的长且窄的沟槽(5)的另一优选实施例。这些弯曲的长且窄的沟槽(5)对齐并聚集成三角形框架或形状。当将它们放在一起时,其形成相机光圈的快门的形状。
附图说明
图1是仍然具有有待解决的缺陷的烤架盘的横截面。
图2是本发明的烤架盘的横截面。
图3是本发明一个实施例中的烤架盘的俯视图。
图4是本发明另一个实施例中的烤架盘的俯视图。
图5是本发明的优选实施例中的烤架盘的俯视图。
实施本发明的最佳模式
如“本发明的公开内容”的主题中所陈述的。
Claims (10)
1.包括盘(1)的烤架盘,所述盘(1)在所述盘(1)的中间具有烧烤平面(2),所述烧烤平面(2)具有处于比所述烤架盘(1)的外壁的上边缘更高的烧烤平面水平,其中所述外壁与所述烧烤平面的边缘间隔开但是所述外壁的底部连接至所述烧烤平面的主体,由此形成了汤沟(4),
其特征在于:
所述烧烤平面(2)具有平坦的平面水平以防止正被烧烤的肉品或蔬菜向下滚到所述汤沟(4)内,以及具有若干长且窄的沟槽(5),所述沟槽(5)在所述烧烤平面的中心处浅而在连接至围绕所述烧烤平面(2)的汤沟(4)的烧烤平面的边缘处变得更深。
2.根据权利要求1所述的烤架盘,其中所述长且窄的沟槽(5)在所述烧烤平面(2)的中心周围的深度或底部水平(52)按照以下方式比所述长且窄的沟槽(5)在所述烧烤平面(2)邻近于所述汤沟(4)的边缘周围的深度或底部水平(53)小或者浅,即所述长且窄的沟槽(5)的底部开始从所述烧烤平面(2)的中心朝向其半径倾斜到所述烧烤平面的边缘大约5厘米距离的范围,由此所述沟槽的底部开始递增地从0度倾斜到10度。
3.根据权利要求1所述的烤架盘,其中所述长且窄的沟槽(5)在所述烧烤平面(2)的中心周围的所述深度或底部水平(52)比所述长且窄的沟槽在所述烧烤平面(2)的边缘周围的所述深度或底部水平(53)小或者浅,所述沟槽从脊部(51)到所述底部水平(53)的深度在3.0至5.66毫米之间;适当深度为4.5毫米。
4.根据权利要求2所述的烤架盘,其中所述长且窄的沟槽(5)在所述烧烤平面(2)的中心周围的所述深度或底部水平(52)比所述长且窄的沟槽在所述烧烤平面(2)的边缘周围的所述深度或底部水平(53)小或者浅,所述沟槽从脊部(51)到所述底部水平(53)的深度在3.0至5.66毫米之间;适当深度为4.5毫米。
5.根据权利要求1所述的烤架盘,其中在所述烤架盘的烧烤平面下面的表面(8)轻微弯曲而非笔直水平,由此形成用于所述烤架盘和电磁炉一起使用的适当空间(9),在所述烤架盘的烧烤平面下面的表面(8)与电磁炉的上平面或炉灶面(10)之间的空间(9)大约为2.5至5毫米,适当空间略小于5毫米。
6.根据权利要求2所述的烤架盘,其中在所述烤架盘的烧烤平面下面的表面(8)轻微弯曲而非笔直水平,由此形成用于所述烤架盘和电磁炉一起使用的适当空间(9),在所述烤架盘的烧烤平面下面的表面(8)与电磁炉的上平面或炉灶面(10)之间的空间(9)大约为2.5至5毫米,适当空间略小于5毫米。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的烤架盘,其中所述长且窄的沟槽(5)被设计为在横截面视图上类似于U形形状,以便避免在所述长且窄的沟槽(5)的下拐角处出现难以清洁的凹处。
8.根据权利要求1至6中任一项所述的烤架盘,其中所述汤沟(4)是宽的且具有从所述烧烤平面(2)的边缘到所述汤沟(4)的底部的弯曲侧面。
9.根据权利要求1至6中任一项所述的烤架盘,其中所述长且窄的沟槽(5)是沿半径从所述烧烤平面的中心开始到所述烧烤平面的边缘笔直的沟槽。
10.根据权利要求1至6中任一项所述的烤架盘,其中所述长且窄的沟槽(5)是对齐并聚集成三角形框架或形状的笔直或弯曲沟槽,从而形成相机光圈的快门形状。
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