CN209349202U - 一种退镀处理装置以及退镀清洗设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及退镀设备技术领域，尤其涉及一种退镀处理装置以及退镀清洗设备。退镀处理装置，用于对位于退镀工位的镀膜产品进行退镀处理，其包括：退镀机构，设置于退镀工位且包括支撑架以及连接支撑架且用于朝下产生高能量等离子体的退镀喷头；送料机构，用于传送镀膜产品且位于退镀机构的下方，送料机构的送料路径经过退镀工位；机箱，平铺设置，退镀机构位于机箱内，机箱相对的两侧箱表面开设有供送料机构两端穿过的传送口，支撑架架设于机箱的箱底；排气机构，用于排除机箱内的废气且位于机箱的顶部。本实用新型工艺简单，环境友好，退镀效率高。

Description

一种退镀处理装置以及退镀清洗设备

技术领域

本实用新型涉及退镀设备技术领域，尤其涉及一种退镀处理装置以及退镀清洗设备。

背景技术

目前，智能手机、掌上电脑等电子设备已经越来越普及，然而，由于经常用手接触屏幕操作，使得屏幕表面容易残留指纹、产生脏污，进一步的影响显示效果。因此，在电子触控产品盖板上AF(Anti Finger)膜层非常有必要。但是，在AF镀膜生产过程中，受制于人、机、料、法、环、测等各方面因素，而其中任何一个环节出现问题，都可能导致AF镀膜产品出现品质异常。目前处理这些镀膜异常品的方法主要有两种方式：一种是直接报废，二是将镀膜异常品退镀回收利用。直接报废会对企业带来成本压力；而对AF异常品进行退镀再利用是一种比较经济、可行的方案。

但是，由于AF膜层材料主要是由全氟聚醚硅氧烷组成，其具有优良的耐酸耐碱性能，使用传统的退镀液进行退镀时效率低、耗时长以及退镀效果不佳。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种退镀处理设备，旨在解决如何提高退镀效率以及避免产生废液污染的问题。

本实用新型是这样实现的，一种退镀处理装置，用于对位于退镀工位的镀膜产品进行退镀处理，包括：

退镀机构，设置于所述退镀工位且包括支撑架以及连接所述支撑架且用于朝下产生高能量等离子体的退镀喷头；

送料机构，用于传送所述镀膜产品且位于所述退镀机构的下方，所述送料机构的送料路径经过所述退镀工位；

机箱，平铺设置，所述退镀机构位于所述机箱内，所述机箱相对的两侧箱表面开设有供所述送料机构两端穿过的传送口，所述支撑架架设于所述机箱的箱底；

排气机构，用于排除机箱内的废气且位于所述机箱的顶部。

在一个实施例中，所述送料机构包括主动轮、从动轮、驱动所述主动轮转动的驱动器以及承载所述镀膜产品且位于所述退镀喷头下方的传送带，所述主动轮与所述从动轮间隔设置，所述传送带的两端分别连接所述主动轮与所述从动轮并穿过两所述传送口。

在一个实施例中，所述支撑架包括两均连接所述机箱且沿所述传送带的传送方向间隔设置的立柱以及两端分别连接两所述立柱的横梁，所述退镀喷头连接所述横梁。

在一个实施例中，所述退镀机构还包括用于调节所述退镀喷头相对所述传送带的高度的调节部件，所述调节部件连接所述横梁与所述退镀喷头且所述调节部件与所述横梁滑接。

在一个实施例中，所述退镀喷头设有多个，多个所述退镀喷头分成两组，两组所述退镀喷头分别位于所述横梁的两侧。

在一个实施例中，所述退镀处理装置还包括控制机构，所述控制机构位于所述机箱内且与所述支撑架间隔设置。

在一个实施例中，所述退镀处理装置还包括支撑机构，所述支撑机构包括供所述机箱放置的机台。

在一个实施例中，所述机台呈镂空结构，所述支撑机构还包括设于所述机台内的电源。

在一个实施例中，所述机箱上对应所述退镀机构的位置设有退镀双开门，所述机台对应所述电源的位置设有电源双开门。

本实用新型还提供了一种退镀清洗设备，其包括如上所述的退镀处理装置以及清洗装置，所述清洗装置与所述传送带对接且用于清洗已退镀的产品。

本实用新型的技术效果是：将机箱平铺设置，退镀机构安装于机箱内且位于退镀工位。待退镀的镀膜产品放置在送料机构上，通过送料机构可以将镀膜产品连续传送至退镀工位。退镀喷头射出的高能量等离子体，对经过退镀工位的镀膜产品进行轰击，使镀膜层实现物理分解，而无需进行化学浸泡，避免产生废液污染。再通过排气机构可以将退镀过程中产生的废气排出机箱，使被退镀的镀膜产品保持清洁。通过提高退镀喷头射出的等离子体的能量和射出速率，可以快速去除镀膜层，而且不会产生废液污染，工艺简单，环境友好，退镀效率高。

附图说明

图1是本实用新型实施例所提供的退镀处理装置的正视图。

图2是图1的退镀开关门关闭时的结构示意图。

附图中标号与名称对应的关系如下所示：

100、退镀处理装置；10、机台；70、电源；31、主动轮；32、从动轮；33、传送带；20、退镀喷头；40、调节部件；11、机箱；50、控制机构；60、排气机构；12、退镀双开门12；13、电源双开门；16、支撑架；161、横梁；162、立柱；80、支撑机构；30、送料机构；

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。

请参阅图1至图2，本实用新型实施例提供了的一种退镀处理装置100以及具有其的退镀清洗设备。

退镀处理装置100用于对位于退镀工位的AF镀膜产品进行退镀处理，其包括：机箱11、排气机构60、支撑机构80、退镀机构以及送料机构30。支撑机构80包括平铺设置的机台10，可选地，所述机台10由硬质金属材料制成，具有一定的结构强度。机箱11放置在所述机台10上，所述退镀机构位于所述机箱11内，所述机箱11相对的两侧罩表面开设有供所述送料机构30穿过的传送口。将退镀机构设置在机箱11内，不但有利于提高退镀过程的安全性，还可以防止退镀过程中产生的废料或粉尘向外扩散。

退镀机构设置于所述退镀工位且包括支撑架16以及连接所述支撑架16且用于朝下产生高能量等离子体的退镀喷头20。优选地，所述支撑架16为龙门架。可选地，所述退镀喷头20所使用的气源为空气、氮气、氧气或氢气中的一种，所述退镀喷头20离所述镀膜产品的距离范围为3～20mm。具体地，所述退镀喷头20的功率范围为0.5～15kW。所述支撑架16架设于所述机箱11的箱底；送料机构30用于将所述镀膜产品传送至退镀工位。

所述退镀处理装置100还包括用于排除机箱11内废气的排气机构60，所述排气机构60位于所述机箱11的顶部。排气机构60将退镀过程中产生的废气和粉尘实现定向排放，有利于提高机箱11内的洁净度，有利于退镀产品的表面质量。

请参阅图1至图2，将机箱11平铺设置，退镀机构安装于机箱11内且位于退镀工位。待退镀的镀膜产品放置在送料机构30上，通过送料机构30可以将镀膜产品连续传送至退镀工位。退镀喷头20射出的高能量等离子体，对经过退镀工位的镀膜产品进行轰击，使镀膜层实现物理分解，而无需进行化学浸泡，避免产生废液污染。再通过排气机构60可以将退镀过程中产生的废气排出机箱11，使被退镀的镀膜产品保持清洁。通过提高退镀喷头20射出的等离子体的能量和射出速率，可以快速去除镀膜层，而且不会产生废液污染，工艺简单，环境友好，退镀效率高。

所述送料机构30包括主动轮31、从动轮32、驱动所述主动轮31转动的驱动器以及承载所述镀膜产品的传送带33，所述主动轮31与所述从动轮32间隔设置，所述传送带33的两端分别连接所述主动轮31与所述从动轮32，所述传送带33的送料路径经过所述退镀工位。具体地，为了使传送带33的运转更加平稳，可以设置多个从动轮32。所述传送带33对待退镀的镀膜产品的传送速度范围为：0.1～1.5m/min。可选地，所述驱动器可以为伺服电机，伺服电机具有响应迅速、精度高以及可靠性高等特点。

所述支撑架16包括两均连接所述机箱11且沿所述传送带33的传送方向间隔设置的立柱162以及两端分别连接两所述立柱162的横梁161，所述退镀喷头20连接所述横梁161。所述传送带33于所述横梁161的下方将待退镀的镀膜产品运送并经过所述退镀工位，在镀膜产品经过所述退镀工位时，退镀喷头20向下喷射出高能量的等离子体，以镀膜产品进行轰击。

所述退镀机构还包括用于调节所述退镀喷头20相对所述送料机构30的高度的调节部件40，所述调节部件40连接所述横梁161与所述退镀喷头20且所述调节部件40与所述横梁161滑接。所述调节部件40可以通过滑轨与滑块的连接方式，来与所述横梁161实现滑接。调节部件40沿所述横梁161的轴向滑动，从而可以扩大退镀喷头20的喷射范围，以适应不同长度的镀膜产品，还可以提高退镀的彻底性。进一步地，调节部件40还可以调节退镀喷头20相对所述送料机构30的高度，从而调节退镀喷头20相对镀膜产品的高度，使退镀喷头20可以适应不同厚度的镀膜产品。

请参阅图1至图2，所述退镀喷头20设有多个，多个所述退镀喷头20分成两组，两组所述退镀喷头20分别位于所述横梁161的两侧。优选地，每组包括5个间隔设置的退镀喷头20。可以理解的是，在其它实施例中也可以根据实际退镀的需求，而设定每组中退镀喷头20的数量。进一步地，还可以设置两组以上的退镀喷头20，从而进一步提高退镀的效率。

所述退镀处理装置100还包括控制机构50，所述控制机构50位于所述机箱11内并与所述退镀机构间隔设置。所述控制机构50可以控制退镀喷头20相对送料机构30的高度、退镀喷头20沿横梁161的移动速度、退镀喷头20所喷射出等离子体的气压大小以及传送带33的传送速度。可选地，控制机构50包括可编程控制器，可编程控制器具有可靠性高以及抗干扰能力强等特点。具体地，所述机箱11上还设有多个控制按钮，通过所述控制按钮可以实现对控制机构50的操作。

所述机台10呈镂空结构，所述退镀处理机构还包括设于所述机台10内的电源70。所述电源70用于提供电能。

请参阅图1至图2，所述机箱11上对应所述退镀机构的位置设有退镀双开门12，所述机台10对应所述电源70的位置设有电源双开门13。通过打开退镀双开门12可以对退镀机构进行调试、清洁和维修等操作。通过打开电源双开门13可以对电源70进行清洁和维修等操作。

清洗退镀设备包括如上所述的退镀处理装置100以及清洗装置，所述清洗装置与所述传送带33对接，以便将退镀好的产品进行清洗。

使用上述退镀处理装置，选用130mm(长)*50mm(宽)*0.7mm(厚)的AF镀膜玻璃，AF退镀处理条件如下：

退镀处理前玻璃样品水接触角测试结果如下：

退镀处理完成后玻璃样品水接触角测试结果如下：

本实用新型所提供的退镀处理装置100可以对AF镀膜异常品进行退镀处理并回收利用。本实用新型的退镀过程环保、工艺简单、成本低廉、退镀效率高。而且在退镀过程中不需要使用化学溶剂进行预处理，不会产生废液。适用于玻璃、陶瓷、金属等基材的AF退镀处理。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种退镀处理装置，用于对位于退镀工位的镀膜产品进行退镀处理，其特征在于，包括：

退镀机构，设置于所述退镀工位且包括支撑架以及连接所述支撑架且用于朝下产生高能量等离子体的退镀喷头；

送料机构，用于传送所述镀膜产品且位于所述退镀机构的下方，所述送料机构的送料路径经过所述退镀工位；

机箱，平铺设置，所述退镀机构位于所述机箱内，所述机箱相对的两侧箱表面开设有供所述送料机构两端穿过的传送口，所述支撑架架设于所述机箱的箱底；

排气机构，用于排除机箱内的废气且位于所述机箱的顶部。

2.如权利要求1所述的退镀处理装置，其特征在于：所述送料机构包括主动轮、从动轮、驱动所述主动轮转动的驱动器以及承载所述镀膜产品且位于所述退镀喷头下方的传送带，所述主动轮与所述从动轮间隔设置，所述传送带的两端分别连接所述主动轮与所述从动轮并穿过两所述传送口。

3.如权利要求2所述的退镀处理装置，其特征在于：所述支撑架包括两均连接所述机箱且沿所述传送带的传送方向间隔设置的立柱以及两端分别连接两所述立柱的横梁，所述退镀喷头连接所述横梁。

4.如权利要求3所述的退镀处理装置，其特征在于：所述退镀机构还包括用于调节所述退镀喷头相对所述传送带的高度的调节部件，所述调节部件连接所述横梁与所述退镀喷头且所述调节部件与所述横梁滑接。

5.如权利要求4所述的退镀处理装置，其特征在于：所述退镀喷头设有多个，多个所述退镀喷头分成两组，两组所述退镀喷头分别位于所述横梁的两侧。

6.如权利要求1-5任意一项所述的退镀处理装置，其特征在于：所述退镀处理装置还包括控制机构，所述控制机构位于所述机箱内且与所述支撑架间隔设置。

7.如权利要求1-5任意一项所述的退镀处理装置，其特征在于：所述退镀处理装置还包括支撑机构，所述支撑机构包括供所述机箱放置的机台。

8.如权利要求7所述的退镀处理装置，其特征在于：所述机台呈镂空结构，所述支撑机构还包括设于所述机台内的电源。

9.如权利要求8所述的退镀处理装置，其特征在于：所述机箱上对应所述退镀机构的位置设有退镀双开门，所述机台对应所述电源的位置设有电源双开门。

10.一种退镀清洗设备，其特征在于，包括：如权利要求2-5任意一项所述的退镀处理装置以及清洗装置，所述清洗装置与所述传送带对接且用于清洗已退镀的产品。