CN116063006A - 一种玻璃表面电膜退镀设备及玻璃表面电膜退镀方法 - Google Patents

Abstract

一种玻璃表面电膜退镀设备，包括机架，机架上设置有物料传输装置、等离子处理装置,在物料传输装置上设置了空隔，等离子处理装置的喷头正对空隔，等离子处理装置位于空隔上方并从上往下喷出等离子体。与现有技术对比，本发明的优点在于：1、不设置压辊等部件，不会对玻璃造成AF面接触污染；2、利用等离子处理装置喷出的等离子体喷射在被加工玻璃片的待加工面上，产生类似压辊对玻璃所施加固定力，从而去除了压辊，也避免了压辊对玻璃表面造成的污染。

Description

一种玻璃表面电膜退镀设备及玻璃表面电膜退镀方法

技术领域

本专利涉及一种玻璃表面电膜退镀设备，特别涉及一种适用于手指触摸屏玻璃的电膜退镀设备及其退镀方法。

背景技术

现在使用的触摸屏玻璃，特别是手机玻璃，需要喷涂的方式对玻璃表面进行镀膜，以提高触摸屏抗指纹的性能。但这种喷涂会让玻璃的一个面形成镀膜层表面，另一面形成电膜残留，这种残留俗称“污染”。为了去除这种“污染”，人们想出了各种技术方案，比较有代表性的是CN206916219U专利。

现在技术的不足在于：1、等离子枪在输送轨道的下方，被加工玻璃在输送轨道上，玻璃带有“污染”的面正对等离子枪，使得等离子枪喷不到玻璃上的镀膜层表面，以避免等离子损伤镀膜层表面。但是，这种技术方案不可避免地会让少量的等离子绕到镀膜层表面，从而对镀膜层表面造成损伤。此外，因为等离枪喷出的等离子有一定的力，在从下往上吹玻璃时，会把被加工的玻璃吹动，为了固定玻璃，现有技术需要设置压辊，用压辊压着被加工玻璃的镀膜层表面。由于压辊可能带有污染物，这会在一定程度上污染玻璃的镀膜层表面。设置压辊本身增加了加工工序和机器的零部件。

发明内容

本发明的目的是克服上述现有技术的不足，是通过以下技术方案来实现的：

一种玻璃表面电膜退镀设备，包括机架，机架上设置有物料传输装置、等离子处理装置,在物料传输装置上设置了空隔，等离子处理装置的喷头正对空隔，等离子处理装置位于空隔上方并从上往下喷出等离子体。

与现有技术对比，本发明的优点在于：1、不设置压辊等部件，不会对玻璃造成AF面接触污染；2、利用等离子处理装置喷出的等离子体喷射在被加工玻璃片的待加工面上，产生类似压辊对玻璃所施加固定力，从而去除了压辊，也避免了压辊对玻璃表面造成的污染；3、被加工玻璃的重力本身也可以起到一定的防止玻璃在加工过程中移动的可能。4、因为等离子从上往下吹，而玻璃的镀膜层表面在下方，所等离子枪所喷出等离子体因为重力作用而直接往下掉，从而避免了等离子直接落在玻璃的镀膜层表面，进而损伤玻璃的镀膜层表面。

附图说明

图1本专利的电膜退镀设备示意图

图2本专利的电膜退镀设备内部结构图

图3图2的局部放大图

图4本专利的电膜退镀设备俯视图

图5本专利的电膜退镀设备剖视图

图中附图标记含义：1、机架；2、物料传输装置；3、等离子处理装置；4、空隔；3.1、喷头；5、玻璃；5.1、镀膜层表面；5.2、待等离子处理面；6、罩子；6.1、排气口。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本发明的内容做进一步详细说明。

参阅图1至图5，本专利公开了一种玻璃表面电膜退镀设备，包括机架(1)，机架上设置有物料传输装置(2)、等离子处理装置(3),在物料传输装置(2)上设置了空隔(4)，等离子处理装置(3)的喷头(3.1)正对空隔(4)，等离子处理装置(3)位于空隔(4)上方并从上往下喷出等离子体。上述电膜退镀设备不包括从上往下与被传输物料接触的部件。等离子处理装置(3)是等离子枪且等离子枪的喷头(3.1)可对着空隔(4)移动。等离子枪喷射出的等离子呈圆柱形且可直接射向玻璃(5)表面。空隔(4)的宽度d大于离子体枪所喷出的等离子的直径r。玻璃(5)是手指触摸屏玻璃。

离子枪的喷头(3.1)可对着空隔(4)移动，使得所喷出的等离子体通过空隔(4)喷射到玻璃(5)表面。

上述一种玻璃表面电膜退镀设备，还包括罩子(6)，所述排气罩子(6)罩在所述机架(1)上，所述罩子(6)上有排气口(6.1)。

本专利还公开了一种玻璃表面电膜退镀方法，使用了上述一种玻璃表面电膜退镀设备，玻璃(5)包括了镀膜层表面(5.1)和待等离子处理面(5.2)，待等离子处理面(5.2)在物料传输装置(2)的上方，使得待等离子处理面(5.2)在通过空隔(4)时，等离子处理装置(3)所喷出的等离子体正对待等离子处理面(5.2)。玻璃(5)放置在物料传输装置(2)上且镀膜层表面(5.1)贴着物料传输装置(2)

上列详细说明是针对本发明可行实施例的具体说明，该实施例并非用以限制本发明的专利范围，凡未脱离本发明所为的等效实施或变更，均应包含于本案的专利范围中。

Claims (9)

1.一种玻璃表面电膜退镀设备，包括机架(1)，所述机架上设置有物料传输装置(2)、等离子处理装置(3),在所述物料传输装置(2)上设置了空隔(4)，所述等离子处理装置(3)的喷头(3.1)正对所述空隔(4)，其特征在于，所述等离子处理装置(3)位于空隔(4)上方并从上往下喷出等离子体。

2.根据权利要求1所述的一种玻璃表面电膜退镀设备，其特征在于，所述等离子处理装置(3)是等离子枪且所述等离子枪的喷头(3.1)可对着所述空隔(4)移动。

3.根据权利要求2所述的一种玻璃表面电膜退镀设备，其特征在于，所述等离子枪喷射出的等离子呈圆柱形且可直接射向玻璃(5)表面。

4.根据权利要求3所述的一种玻璃表面电膜退镀设备，其特征在于，所述空隔(4)的宽度d大于所述离子体枪所喷出的等离子的直径r。

5.根据权利要求4所述的一种玻璃表面电膜退镀设备，其特征在于，所述离子枪的喷头(3.1)可对着所述空隔(4)移动，使得所喷出的等离子体通过所述空隔(4)喷射到所述玻璃(5)表面。

6.根据权利要求5所述的一种玻璃表面电膜退镀设备，其特征在于，还包括罩子(6)，所述排气罩子(6)罩在所述机架(1)上，所述罩子(6)上有排气口(6.1)。

7.根据权利要求6所述的一种玻璃表面电膜退镀设备，其特征在于，所述玻璃(5)是手指触摸屏玻璃。

8.一种玻璃表面电膜退镀方法，其特征在于，使用了权利要求1至7任何一条所述的一种玻璃表面电膜退镀设备，玻璃(5)包括了镀膜层表面(5.1)和待等离子处理面(5.2)，所述待等离子处理面(5.2)在所述物料传输装置(2)的上方，使得所述待等离子处理面(5.2)在通过所述空隔(4)时，所述等离子处理装置(3)所喷出的等离子体正对所述待等离子处理面(5.2)。

9.根据权利要求8所述的一种玻璃表面电膜退镀方法，其特征在于，所述玻璃(5)放置在所述物料传输装置(2)上且所述镀膜层表面(5.1)贴着所述物料传输装置(2)。

Images