CN209140085U - 一种真空吸附调平装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型实施例属于激光加工设备技术领域，涉及一种真空吸附调平装置。本实用新型提供的方案为：一种真空吸附调平装置，包括：吸附装置和调平机构，所述吸附装置设置在所述调平机构上；所述吸附装置包括多块吸附板和真空层，所述真空层分成多个独立控制的真空区域；多块所述吸附板拼接并镶嵌在所述真空层的上方，且所述吸附板上均匀分布多个吸附孔；所述调平机构用于调整所述吸附板的水平度。本实用新型所提供的吸附装置的通用性差好，不易破真空，能兼容吸附各同尺寸的小单元。并且调平机构可精确调节吸附装置与机械手的水平度，提高下料装置抓取吸附装置中的产品的准确率。

Description

一种真空吸附调平装置

技术领域

本实用新型实施例涉及激光加工设备技术领域，具体涉及中转放料台装置领域，特别是一种真空吸附调平装置。

背景技术

OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)屏幕是对大片的panel(一种主要包含PET和PI等多层结构的柔性膜)进行激光切割成的小单元。在激光切割时，激光切割panel的效率远远高于取料机械手对小单元的下料速度。因此，需要一个中转放料台装置暂时放置切割的小单元。一般地，中转放料台装置都设有吸附台，用于吸附切割的小单元。

在传统的吸附装置中，吸附盘上设有大量小孔用于释放真空装置的负压，以吸附产品。但是，传统吸附装置一般使用铝合金材料制作，由于材料本身的原因，现有的工艺技术不能对铝合金材料钻极小的孔，即现有技术的吸附板的孔径较大，使得吸附盘的孔径一般都在0.5mm以上。然而，该孔径的不能支持更换切割的小单元的尺寸，其在取料机构取料后，容易造成真空破空，使得吸附装置不能产生负压，从而失去吸附能力。

此外，与OLED屏幕一样，机械手也是一种水平的结构，以便机械手抓取小单元。因此，在下料/取料时，机械手和吸附板应当是平行设置的，因而吸附装置对吸附板的水平度要求很高。倘若吸附板与机械手不平行，那么机械手不能完全抓取小单元，就会导致取料失败，从而影响下料速率，将小单元堆积在中转台吸附装置中，进而影响OLED屏幕的切割效率。

实用新型内容

本实用新型实施例所要解决的技术问题是：现有吸附装置的通用性差，不能兼容吸附不同尺寸的小单元；以及吸附装置与机械手的水平度不一致影响下料的问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型实施例所述的一种真空吸附调平装置，采用了如下所述的技术方案：

一种真空吸附调平装置，包括：包括：吸附装置和调平机构，所述吸附装置设置在所述调平机构上；

所述吸附装置包括多块吸附板和真空层，所述真空层分成多个独立控制的真空区域；

多块所述吸附板拼接并镶嵌在所述真空层的上方，且所述吸附板上均匀分布多个吸附孔；

所述调平机构用于调整所述吸附板的水平度。

所述真空层划分真空区域单独控制，一个真空区域被破真空，其他真空区域不受影响，以使所述真空层尽可能保护其真空环境，保持吸附能力。所述调平机构用于调整所述吸附板的水平度，以便另外设置的取料装置抓取其上的 OLED或者其他物料，从而快速下料。

进一步地，一块或多块所述吸附板对应一个真空区域。

进一步地，所述调平机构包括支撑板和多个具有多自由度的调平支脚，

所述支撑板为平面板；

多个所述调平支脚固定在所述支撑板邻近于所述吸附装置的表面，且多个所述调平支脚共同用于调节所述吸附板的水平度。

多个所述调平支脚通过其自身水平度调节以及多个所述调平支脚之间的协同调节，使得所述吸附板的水平度与所述取料装置的水平度一致。

进一步地，所述调平支脚包括第一支撑件、第二支撑件和调节机构，

所述第一支撑件固定在所述支撑板上，所述调节机构设置在所述第一支撑件上，所述第二支撑件部分容纳在所述调节机构中，且所述第一支撑件与所述第二支撑件相对设置在所述调节机构的两端，所述调节机构与所述第一支撑件和所述第二支撑板均为活动连接：所述调节机构的底端可在所述第一支撑件内上下移动及旋转，顶端与所述第二支撑件多自由度活动连接；

所述吸附装置固定在所述第二支撑件上，通过调节所述第二支撑件的水平度以调节所述吸附板的水平度。

进一步地，所述调节机构包括外壳、调节柱、旋转球、第一锁紧环和第二锁紧环，

所述调节柱的底端可在所述第一支撑件上沿所述调节柱轴向移动，并且所述调节柱与所述第一支撑件沿调节柱的轴向旋转连接，所述调节柱的顶端穿过所述外壳与所述旋转球固定，所述第二支撑件围绕所述旋转球多自由度活动连接，并且，所述第二支撑件与所述旋转球连接的部分包裹在所述外壳中；

所述第一锁紧环套在所述第二支撑件上，用于锁定所述第二支撑件；

所述第二锁紧环套在所述调节柱上，用于锁定所述调节柱。

进一步地，所述第二支撑件包括平面块和台肩块，所述台肩块嵌套在所述外壳中，所述平面块与所述吸附装置固定连接，且所述台肩块设有圆形凹槽，所述旋转球与所述圆形凹槽内壁活动连接。

进一步地，所述调平机构包括至少3个所述调平支脚。

3个以上所述调平支脚使得其共同支撑的所述吸附装置更加平稳，便于调节所述吸附装置的水平度，同时避免吸附装置不平稳而难以取料。

进一步地，该装置还包括废料清理辅助结构，其包括：两块挡板和一块导料板；

两块所述挡板垂直设置在所述吸附板的两侧；

所述导料板设置在所述吸附板上，且所述导料板垂直于所述挡板与所述吸附板的交线。

所述废料清理辅助结构用于辅助清理装置快速将所述吸附板上的废料清理。其中，所述挡板用于防止废料从所述吸附板的两侧掉落，所述导料板用于引导废料掉落到废料收集器中。

进一步地，该装置还包括转向机构，其包括底板、驱动机构、第一限位块和第二限位块，

所述驱动机构、第一限位块和第二限位块均固定在所述底板上，且所述第一限位块、第二限位块靠近所述驱动机构；所述驱动机构还与所述调平机构固定；

所述驱动机构用于驱动所述调平机构以及所述吸附装置旋转，以调节所述吸附装置的下料方向；

所述驱动机构交替地被所述第一限位块或者所述第二限位块阻挡旋转，所述驱动机构的每次旋转的角度与所述第一限位块和第二限位块以所述驱动机构为中心形成的夹角的角度一致。

所述转向机构用于调整所述吸附装置的下料方向。其中，所述驱动机构用于旋转所述吸附装置，通过所述第一限位块或者第二限位块阻挡，所述驱动机构将所述吸附装置的下料方向恰好转至另一个下料装置。

进一步地，所述转向机构还包括多个气浮轴承，所述气浮轴承固定在所述底板上，所述气浮轴承用于从所述调平机构底端吹气间接限制所述吸附板随着所述驱动机构旋转时其表面跳动过大。

所述吸附板的旋转过程中其表面跳动过大会使得吸附板上的OLED或者其他物料吸附不稳，所述气浮轴承用于抑制所述吸附板表面的跳动。

与现有技术相比，本实用新型实施例主要有以下有益效果：

本实用新型实施例公开了一种真空吸附调平装置，包括吸附装置和调平机构，所述吸附装置包括多块吸附板和真空层，所述真空层分成多个独立控制的真空区域，每个真空区域产生的负压互不影响。多块所述吸附板拼接并镶嵌在所述真空层的上方，且所述吸附板上均匀分布多个用于吸附物料的吸附孔，真空层产生的负压通过吸附孔吸附OLED以及其他物料；且该吸附板的通用性好，不易破真空，能兼容吸附各种尺寸的OLED以及其他物料。所述调平机构支撑所述吸附装置，且所述调平机构用于调整所述吸附板的水平度。调平机构可精确调节吸附装置与机械手的水平度，提高下料装置抓取吸附装置中的产品的准确率。

附图说明

图1为本实用新型实施例所述真空吸附调平装置的平面结构示意图；

图2为图1的相反方向平面结构示意图；

图3为本实用新型实施例所述真空吸附调平装置的立体结构示意图；

图4为本实用新型实施例吸附装置的剖视图；

图5为本实用新型实施例吸附板在特定仪器下显示的结构示意图；

图6为本实用新型实施例调平支脚的立体图；

图7为图6的主视图；

图8为图7在A-A向的剖视图；

图9为本实用新型实施例转向机构的立体结构示意图。

10-吸附装置、20-调平机构、30-清理辅助结构、40-转向机构、11-吸附板、 12-真空层、101-吸附孔、121-框体、21-支撑板、22-调平支脚、221-第一支撑件、223-第二支撑件、222-调节机构、241-外壳、242-调节柱、243-旋转球、201-第一锁紧环、202-第二锁紧环、401-调节孔、2231-平面块、2232-台肩块、31-挡板、 32-导料板、41-底板、42-驱动机构、431-第一限位块、432-第二限位块、44-气浮轴承、420-马达、402-挡边。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳实施例。但是，本实用新型以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容的理解更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。

需要说明的是，下面描述中使用的词语“上”、“下”、“上端”、“下端”、“底部”、“顶部”等仅表示了各部件之间的相对位置关系，当进行翻转或旋转时，这一相对位置关系可能会发生颠倒或变化。

本实用新型的权利要求书、说明书以及说明书附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。

本实用新型所提供的真空吸附调平装置涉及激光切割设备技术领域，具体涉及平面板的切割设备技术领域，主要是关于平面板切割后的暂放产品中转平台。本实用新型以OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)为例，对所述真空吸附调平装置进行解释说明。所述OLED为一种panel平面板切割后的一种小单元，OLED仍然为一种平面板，只是规格较小。

请参阅图1，本实用新型实施例提供一种真空吸附调平装置，包括吸附装置10、调平机构20、废料清理辅助结构30和转向机构40。其中，吸附装置10、调平机构20和转向机构40分层并从上至下依次连接，即转向机构40支撑调平机构20，调平机构20支撑吸附装置10。而所述废料清理辅助结构30设置在吸附装置10上，以便辅助清理装置清理产品切割产生的废料。

在本实施例中，吸附装置10作为中转台装置，用于暂放切割后的OLED。且其通用性好，不易破真空，能兼容吸附各种尺寸的OLED。

进一步地，所述吸附装置10暂放的OLED被另外设置的取料装置，如机械手以及其他取料装置，取出到指定位置。一般地，由于OLED是一种平面板，取料的机械手以及其他取料装置一般也是设置成平面的。在本实施例中，所述调平机构20用于调整吸附装置10的水平度，使得其与外部取料的机械手的水平度一致，以便机械手能够完全接触OLED，以使所述机械手能够取出所述 OLED。所述调平机构20可精确调节所述吸附装置10与机械手的水平度，以提高所述机械手以及其他取料装置从吸附装置10中抓取小单元的准确率。

进一步地，伴随着OLED暂放到吸附装置10，切割产生的大料废料被同时携带到所述吸附装置10中，所述废料清理辅助结构30用于辅助清理装置，如毛刷，快速地将吸附装置10中的废料清理到垃圾车中。

更进一步地，所述转向机构40用于调节所述吸附装置10下料方位的朝向。

如图2-3及图5所示，所述吸附装置10包括多块吸附板11和真空层12。其中，吸附板11为陶瓷板。由于陶瓷板是由发泡材料的微小颗粒加粘合剂，然后压紧等一系列工艺制作出来的，因此，陶瓷板上能够制作孔径极小的吸附孔 101(图5是在特定仪器下观察到的，实际中，所述吸附孔是紧密排列的，其之间的间距非常小，吸附板上几乎也观察不到吸附孔)。所述真空层12产生的负压通过所述吸附孔101吸附所述OLED或者其他物料。

一般的，所述吸附孔101的直径小于0.02mm，在此范围内，所述吸附孔101 都不容易被破真空。

在本实施例中，所述吸附孔101的直径一为0.01mm，使得真空层12不容易被破真空。当切割装置更换切割尺寸时，取料装置取走吸附板11上的任意小单元，都不影响吸附装置10的吸附能力。

进一步地，如图5所示，吸附孔101均匀分布在所述吸附板11上，以使OLED受力均匀。

如图4-5所示，所述吸附板11是拼接而成的。所述真空层12包括不封顶的框体121，所述吸附板11镶嵌在所述真空层12的上方，与所述框体121围合成腔体结构，该腔体内填充满真空。

进一步地，所述真空层12分为多个真空区域，每个真空区域都是独立控制的，即每个真空区域单独由真空抽气装置抽取空气，每个真空区域之间互不影响。

具体地，一个所述真空区域对应一块或者多块所述吸附板11。每个真空区域，即使被破真空30％以内，该真空区域的其余部分对应的吸附板11任然还具备吸附能力，依然可以吸附所述OLED。而其余对应的真空区域是不受影响的。

在本实施例中，如图3-4所示，所述吸附装置10设有9块所述吸附板11，所述真空层12分成9个真空区域，一块所述吸附板11对应一个真空区域。若一个所述真空区域被破真空30％以内，该真空区域对应的所述吸附板11还具备吸附能力，依然可以吸附OLED。

在本实用新型的一些实施例中，由于取料装置(机械手)对吸附装置10的水平度要求非常高，所以本实用新型设置有调平机构20，以方便工作人员手动调节吸附板11的水平度。

请参阅图2，调平机构20包括支撑板21和多个具有多自由度的调平支脚 22。其中，支撑板21为平面板，调平支脚22设置在支撑板21邻近于所述吸附装置10的表面。调平支脚22可固定在所述支撑板21邻近于所述吸附装置10 表面的任意位置，所述吸附装置10被多个所述调平支脚22共同支撑。

在本实施例中，调平支脚22是多自由度运动的，其调节方向不受约束。各个调平支脚22之间相互协调，将吸附板11调节至与水平面平行。

应当理解的，3个点可以确定一个平面。调平支脚22若要平稳支撑所述吸附装置10，调平支脚22的数量应当至少三个以上。当使用3个调平支脚22的时候，3个调平支脚22应当形成三角形方式固定在支撑板21上。

当然，4个及4个以上所述调平支脚22时也需将全部所述调平支脚22的连线形成一个平面，以支撑起所述吸附装置10，同时使之摆放平稳。

如图2和图6所示，所述调平支脚22包括第一支撑件221、第二支撑件223 和调节机构222。其中，所述第一支撑件221固定在所述支撑板21上；所述调节机构222设置在所述第一支撑件221上，所述第二支撑件223部分容纳在所述调节机构222中，且所述第一支撑件221与所述第二支撑件223相对设置在所述调节机构222的两端。进一步地，所述调节机构222与所述第一支撑件221 和所述第二支撑板21均为活动连接：所述调节机构222的底端可在所述第一支撑件221内上下移动及旋转，顶端与所述第二支撑件223多自由度活动连接。另外，所述第二支撑件223的顶端为水平面，吸附装置10(参阅图1)固定在第二支撑件223的上表面。

进一步地，调节机构222为微调机构，所述调节机构222通过调节所述第二支撑板223的水平面的水平度以调节所述吸附板11的水平度。

具体地，每个调平支脚22的移动方向不受约束，调平支脚22可以任意方向调节所述第二支撑件223。通过各个调平支脚22的协调，使得吸附板11与机械手处于同一水平度。

一般地，吸附装置10和机械手均与水平面平行，以便易于寻找参照物来调节吸附装置10的水平度。多个所述调平支脚22需配合将所述吸附装置10两端调节至处于同一水平线上，以使所述吸附装置10与水平面以及所述机械手平行。

更进一步地，请参阅图6-8，所述调节机构222包括外壳241、调节柱242、旋转球243和两个锁紧环：第一锁紧环201及第二锁紧环202。其中，所述调节柱242的底端可在所述第一支撑件221上沿所述调节柱242轴向移动，并且所述调节柱242与所述第一支撑件221沿调节柱242的轴向旋转连接。所述调节柱242的顶端穿过所述外壳241与所述旋转球243固定连接。所述第二支撑件 23围绕所述旋转球243多自由度活动连接。并且所述述第二支撑件223与所述旋转球243连接的部分包裹在所述外壳241中，外壳241与所述第二支撑件223 之间留有间隙。

具体地，所述调节柱242上沿着其圆柱体的外壁设有调节孔401，用于插入扳手、杆体等，以在外力的作用下上下移动或者旋转所述调节柱242，以使所述第二支撑件223随之移动或者相对转动方向移动。

请参阅图8，所述第一支撑件221中间设有活动槽，所述活动槽的直径与所述调节柱242底端的圆柱体直径一致，所述圆柱体在所述活动槽内上下移动以及转动，以调试所述第二支撑板223的高度及水平度。

所述第二锁紧环202套在所述调节柱242底端的圆柱体上，并位于所述第一支撑件221之上。用于在调试完成后，锁定所述调节柱242，以免所述调节柱 242在所述活动槽内上下移动或者转动。

进一步地，所述第二支撑件223为台肩结构，包括一体成型的平面块2231 和台肩块2232，平面块2231为平面板，并与所述吸附装置10固定。所述台肩块2232嵌套在所述外壳241中，且台肩块2232内设有圆锥形凹槽，所述旋转球243与所述圆锥形凹槽内壁活动连接。当所述调节柱242在所述活动槽中旋转时，所述旋转球243随之旋转，而所述台肩块2232部分向上移动，另一部分向下移动，从而调整所述平面块2231的水平度，进而调整所述吸附11的水平度。

所述第一锁紧环201套接在所述台肩块2232外壁并位于所述平面块2231 与外壳241之间。所述第一锁紧环201用于在调试完成后锁定所述第二支撑件 223，以免所述第二支撑件223相对所述旋转球243滑动。

当所述调节柱242在所述活动槽上下移动时，所述台肩块2232随之上下移动，从而调节所述平面块2231的高度，从而调节所述吸附装置10的高度。

当所述调节柱242在外力的作用下旋转时，所述旋转球243随之旋转，所述台肩块2232根据所述旋转球243的旋转方向，所述台肩块2232与旋转球243 接触的端面相对移动，以调节所述平面块2231的水平度。

调节完成后，所述第二锁紧环202用螺钉从其侧面紧固所述调节柱242，避免所述调节柱242再滑动以及转动。以及用螺钉穿过所述第一锁紧环201从所述台肩块2322的侧面将其紧固，以免所述第二支撑件223相对所述旋转球243 移动。

在本实施例中，多个所述调节支脚22的具体调节过程包括：

松开所述第一锁紧环201以及所述第二锁紧环202；

上下移动所述调节柱242，使多个所述调节支脚22的第二支撑件223处于同一水平高度，使得所述吸附装置10相对平整；

旋转所述调节柱242，调整所述平面块2231的水平度，多个所述调节支脚22共同调节所述吸附装置10的水平度；

调节完成后，用所述第一锁紧环201锁紧所述第二支撑件223，用所述第二锁紧环202锁紧所述调节柱242。

在本实用新型实施例中，如图1和图3所示，所述废料清理辅助结构30包括两块挡板31和导料板32，两块挡板31垂直设置在所述吸附板11的两侧，所述导料板32也设置在所述吸附板11上，且所述导料板32和两块所述挡板31 与所述吸附板11的交线垂直。

具体地，所述挡板31用于防止废料从所述吸附板11的两边掉落，清理装置，如毛刷等，将随着小单元携带到所述吸附板11的废料等扫向所述导料板32，废料沿着所述导料板32掉落到废料收集器中，如垃圾车。

在本实用新型的一些实施例中，吸附装置10外部一般设有两个用于取料的机械手，当其中一个机械手故障时，另一个机械手启动，避免切割工作由于产品中转不及时而被迫中止。具体地，两个机械手位于吸附装置10中两个方位上，当其中一个机械手故障时，本实施例设有转向机构40将吸附装置10以及调平机构20从面向当前机械手的方向转到面向另一个机械手的方向。

请参阅图2和图9，所述转向机构40包括底板41、驱动机构42、第一限位块431和第二限位块432以及气浮轴承44。其中，所述驱动机构42、所述第一限位块431和第二限位块432和气浮轴承44固定在所述底板41上，并且所述第一限位块431和第二限位块432均靠近所述驱动机构42，第一限位块431和第二限位块432用于限制所述驱动机构42的旋转角度。

在本实施例中，两个机械手以所述吸附装置10为中心形成180°角，所述第一限位块431和第二限位块432则以所述驱动机构42为中心，形成180°角。随着所述驱动机构42的旋转，所述第一限位块431和第二限位块432交替地与驱动机构42接触，阻挡驱动机构42继续旋转。也即是说，所述驱动机构42的旋转的角度即是所述第一限位块431和第二限位块432以所述驱动机构42为中心形成的夹角的角度。

当然，所述第一限位块431和第二限位块432相对所述驱动机构42形成的夹角不限于180°，其是根据两个所述机械手的相对位置决定的，第一限位块 431和第二限位块432以所述驱动机构423为中心形成的夹角与两个所述机械手相对所述吸附装置10形成的夹角一致。

具体地，请参阅图2和图9，所述驱动机构42包括马达420，所述调平机构20固定在所述马达420的电机轴上，所述调平机构20以及所述吸附装置10 随着所述马达420旋转而旋转。另外，所述马达420的侧面还设有挡边402，并且挡边402与所述第一限位块431或者第二限位块432接触。

当一个所述机械手故障时，所述马达420驱动所述调平机构20以及所述吸附装置10转动，当所述挡边402被另一块限位块(第二限位块432或者第一限位块431)挡住时，所述吸附装置10的下料方向也被调向另一个所述机械手。

请参阅图1-3和图9，本实施例设有4个所述气浮轴承44，分别固定在所述底板41的四角。由于所述马达420设置在所述底板41的中心，所述调平机构 20以及所述吸附装置10随着所述马达420的旋转，所述吸附板11及支撑板21 的四周不稳定，表面容易跳动，造成所述吸附板11对小单元的吸附不稳定。4 个所述气浮轴承44分别向所述支撑.板21的四角吹气，产生向上的气压。其一，所述气浮轴承44可防止所述支撑板21支撑过重发生形变。其二，所述气浮轴承44还抑制所述支撑板21表面在旋转过程中的跳动过大，间接地抑制所述吸附板11表面的跳动。

本实用新型不限于上述实施方式，以上所述是本实用新型的优选实施方式，该实施例仅用于说明本实用新型而不用于限制本实用新型的范围，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和修饰，这些等价形式的改进和修饰也应视为包括在本实用新型的保护范围内。

Claims (10)

1.一种真空吸附调平装置，其特征在于，包括：吸附装置和调平机构，所述吸附装置设置在所述调平机构上；

所述吸附装置包括多块吸附板和真空层，所述真空层分成多个独立控制的真空区域；

多块所述吸附板拼接并镶嵌在所述真空层的上方，且所述吸附板上均匀分布多个吸附孔；

所述调平机构用于调整所述吸附板的水平度。

2.根据权利要求1所述的真空吸附调平装置，其特征在于，一块或多块所述吸附板对应一个真空区域。

3.根据权利要求1所述的真空吸附调平装置，其特征在于，所述调平机构包括支撑板和多个具有多自由度的调平支脚，

所述支撑板为平面板；

多个所述调平支脚固定在所述支撑板邻近于所述吸附装置的表面，通过手动调节多个所述调平支脚，从而调节所述吸附板的水平度。

4.根据权利要求3所述的真空吸附调平装置，其特征在于，所述调平支脚包括第一支撑件、第二支撑件和调节机构，

所述第一支撑件固定在所述支撑板上，所述调节机构设置在所述第一支撑件上，所述第二支撑件部分容纳在所述调节机构中，且所述第一支撑件与所述第二支撑件相对设置在所述调节机构的两端，所述调节机构与所述第一支撑件和所述第二支撑板均为活动连接：所述调节机构的底端可在所述第一支撑件内上下移动及旋转，顶端与所述第二支撑件多自由度活动连接；

所述吸附装置固定在所述第二支撑件上，通过调节所述第二支撑件的水平度以调节所述吸附板的水平度。

5.根据权利要求4所述的真空吸附调平装置，其特征在于，所述调节机构包括外壳、调节柱、旋转球、第一锁紧环和第二锁紧环，

所述调节柱的底端可在所述第一支撑件上沿所述调节柱轴向移动，并且所述调节柱与所述第一支撑件沿调节柱的轴向旋转连接，所述调节柱的顶端穿过所述外壳与所述旋转球固定，所述第二支撑件围绕所述旋转球多自由度活动连接，并且，所述第二支撑件与所述旋转球连接的部分包裹在所述外壳中；

所述第一锁紧环套在所述第二支撑件上，用于锁定所述第二支撑件；

所述第二锁紧环套在所述调节柱上，用于锁定所述调节柱。

6.根据权利要求5所述的真空吸附调平装置，其特征在于，所述第二支撑件包括平面块和台肩块，所述台肩块嵌套在所述外壳中，所述平面块与所述吸附装置固定连接，且所述台肩块设有圆形凹槽，所述旋转球与所述圆形凹槽内壁活动连接。

7.根据权利要求3-6任一项所述的真空吸附调平装置，其特征在于，所述调平机构包括至少3个所述调平支脚。

8.根据权利要求1所述的真空吸附调平装置，其特征在于，该装置还包括废料清理辅助结构，其包括：两块挡板和一块导料板；

两块所述挡板垂直设置在所述吸附板的两侧；

所述导料板设置在所述吸附板上，且所述导料板垂直于所述挡板与所述吸附板的交线。

9.根据权利要求1所述的真空吸附调平装置，其特征在于，该装置还包括转向机构，其包括底板、驱动机构、第一限位块和第二限位块，

所述驱动机构、第一限位块和第二限位块均固定在所述底板上，且所述第一限位块、第二限位块靠近所述驱动机构；所述驱动机构还与所述调平机构固定；

所述驱动机构用于驱动所述调平机构以及所述吸附装置旋转，以调节所述吸附装置的下料方向；

所述驱动机构交替地被所述第一限位块或者所述第二限位块阻挡旋转，所述驱动机构的每次旋转的角度与所述第一限位块和第二限位块以所述驱动机构为中心形成的夹角的角度一致。

10.根据权利要求9所述的真空吸附调平装置，其特征在于，所述转向机构还包括多个气浮轴承，所述气浮轴承固定在所述底板上，所述气浮轴承用于从所述调平机构底端吹气间接限制所述吸附板随着所述驱动机构旋转时其表面跳动过大。