CN214683283U - 一种新型在线轨道直喷等离子的处理设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种新型在线轨道直喷等离子的处理设备,包括:机架;钣金面板,配合机架的结构设置;皮带输送机构,固定设在机架内;等离子清洗机构,配合设在皮带输送机构的上方;控制机构,用于控制皮带输送机构和等离子清洗机构;其中,等离子清洗机构包括可轴向活动的运动模块,运动模块上设有等离子喷枪,皮带输送机构包括用于放置待处理产品的上料模块和用于运输的传送模块,上料模块沿传送模块直线运动,传送模块包括调节装置以及平行设置的两条轨道装置,调节装置用于调节两条轨道装置之间的间距,可根据不同规格的待处理产品调节宽度,适应处理多种规格的产品,提高设备效率和利用率。
Description
技术领域
本实用新型涉及等离子清洗领域,更具体的说,涉及一种新型在线轨道直喷等离子的处理设备。
背景技术
表面处理是在基体材料表面上人工形成一层与基体的机械、物理和化学性能不同的表层的工艺方法。表面处理的目的是满足产品的耐蚀性、耐磨性、装饰或其他特种功能要求。 对于金属铸件,我们比较常用的表面处理方法是,机械打磨,化学处理,表面热处理,喷涂表面,表面处理就是对工件表面进行清洁、清扫、去毛刺、去油污、去氧化皮等。
与传统清洗方式相比,如湿法清洗等,常压等离子技术具有极大的优势,目前的处理设备智能针对特征尺寸的产品进行清洗处理,处理设备的利用率较低。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种有效提高利用率的新型在线轨道直喷等离子的处理设备。
本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现的:
一种新型在线轨道直喷等离子的处理设备,包括:
机架;
钣金面板,配合所述机架的结构设置;
皮带输送机构,固定设在所述机架内;
等离子清洗机构,配合设在所述皮带输送机构的上方;
控制机构,用于控制所述皮带输送机构和所述等离子清洗机构;
其中,所述等离子清洗机构包括可轴向活动的运动模块,所述运动模块上设有等离子喷枪,所述皮带输送机构包括用于放置待处理产品的上料模块和用于运输的传送模块,所述上料模块沿所述传送模块直线运动,所述传送模块包括调节装置以及平行设置的两条轨道装置,所述调节装置用于调节两条所述轨道装置之间的间距。
可选的,所述调节装置包括调节电机、固定件、传动件和导向杆,所述固定件固定在所述轨道装置上,所述导向杆穿过所述固定件固定在所述机架上,所述电机通过所述传动件驱动所述固定件沿所述导向杆运动。
可选的,所述皮带输送机构的两端均伸出所述机架,所述皮带输送机构的两端伸出长度大于所述上料模块的最大长度,所述皮带输送机构伸出的两端的分别用于对接上料机构和下料机构。
可选的,所述皮带输送机构包括定位装置,所述定位装置包括用于挡料的第一气缸、用于顶升的第二气缸和用于固定所述上料模块的真空吸盘,所述轨道装置上设有用于所述上料模块纠偏的第三气缸。
可选的,所述等离子清洗机构包括等离子发生单元,所述等离子发生单元设在所述机架内,所述运动模块包括用于X轴活动的X轴模组、用于Y轴活动的Y轴模组和用于Z轴活动的Z轴模组,所述等离子喷枪设在所述Z轴模组上,所述等离子发生单元与所述等离子喷枪相连接,所述X轴模块、所述Y轴模块和所述Z轴模块均通过伺服电机驱动。
可选的,所述机架的顶部设有排气装置,所述排气装置对接环保处理单元。
可选的,所述机架上设有与所述控制机构连接的报警单元,所述机架上设有用于观察的亚克力制成的透明窗。
本实用新型由于通过可调节的两条轨道装置之间的间距配合等离子清洗机构,可实现对产品的等离子清洗处理,可根据不同规格的待处理产品调节宽度,适应处理多种规格的产品,提高设备效率和利用率;而且处理设备采用三轴模组配合直喷的等离子喷枪,上下喷洗高度可调,组成一套等离子清洗的处理设备,可实现对产品的等离子清洗处理,并且等离子清洗的运动轨迹可根据不同产品需求而设置;同时通过使用这种创新的表面处理工艺,无论是各类高分子塑胶、陶瓷、玻璃、PVC、纸张还是金属等材料都能获得表面能的提高,同时可以实现现代制造工艺所追求的高可靠性,高效率,低成本和环保等目标,等离子清洗技术用于工业生产中,不会有有毒物质和化学物质的生成,不会构成环境污染或者危害人体健康。
附图说明
图1是本实用新型实施例的处理设备的结构示意图;
图2是本实用新型实施例的皮带输送机构的结构示意图;
图3是本实用新型实施例的运动模块的结构示意图;
图4是本实用新型实施例的皮带输送机构与运动模块相互配合的结构示意图;
其中:10、处理设备,11、机架,12、钣金面板,13、控制机构,14、排气装置,15、报警单元,16、透明窗,20、皮带输送机构,21、上料模块,22、传送模块,23、调节装置,231、调节电机,232、固定件,233、传动件,234、导向杆,24、定位装置,241、第一气缸,242、第二气缸,243、第三气缸,25、轨道装置,31、运动模块,311、X轴模组,312、Y轴模组,313、Z轴模组,314、伺服电机,32、等离子喷枪,33、等离子发生单元。
具体实施方式
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“横向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。
在本实用新型的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。另外,术语“包括”及其任何变形,意图在于覆盖不排他的包含。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
下面结合附图和较佳的实施例对本实用新型作进一步说明。
如图1至图4所示,本实施例公开了一种新型在线轨道直喷等离子的处理设备10,包括:机架11;钣金面板12,配合机架11的结构设置;皮带输送机构20,固定设在机架11内;等离子清洗机构,配合设在皮带输送机构20的上方;控制机构13,用于控制皮带输送机构20和等离子清洗机构;其中,等离子清洗机构包括可轴向活动的运动模块31,运动模块31上设有等离子喷枪32,皮带输送机构20包括用于放置待处理产品的上料模块21和用于运输的传送模块22,上料模块21沿传送模块22直线运动,传送模块22包括调节装置23以及平行设置的两条轨道装置25,调节装置23用于调节两条轨道装置25之间的间距。
通过可调节的两条轨道装置25之间的间距配合等离子清洗机构,可实现对产品的等离子清洗处理,可根据不同规格的待处理产品调节宽度,适应处理多种规格的产品,提高设备效率和利用率;而且处理设备10采用三轴模组配合直喷的等离子喷枪32,上下喷洗高度可调,组成一套等离子清洗的处理设备10,可实现对产品的等离子清洗处理,并且等离子清洗的运动轨迹可根据不同产品需求而设置;同时通过使用这种创新的表面处理工艺,无论是各类高分子塑胶、陶瓷、玻璃、PVC、纸张还是金属等材料都能获得表面能的提高,同时可以实现现代制造工艺所追求的高可靠性,高效率,低成本和环保等目标,等离子清洗技术用于工业生产中,不会有有毒物质和化学物质的生成,不会构成环境污染或者危害人体健康。
其中,调节装置23包括调节电机231、固定件232、传动件233和导向杆234,固定件232固定在轨道装置25上,导向杆234穿过固定件232固定在机架11上,电机通过传动件233驱动固定件232沿导向杆234运动,通过调节电机231和导向杆234的配合设置,实现两条轨道装置25之间的间距精准进行调整,能够更好的适应不同产品的清洗工作,可以随时调整清洗产品的类型和大小,减低处理设备10的闲置率,能够更好的节约使用成本。
其中,皮带输送机构20包括定位装置24,定位装置24包括用于挡料的第一气缸241、用于顶升的第二气缸242和用于固定上料模块21的真空吸盘,轨道装置25上设有用于上料模块21纠偏的第三气缸243,通过人工/自动将待处理的产品放置在上料模块21上,上料模块21被轨道装置25运送到定位装置24的位置,第一气缸241上升对上料模块21进行阻挡,第二气缸242上升顶起上料模块21,第三气缸243对上料模块21进行纠偏摆正,然后真空吸盘启动对待加工的产品固定,等离子清洗机构对产品进行等离子清洗,清洗完成后,真空吸盘停止,所有气缸复位,产品流出并自动/人工进行下料。
其中,皮带输送机构20的两端均伸出机架11,皮带输送机构20的两端伸出长度大于上料模块21的最大长度,预留足够的操作空间,方便对夹具进行上料和下料操作;皮带输送机构20伸出的两端的分别用于对接上料机构和下料机构,方便直接对接生产线上的上料机构和下料机构,完成全自动化的生产线配合装配工作。
其中,等离子清洗机构包括等离子发生单元33,等离子发生单元33设在机架11内,运动模块31包括用于X轴活动的X轴模组311、用于Y轴活动的Y轴模组312和用于Z轴活动的Z轴模组313,等离子喷枪32设在Z轴模组313上,等离子发生单元33与等离子喷枪32相连接,合金材料的直喷式喷头,耐高温、抗氧化、长寿命,并经过时效处理和基频整定,保证对设备信号系统的最佳谐振匹配状态,等离子处理宽度最大200mm(喷头可灵活更换),配备功率可调等离子发生单元33,控制机构13包括可编程逻辑控制器,通过可编程逻辑控制器的人机界面进行整机控制,自动设定相关参数,根据产品尺寸自行调节处理面积,等离子发生单元33由工业专用计算机编程控制做到喷头逐一精准控制,使效果更好;X轴模组311、Y轴模组312和Z轴模组313均通过伺服电机314驱动,伺服电机314驱动,设计合理,性能稳定,效率大大提升。
其中,机架11的顶部设有排气装置14,能够及时排出等离子处理产生的气体,保护车间环境;排气装置14对接环保处理单元,能够对排出等离子处理产生的气体进行无害化处理,保证不会有有毒物质和化学物质的生成,不会构成环境污染或者危害人体健康,更加的环保。
其中,机架11上设有与控制机构13连接的报警单元15,该处理设备10设计有故障自诊系统,若有故障发生时系统通过报警单元15自动报警通知操作人员,并提供数据快速解决,提高工作效率;钣金面板12的设计不仅能够有效的保护处理设备10还能避免操作人员受到伤害;机架11上设有用于观察的亚克力制成的透明窗16,方便观察内部等离子清洗处理情况,做到等离子清洗处理过程中随时能够观察到内部运行状态,方便随时进行调整。
通过上述处理设备10进行等离子清洗,处理后的制品材料表面张力特性的改善提升,更能适合工业方面的涂覆、粘接等处理要求。如电子产品中LCD屏的涂覆处理、机壳及按键钮等结构件的表面喷油丝印;PCB表面的除胶除污清洁、镜片胶水粘贴前的处理、电线、电缆喷码前的处理;汽车工业车灯罩、刹车片、车门密封胶条的粘贴前的处理;机械行业金属零部件的细微无害清洁处理,镜片镀涂前的处理,各种工业材料之间接合密封前的处理;印刷包装糊盒机械中对封边位置上胶前的处理;医疗器械行业中,针头与塑胶导管粘接前的处理等等。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本实用新型所作的进一步详细说明,不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干简单推演或替换,都应当视为属于本实用新型的保护范围。
Claims (7)
1.一种新型在线轨道直喷等离子的处理设备,其特征在于,包括:
机架;
钣金面板,配合所述机架的结构设置;
皮带输送机构,固定设在所述机架内;
等离子清洗机构,配合设在所述皮带输送机构的上方;
控制机构,用于控制所述皮带输送机构和所述等离子清洗机构;
其中,所述等离子清洗机构包括可轴向活动的运动模块,所述运动模块上设有等离子喷枪,所述皮带输送机构包括用于放置待处理产品的上料模块和用于运输的传送模块,所述上料模块沿所述传送模块直线运动,所述传送模块包括调节装置以及平行设置的两条轨道装置,所述调节装置用于调节两条所述轨道装置之间的间距。
2.如权利要求1所述的一种新型在线轨道直喷等离子的处理设备,其特征在于,所述调节装置包括调节电机、固定件、传动件和导向杆,所述固定件固定在所述轨道装置上,所述导向杆穿过所述固定件固定在所述机架上,所述电机通过所述传动件驱动所述固定件沿所述导向杆运动。
3.如权利要求2所述的一种新型在线轨道直喷等离子的处理设备,其特征在于,所述皮带输送机构的两端均伸出所述机架,所述皮带输送机构的两端伸出长度大于所述上料模块的最大长度,所述皮带输送机构伸出的两端的分别用于对接上料机构和下料机构。
4.如权利要求1所述的一种新型在线轨道直喷等离子的处理设备,其特征在于,所述皮带输送机构包括定位装置,所述定位装置包括用于挡料的第一气缸、用于顶升的第二气缸和用于固定所述上料模块的真空吸盘,所述轨道装置上设有用于所述上料模块纠偏的第三气缸。
5.如权利要求1所述的一种新型在线轨道直喷等离子的处理设备,其特征在于,所述等离子清洗机构包括等离子发生单元,所述等离子发生单元设在所述机架内,所述运动模块包括用于X轴活动的X轴模组、用于Y轴活动的Y轴模组和用于Z轴活动的Z轴模组,所述等离子喷枪设在所述Z轴模组上,所述等离子发生单元与所述等离子喷枪相连接,所述X轴模块、所述Y轴模块和所述Z轴模块均通过伺服电机驱动。
6.如权利要求1所述的一种新型在线轨道直喷等离子的处理设备,其特征在于,所述机架的顶部设有排气装置,所述排气装置对接环保处理单元。
7.如权利要求1所述的一种新型在线轨道直喷等离子的处理设备,其特征在于,所述机架上设有与所述控制机构连接的报警单元,所述机架上设有用于观察的亚克力制成的透明窗。
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