CN209292763U - 一种人造革单面亚光处理系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于人造革加工设备领域，其公开了一种人造革单面亚光处理系统，包括用于涂布哑光涂层的涂布单元和用于烘干涂布后的人造革的烘干单元；还包括底座，所述的涂布单元和烘干单元固定在底座上，所述的烘干单元设置在涂布单元的上方，所述的底座的底部和地面之间存在供人造革通过的间隙；所述的底座的一侧设有放料单元，所述的底座的另外一侧设有用于暂存烘干后的人造革的暂存单元，所述的底座上设有位于涂布单元和暂存单元之间的第一支撑辊和第二支撑辊；所述的人造革经放料单元、间隙、第一支撑辊、第二支撑辊、涂布单元、烘干单元后进入到暂存单元内。该系统能够通过对涂布单元和烘干单元进行巧妙的布局，可实现占地面积小，功能不受限的目的。

Description

一种人造革单面亚光处理系统

技术领域

本实用新型涉及人造革加工设备领域，具体为一种人造革单面亚光处理系统。

背景技术

人造革在进行发泡处理之前，需要按照要求进行相关的助剂的涂布。

作为本公司的一个重要的产品，单面亚光、单面绒层的人造革产品受到市场的广泛的欢迎。

本公司的亚光生产线是在传统的发泡设备上进行加装后得到的。

如果要在发泡设备之前加装亚光生产设备必须考虑到如下因素：场地有限、改装成本要低。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种人造革单面亚光处理系统，该系统能够通过对涂布单元和烘干单元进行巧妙的布局，可实现占地面积小，功能不受限的目的。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种人造革单面亚光处理系统，包括用于涂布哑光涂层的涂布单元和用于烘干涂布后的人造革的烘干单元；还包括底座，所述的涂布单元和烘干单元固定在底座上，所述的烘干单元设置在涂布单元的上方，所述的底座的底部和地面之间存在供人造革通过的间隙；所述的底座的一侧设有放料单元，所述的底座的另外一侧设有用于暂存烘干后的人造革的暂存单元，所述的底座上设有位于涂布单元和暂存单元之间的第一支撑辊和第二支撑辊；所述的人造革经放料单元、间隙、第一支撑辊、第二支撑辊、涂布单元、烘干单元后进入到暂存单元内。

在上述的人造革单面亚光处理系统中，所述的第二支撑辊设置在第一支撑辊的正上方。

在上述的人造革单面亚光处理系统中，所述的涂布单元包括第三支撑辊、压辊、涂布辊、加热辊，所述的烘干单元包括加热箱、设置在加热箱上靠近放料单元一侧的进料口、设置在加热箱上靠近暂存单元一侧的出料口，所述的压辊设置在涂布辊的上方，所述的第三支撑辊设置在压辊的斜上方，所述的加热辊位于压辊的一侧，所述的第三支撑辊和加热辊位于压辊和第二支撑辊之间；所述的涂布辊的下方设有用于容置亚光涂料的助剂槽。

在上述的人造革单面亚光处理系统中，所述的烘干单元的下方还设有位于进料口和压辊之间的第四支撑辊。

在上述的人造革单面亚光处理系统中，所述的暂存单元包括暂存槽、设置在暂存槽和出料口之间的第五支撑辊。

在上述的人造革单面亚光处理系统中，所述的暂存槽为一上表面开放的槽体结构，垂直于暂存槽长度方向的剖面为半圆形。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型巧妙的在底座和地面之间设置间隙，这样可以通过该间隙改变人造革的走向，使人造革可以经过涂布单元后直接进入到烘干单元，并且从烘干单元出来的人造革无需换向直接进入到发泡设备进行加热发泡。从整体上来说，布局合理、占地面积小，可改装的操作难度明显降低。

附图说明

图1为本实用新型的实施例1的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例1

请参阅图1，一种人造革单面亚光处理系统，包括用于涂布哑光涂层的涂布单元1和用于烘干涂布后的人造革的烘干单元2；还包括底座3，所述的涂布单元1和烘干单元2固定在底座3上，所述的烘干单元2设置在涂布单元1的上方，所述的底座3的底部和地面之间存在供人造革通过的间隙4；优选地，间隙4的上部设有多个支撑滚轴用于将人造革顺利的导入到下述的第一支撑辊7上，所述的底座3的一侧设有放料单元5，所述的底座3的另外一侧设有用于暂存烘干后的人造革的暂存单元6，所述的底座3上设有位于涂布单元1和暂存单元6之间的第一支撑辊7和第二支撑辊8；所述的人造革经放料单元5、间隙4、第一支撑辊7、第二支撑辊8、涂布单元1、烘干单元2后进入到暂存单元6内。

在实际生产过程中，人造革经放料单元5放料，放料单元5一般为一搁置在支架上的放料卷，支架上可以设置驱动单元驱动放料卷放料，也可以不设置，因为涂布单元1一般带驱动单元。经放料单元5进入到间隙4，经过第一支撑辊7和第二支撑辊8改变行进方向后进入到涂布单元1涂布，涂布后从烘干单元2靠近放料单元5一侧的入口进入到烘干单元2烘干，然后进入到暂存单元6暂存后进入到外设的加热发泡设备。

在本实施例中，所述的第二支撑辊8设置在第一支撑辊7的正上方，所述的涂布单元1包括第三支撑辊11、压辊12、涂布辊13、加热辊14，加热辊14表面带有很多加热片，通过加热片产生的热辐射来对人造革进行保温，通常来说，加热辊14不直接和人造革接触，仅供人造革涂布前保温；所述的烘干单元2包括加热箱21、设置在加热箱21上靠近放料单元5一侧的进料口22、设置在加热箱21上靠近暂存单元6一侧的出料口23，所述的压辊12设置在涂布辊13的上方，所述的第三支撑辊11设置在压辊12的斜上方，所述的加热辊14位于压辊12的一侧，所述的第三支撑辊11和加热辊14位于压辊12和第二支撑辊8之间；所述的涂布辊13的下方设有用于容置亚光涂料的助剂槽15。

人造革经过第二支撑辊8到达第三支撑辊11然后经过压辊12与涂布辊13接触进行表面涂布，然后进入到加热箱21上的进料口22。涂布辊13上的涂料来源于助剂槽15。

在本实施例中，所述的加热单元2的下方还设有位于进料口22和压辊12之间的第四支撑辊24。在进入进料口22之前，人造革需要从压辊12到达第四支撑辊24。

在本实施例中，所述的暂存单元6包括暂存槽61、设置在暂存槽61和出料口23之间的第五支撑辊62，所述的暂存槽61为一上表面开放的槽体结构，垂直于暂存槽61长度方向的剖面为半圆形。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

Claims (6)

1.一种人造革单面亚光处理系统，包括用于涂布哑光涂层的涂布单元和用于烘干涂布后的人造革的烘干单元；其特征在于，还包括底座，所述的涂布单元和烘干单元固定在底座上，所述的烘干单元设置在涂布单元的上方，所述的底座的底部和地面之间存在供人造革通过的间隙；所述的底座的一侧设有放料单元，所述的底座的另外一侧设有用于暂存烘干后的人造革的暂存单元，所述的底座上设有位于涂布单元和暂存单元之间的第一支撑辊和第二支撑辊；所述的人造革经放料单元、间隙、第一支撑辊、第二支撑辊、涂布单元、烘干单元后进入到暂存单元内。

2.根据权利要求1所述的人造革单面亚光处理系统，其特征在于，所述的第二支撑辊设置在第一支撑辊的正上方。

3.根据权利要求1所述的人造革单面亚光处理系统，其特征在于，所述的涂布单元包括第三支撑辊、压辊、涂布辊、加热辊，所述的烘干单元包括加热箱、设置在加热箱上靠近放料单元一侧的进料口、设置在加热箱上靠近暂存单元一侧的出料口，所述的压辊设置在涂布辊的上方，所述的第三支撑辊设置在压辊的斜上方，所述的加热辊位于压辊的一侧，所述的第三支撑辊和加热辊位于压辊和第二支撑辊之间；所述的涂布辊的下方设有用于容置亚光涂料的助剂槽。

4.根据权利要求3所述的人造革单面亚光处理系统，其特征在于，所述的烘干单元的下方还设有位于进料口和压辊之间的第四支撑辊。

5.根据权利要求3所述的人造革单面亚光处理系统，其特征在于，所述的暂存单元包括暂存槽、设置在暂存槽和出料口之间的第五支撑辊。

6.根据权利要求5所述的人造革单面亚光处理系统，其特征在于，所述的暂存槽为一上表面开放的槽体结构，垂直于暂存槽长度方向的剖面为半圆形。