CN209032542U - 皮肤处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种用于通过研磨处理从皮肤上去除胼胝的皮肤处理装置，该皮肤处理装置包括具有手柄部分(110)的壳体、能够围绕旋转轴线(101)旋转的皮肤处理元件(120)、以及保护缘(130)。所述保护缘围绕所述旋转轴线在超过120°且小于330°的角度范围内周向地部分地包围所述皮肤处理元件，使得在30°至240°的角度范围内延伸的区域中，周向研磨处理表面从保护缘突出。本实用新型的皮肤处理装置能够精确处理皮肤并且能够实现高效率地去除胼胝。

Description

皮肤处理装置

技术领域

本实用新型涉及用于通过研磨处理从皮肤上去除胼胝(callus)的皮肤处理设备。

背景技术

通常可以使用适当的手动工具(如锉刀、浮石和乳膏)手动从皮肤去除胼胝。从皮肤上去除胼胝的更有效和省时的方法是使用具有研磨表面的电驱动装置，该研磨表面被驱动为相对于皮肤运动。胼胝可以通过这样的装置被磨掉。主要地，这样的装置构造成使得具有研磨周向表面的滚动件被驱动为围绕轴线旋转并被安装到在垂直于轴线的方向上延伸的手柄。滚动件可以被引导越过皮肤，其中滚动件的旋转轴线平行于皮肤表面。这样，滚动件的周向表面研磨并磨掉胼胝。

根据这样的胼胝去除装置的另一设置，研磨表面设置在由马达驱动旋转的盘的轴向表面上。盘的轴向表面可以是平面的并且能够与皮肤接触以产生研磨和磨损效果。在该构造中，在装置的使用期间，旋转轴线垂直于皮肤表面。

多种问题与这种胼胝去除装置有关。发现具有周向研磨表面的滚动件的构造产生显著的局部磨损，但难以处理和控制为使得在较大面积的皮肤上获得恒定的磨损。具有盘形研磨元件的装置难以控制，因为在盘以略微有角度的方位与皮肤接触的情况下，即，旋转轴线不完全垂直于皮肤表面的情况下，扭转力将通过旋转的研磨表面的这种局部接触而产生，这迫使该装置移动越过皮肤移出装置最初定位的区域。在这种情况下，用户难以控制装置并精确地保持其位置。

US2014/0305458A1和WO2006/002489A1公开了这样的工具，其使用具有轴向研磨表面的旋转盘来执行对皮肤的研磨处理。这些装置包括壳体，壳体具有包围所述盘的缘，使得所述盘的整个外周被该缘覆盖。以这种方式，减小了盘表面在皮肤上的有角度(即非平面)定位的效果，从而显著减少了影响盘在皮肤上的运动的不期望的扭转力的发生。然而，发现这些装置中显示的这种设置降低了胼胝的去除效率。效率被理解为由在一段时间内去除的胼胝的体积或质量来定义。另外，利用这样的构造，小皮肤区域的精确处理是不可能的。

WO2015/082995A1公开了一种美容装置，其包括壳体和滚筒组件，滚筒组件具有可旋转地联接到壳体的研磨外周表面。在一个实施例中，屏蔽件或防护件可以联接到壳体并围绕滚筒组件的一部分延伸。公开了滚筒组件的各种实施例，包括：在滚筒组件的一端上包括另外的平坦或盘形研磨部分的滚筒组件。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种克服了上述问题并且能够精确处理皮肤的胼胝去除装置。

根据本实用新型，该问题通过一种皮肤处理装置而解决，该皮肤处理装置包括：具有手柄部分的壳体；能够围绕旋转轴线旋转的皮肤处理元件；固定布置在所述壳体处并具有轴向皮肤接触表面的保护缘，轴向皮肤接触表面构造和布置成在使用期间支撑用户的皮肤，其中所述皮肤处理元件能够相对于所述保护缘旋转；以及驱动机构，其用于驱动所述皮肤处理元件围绕所述旋转轴线进行旋转运动，其中所述皮肤处理元件具有轴向研磨处理表面，该轴向研磨处理表面能够通过保护缘的轴向开口接近以用于皮肤处理，其中所述轴向开口围绕所述旋转轴线在360°的角度范围内延伸，其中所述皮肤处理元件还具有周向研磨处理表面，所述周向研磨处理表面具有至少部分径向定向，其中所述保护缘围绕所述旋转轴线在超过120°且小于330°的角度范围内周向地部分地包围所述皮肤处理元件，使得所述周向研磨处理表面围绕所述旋转轴线在30°至240°的角度范围内延伸的区域中是可接近的，以用于皮肤处理。

根据本实用新型的皮肤处理装置包括具有轴向研磨处理表面和周向研磨处理表面的皮肤处理元件。轴向研磨处理表面被理解为大致垂直于轴向方向定向的处理表面，如旋转盘的前侧，或者至少包括具有这种定向的表面部分。周向研磨处理表面被理解为定向为使得与该表面正交的矢量具有与径向方向平行的分量，如旋转盘的外围边缘表面。轴向方向被理解为平行于旋转轴线，而径向方向被理解为正交于旋转轴线。轴向研磨处理表面可以具有平的或弯曲的形状，如凹形或凸形。周向研磨处理表面可以具有圆柱形或圆锥形形状，或者在沿着旋转轴线的纵向截面中可以具有弯曲的截面形状，具有凹形或凸形的曲率。

应该理解的是，周向研磨处理表面和轴向研磨处理表面优选彼此相邻，以形成可以是锐边、倒角或倒圆的圆形缘。

皮肤处理元件通过驱动机构被驱动成围绕所述旋转轴线进行旋转运动。这种旋转运动被理解为是围绕旋转轴线在一个方向上的恒定旋转，其中旋转方向可以由装置的用户选择。旋转运动也可以替代地是振荡的旋转运动，其中旋转方向频繁变化。皮肤处理装置可以构造成使得用户可以通过结合在装置中的控制单元的用户接口来选择恒定的旋转运动或振荡的旋转运动。

皮肤处理装置还包括驱动机构。应当理解，这样的驱动机构可以包括结合到壳体中的马达，但是可替代地，马达可以布置成与壳体相距一定距离并且经由像柔性轴那样的机械联接件联接到皮肤处理元件。优选地，驱动机构包括电动马达。还应当理解的是，电能源(如可更换的或可再充电的电池)可以被包括在该装置的壳体中以向所述电动马达提供能量。

在皮肤处理装置的壳体处设布置有保护缘。保护缘可以与壳体成一体或者可以是安装至壳体的单独元件。保护缘可以可释放地固定至壳体，以允许保护缘的更换或替换。保护缘并不沿其周向研磨处理表面完全包围皮肤处理元件，而是仅围绕旋转轴线部分地环绕皮肤处理元件120°至330°的角度。结果，皮肤处理元件在围绕旋转轴线至少30°至240°的角度范围内没有被保护缘径向覆盖。关于保护缘所使用的术语“部分地包围特定的角度范围”和“部分地环绕特定的角度范围”应理解为涵盖贯穿所述特定角度的整个角度范围的连续的包围和环绕以及不连续的包围和环绕，其中保护缘可以包括在所述特定角度范围内的开口，或者其中保护缘具有布置在所述特定角度范围内并且被开口分开的多个单独的缘段。

保护缘具有轴向皮肤接触表面，该轴向皮肤接触表面被构造和布置成在使用皮肤处理装置期间支撑用户的皮肤。类似于皮肤处理元件的轴向研磨处理表面，轴向皮肤接触表面被理解为大致垂直于轴向方向定向的皮肤接触表面，或者至少包括具有这种定向的表面部分，其中轴向方向被理解为平行于旋转轴线。

发现保护缘的这种特定设计防止了由旋转的皮肤处理元件引起的显著的扭转力，即使轴向研磨处理表面以角度方位被抵靠皮肤表面定位也是如此。这通过防止皮肤处理元件以这样的角度方位与皮肤接触并且防止皮肤处理元件的拐角区域接触皮肤而实现。此外，保护缘有助于轴向研磨处理表面的平面定位，因为其用作皮肤上的支撑。根据本实用新型的皮肤处理装置提供了这样一种皮肤处理元件：该皮肤处理元件可以从保护缘径向地突出，使得周向研磨处理表面和轴向研磨处理表面两者都可以用于小的皮肤区域在该突出部分中的精确处理。以这种方式，皮肤处理装置为处理大的皮肤区域提供了改进的操作、控制和效率，但是同时提供了对小的皮肤区域或难以到达的任何皮肤区域的改进的精确处理。

因此，尽管周向研磨处理表面只能通过保护缘上的有限的角度范围的周向开口被接触到，但轴向研磨处理表面能够通过保护缘的围绕旋转轴线在360°的完整角度范围内延伸的开口被接触到。特别地，保护缘可以具有轴向开口，轴向研磨处理表面能够通过该轴向开口被接近，其中所述轴向开口与轴向处理表面一样大。

应当理解的是，缘围绕旋转轴线环绕皮肤处理元件的角度的下限可以选自135°、160°、180°或225°，而上限可以选自180°、225°、275°和300°，其中皮肤处理元件的截面的对应范围不被径向覆盖。

通常，与皮肤处理元件的研磨处理表面相比，保护缘具有相当光滑的皮肤接触表面，以便在皮肤处理过程中促进皮肤处理装置滑过皮肤表面。

根据第一优选实施例，所述皮肤处理元件的位置和所述保护缘的位置被设置成在平行于所述旋转轴线的轴向方向上相对于彼此的轴向调整，使得轴向研磨处理表面相对于保护缘的位置可以在所述轴向方向上改变。该实施例允许相对于皮肤处理元件的位置轴向调整保护缘的位置。通常，这可以通过如下方式来实现：将保护缘安装成使得其可以相对于壳体在平行于旋转轴线的轴向方向上移动，同时将皮肤处理元件安装在壳体处的固定的轴向位置，或者反之亦然，使得皮肤处理元件能够执行相对于壳体的轴向运动，同时将保护缘安装在壳体处的固定的轴向位置中。可替代地，保护缘和皮肤处理元件都能够进行相对于壳体的轴向运动。在许多应用中，优选的是，皮肤处理元件的轴向研磨处理表面与保护缘的轴向皮肤接触表面齐平，使得当将皮肤处理元件的轴向研磨处理表面定位在平坦表面上时，保护缘与所述平坦表面接触。然而，在一些应用中，皮肤处理元件的轴向研磨处理表面相对于保护缘的突出位置是优选的，而在其他具体应用中，轴向研磨处理表面相对于保护缘的凹入位置是优选的。例如，轴向研磨处理表面的突出位置将产生更高的研磨速率，因此可以提供胼胝材料的消融速率的改善的效率，同时增加当轴向研磨处理表面处于与皮肤的角度位置时发生扭转力的趋势。反之亦然，轴向研磨处理表面的凹进位置将便于处理并且更好地防止发生任何扭转力，但是同时将降低消融速率。该优选实施例可以进一步改进在于，所述轴向调整通过从待安装到所述壳体的多个不同的、可互换的保护缘中选择保护缘来提供，其中所述可互换的保护缘具有平行于所述旋转轴线的相互不同的高度，和/或所述轴向调整通过从待安装到所述壳体的多个不同的、可互换的皮肤处理元件中选择皮肤处理元件来提供，其中所述可互换的皮肤处理元件具有平行于所述旋转轴线的相互不同的高度。根据该实施例，根据本实用新型的皮肤处理装置包括至少两个不同的保护缘或至少两个不同的皮肤处理元件，其中一个被安装到壳体并且可以与另一个交换。例如，可以包括用于轴向研磨处理表面和保护缘的齐平布置的常规保护缘，并且还可以包括用于轴向研磨处理表面的突出布置的较低保护缘以及用于轴向研磨处理表面的凹进布置的较高保护缘。根据该实施例，保护缘经由可释放的联接(例如，螺纹联接、卡扣连接或通过位于保护缘处的弹性可移动形状锁定构件与壳体处的形状锁定配对件的接合所实现的任何类型的形状锁定联接)安装至壳体。另外地或可替代地，可以提供具有粗磨粒粒度的第一皮肤处理元件和具有细磨粒粒度的第二皮肤处理元件，其中第一皮肤处理元件具有比第二皮肤处理元件低的高度，使得第一皮肤处理元件与具有细磨粒粒度的第二皮肤处理元件相比在保护缘中略微更凹入。

可以理解的是，除了这些不同高度的保护缘之外，还可以包括可以安装到皮肤处理装置上的保护缘的另外不同的设计。作为示例，可以提供具有两个有角度的间隙的保护缘，其中在所述间隙中，没有保护缘包围皮肤处理元件。这两个有角度的间隙可以优选地彼此相对地布置，或者可以被定位成提供围绕旋转轴线的旋转对称性。

此外，优选实施例可以附加地或替代地进一步改进在于，所述轴向调整由所述皮肤处理元件提供或所述保护缘能够平行于所述旋转轴线移动来提供。如上所述，可以提供所述运动中的任一个或两个，以允许皮肤处理元件和保护缘相对于彼此的所述轴向调整。沿着旋转轴线的运动可以例如提供为沿着旋转轴线的线性平移或沿着卷绕的螺旋式平移。此外，可以提供锁定装置，以将皮肤处理元件对保护缘的位置相对于彼此锁定在特定的轴向位置。

根据另一个优选实施例，所述保护缘包括周向内边缘，其中所述周向内边缘部分地围绕所述皮肤处理元件，并且在所述轴向研磨处理表面上方突出或与所述轴向研磨处理表面齐平，使得沿着所述轴向研磨皮肤处理表面径向向外抛出的颗粒被所述内边缘收集并被引导到颗粒收集空间中。一般而言，发明人观察到当通过研磨作用去除胼胝时，经常出现恶臭气味。发明人发现，如果将通过胼胝的研磨去除而产生的颗粒收集在收集空间中，而不是允许将这些磨去的颗粒从装置中丢弃，则可以显著降低这种恶臭气味。根据该实施例，保护缘提供了另外的功能，即保护缘进一步用作捕获被磨去的颗粒的捕获环。通过用离心力使颗粒沿径向/切线方向快速旋转离开皮肤处理元件然后撞击周向内边缘以使得颗粒被收集在所述内边缘处或者所述内边缘引导颗粒到达颗粒收集空间，实现了该捕获功能。应当理解的是，周向内边缘可以仅仅在轴向研磨处理表面上方突出一小段距离，该距离在仅几毫米或甚至小于1毫米的范围内。通常，即使提供了内边缘的这种小的突出距离，从轴向研磨处理表面径向抛出的小颗粒也将通常被收集在一起。内边缘可以被形成为使得颗粒被内边缘直接引导到收集空间中，但是颗粒向收集空间的输送可以通过其他手段、例如通过由轴向研磨处理表面或单独的风扇或鼓风机部件产生的气流来支持。发明人发现，通过收集颗粒，可以显著降低恶臭气味，因为这些颗粒被鉴定为产生了恶臭气味。此外，包括周向内边缘的实施例改进了装置的卫生性能，因为没有颗粒、灰尘等被抛出装置外，或者这样的颗粒和灰尘的释放至少被显著减少。

该实施例可以通过用于将收集在所述收集空间中的颗粒输送到收集箱的输送装置而进一步改进。通常，由内边缘捕获的颗粒可以仅收集在通常靠近或邻近内边缘布置的收集空间中。然而，这可能需要频繁清洁收集空间以去除其中积聚的颗粒。根据该优选实施例，颗粒从收集空间被输送到收集箱中，收集箱可以具有足够的容量以避免频繁清洁的需要。

尽管这种输送装置可以是具有单独的驱动机构的单独的单元，但是特别优选的是，所述输送装置被构造为由所述驱动机构驱动的风扇。根据这种改进，输送装置由驱动皮肤处理元件的驱动机构驱动，因此避免了对第二独立驱动装置的需要。风扇优选地提供径向-轴向输送动作以从收集空间收集颗粒并且将这些颗粒沿轴向方向输送到收集箱。可替代地，可以设置风扇或固定引导元件处的引导元件，以便为颗粒创建从收集空间到收集箱的任何特定的输送路径。应当理解的是，实施为风扇的输送装置可以特别地支持通过所述内边缘在收集空间中收集颗粒，因为通过所述风扇在内边缘与皮肤处理元件之间的间隙中产生了抽吸作用。

进一步优选的是，所述输送装置围绕所述旋转轴线可旋转地安装并且与所述皮肤处理元件同步地被驱动。根据该实施例，输送装置与所述皮肤处理元件同轴地安装，并且因此可以优选地从轴向研磨处理表面观察时被安装在皮肤处理元件的后面，由此允许皮肤处理装置在处理元件部分的简单而鲁棒的设计。

根据另一个优选的实施例，所述皮肤处理元件在周向研磨处理表面可以被接近以用于皮肤处理的所述区域中从壳体径向向外突出。通过皮肤处理元件的这种径向突出，皮肤处理装置特别适于皮肤的精确处理，从而允许处理难以接近或在处理时需要特别注意的小的皮肤区域。皮肤处理元件的突出可以允许在该突出部分中通过轴向研磨处理表面和/或通过周向研磨处理表面处理皮肤。

根据另一优选实施例，所述皮肤处理元件是盘形研磨工具，其在抵接轴向表面上具有形成轴向研磨处理表面的研磨处理表面，并具有形成周向研磨处理表面的研磨周缘表面。该实施例允许皮肤处理元件的交换，以允许皮肤处理装置的附加功能性。为此，皮肤处理元件可以以可释放的互锁动作安装到联接到驱动机构的轴上，使得可以替代性地安装两个或更多个不同的皮肤处理元件，或者允许更换已经失去其研磨功能、已经磨损或由于其他原因而不能使用的皮肤处理元件。应当理解的是，对于所述盘形研磨工具，所述轴向研磨处理表面和所述周向研磨处理表面可以彼此相邻，从而形成可以是锐边、倒角或倒圆的圆形拐角区域。此外，应当理解，周向研磨处理表面可以相对于轴向研磨处理表面成90°或大于90°的角度布置，使得周向研磨处理表面沿径向-轴向方向定向。皮肤处理元件可以例如由刷型工具更换，其中应当理解，刷型工具可以仅包括在轴向处理表面上的刷子，或者可以附加地或仅包括在周向处理表面上的刷子，例如以允许较大区域的处理和小的皮肤区域的精确处理。

根据另一个优选实施例：

所述手柄部分沿手柄轴线延伸，并且所述旋转轴线相对于所述手柄轴线以大于20°且小于90°的角度定向，其中下限优选地选自31°、41°和51°，并且上限优选地选自49°、59°和79°；并且

所述皮肤处理元件是盘形的，具有在轴向研磨处理表面和周向研磨处理表面之间的边缘，其边缘半径大于0.3mm且小于10mm，其中下限优选地选自1.1mm、2.1mm和2.5mm，并且上限优选地选自2.1mm、5.1mm和7.5mm；并且

所述皮肤处理元件是具有大于25mm且小于55mm的圆盘直径的盘形，其中下限优选地选自31mm和36mm，并且上限优选地选自29mm、39mm和44mm；并且

所述驱动机构适于将所述皮肤处理元件的旋转速度控制在大于200rpm且小于1000rpm，其中下限优选地选自410rpm和610rpm，并且上限优选地选自690rpm和890rpm；并且

所述轴向研磨处理表面和所述周向研磨处理表面被构造为形成具有根据ANSI定义的细于80且粗于200的磨粒粒度的研磨表面，其中下限优选地选自105、115和125，并且上限优选地选自135、155和185。

根据该优选实施例，手柄部分相对于旋转轴线在特定的角度范围内定向。皮肤处理元件相对于手柄的这种角度设计被发现有助于和改善皮肤处理装置的操作，使得用户可以更好地控制处理并且使用皮肤处理装置进行精确的处理。应该理解的是，可以提供固定的角度，但是可替代地，该装置可以适于允许用户在所述范围内调整所述角度，以配置该装置用于处理不同的皮肤区域。另外，根据该优选实施例，盘形皮肤处理元件的边缘半径、皮肤处理元件的圆盘直径、皮肤处理元件的转速以及皮肤处理元件的研磨表面的磨粒粒度各自从由发明人鉴定为显著改善了皮肤处理装置的操作和功能性的特定参数值范围中选择。特别地，发现这些参数提供了执行胼胝的有效研磨、进行精确处理以及在轴向研磨处理表面以一定角度定位到皮肤上的情况下防止发生扭转力的能力的最佳折衷。具体而言，发明人发现，手柄轴线和旋转轴线之间的太小的角度、盘的太高的旋转速度、太大的盘直径以及太小的磨粒粒度即太粗糙的研磨处理表面将妨碍该装置的控制和操作，因为装置不能被精确地定位在特定的皮肤区域中，并且趋向于产生不能被抵消和被用户很好地控制的扭转力。另一方面，手柄轴线与旋转轴线之间的太大的角度、太低的盘转速、太小的圆盘直径以及太大的磨粒粒度将会削弱去除胼胝的效率。此外，如果选择手柄轴线相对于旋转轴线的较大角度，则将难以使用盘的轴向研磨处理表面。相当小的圆盘直径将不允许处理大的皮肤表面以用于胼胝的高效去除。关于磨粒粒度的定义，应当理解，根据这里应用的ANSI定义，磨粒粒度应该细于或者等于100，并且应该粗于或等于140。通常，该ANSI定义通常用于砂纸或者任何其他具有未定义的切削刃的研磨表面的表征。

应当理解，根据优选实施例，可以提供磨粒粒度与转速范围之间的特定关系作为附加功能性。例如，皮肤处理元件的具体磨粒粒度可以由结合在该装置中的识别单元(例如设置在皮肤处理元件处的代码等)检测或识别。在这种识别的情况下，旋转速度可以根据磨粒粒度调整到预定值，或者可以限制在最适合磨粒粒度的预定范围。通常，与较高的磨粒粒度相比，较小的磨粒粒度可能需要更小的旋转速度。

根据另一优选实施例，皮肤处理装置可以包括保护缘元件，所述保护缘元件适于分别围绕所述旋转轴线在大于30°且小于240°的角度范围内周向地包围所述皮肤处理元件，以与所述保护缘协作，从而完全包围所述皮肤处理元件，其中所述保护缘元件从第一位置切换到第二位置，在第一位置，所述皮肤处理元件沿其周边由所述保护缘部分地包围，而在第二位置，所述皮肤处理元件沿其周边由所述保护缘和所述保护缘元件完全包围。根据该实施例，围绕旋转轴线保护缘的30°至240°的角度间隙可以通过能够安装至壳体或保护缘的单独的保护缘元件来封闭。结果，皮肤处理元件可以被由保护缘和保护缘元件组成的保护缘完全包围。尽管这样的构造可能不允许精确处理，但是对于处理较大的皮肤区域将是有用的，并且将有助于进一步减小当将装置以角位移定位在皮肤上时由于扭转力而导致的在皮肤上的平移运动的趋势。

应当理解的是，保护缘元件可以从第一位置切换到第二位置，其中，在所述第一位置中，皮肤处理元件不完全被保护缘元件包围，而是仅仅为了允许使用皮肤处理元件的没有被保护缘包围的该部分进行精确处理。在第二位置，保护缘元件封闭角度间隙，使得皮肤处理元件被保护缘和保护缘元件沿其周边完全环绕。在该第二位置中，保护缘元件优选与保护缘齐平，以提供与皮肤齐平的接触表面。

通常，优选的是，从所述第一位置到所述第二位置的所述切换或从所述第二位置到所述第一位置的切换由可释放地安装到所述壳体或可相对于所述壳体移动的所述保护缘元件来提供。根据该实施例，保护缘元件可以从第一位置滑动或以其他方式移动到第二位置，反之亦然，并且在第一位置和第二位置都将保持安装到皮肤处理装置。可替代地，皮肤处理元件可以可释放地安装到皮肤处理装置以处于第二位置，并且可以从皮肤处理装置拆卸以处于第一位置。

根据又一个优选实施例，所述保护缘能够在平行于所述旋转轴线的方向上移动，并被朝向外位置偏置，其中所述保护缘沿着所述旋转轴线在所述皮肤处理元件上方轴向突出。根据该实施例，保护缘相对于皮肤处理元件并非刚性地安装到壳体上，而是以如下方式安装，即：使得通过所述保护缘能够执行沿着旋转轴线的有限的轴向运动。应当理解的是，在提供保护性元件的情况下，该保护性元件可以与保护缘同步地在有限范围内执行相同的轴向运动。

沿旋转轴线在有限范围内移动的能力使得能够进一步改进装置的操作，因为用户可以通过增加或减小皮肤处理装置在皮肤上的接触力来控制装置的消融速率。保护缘被朝向外的位置偏置，该位置被理解为保护缘可以在轴向研磨处理表面上方突出或可以与轴向研磨处理表面齐平的位置。如果用户将皮肤处理装置施加到皮肤上，则抵抗该偏置力将保护缘向内按压，使得皮肤处理元件将与皮肤紧密接触以执行研磨功能。这种研磨功能将通过增加接触力并因此更加向内推动保护缘而增加。同时，如果接触力增大，则保护缘可能部分地失去其施加增加的控制的功能，因为轴向研磨处理表面将相对于保护缘越来越突出。由此，用户可以通过控制装置与皮肤之间的接触力来平衡装置研磨的可控性和效率的折衷。

应当理解的是，保护缘的偏置力可以由弹簧元件或任何其他可弹性变形的元件提供。此外，保护缘本身可以由可弹性变形的材料制成。

根据又一个优选实施例，所述保护缘包括多个相对于彼此可移动的缘段。相对于彼此可移动的这种多个缘段将允许通过使所述缘段中的一个或多个相对于一个或多个其他缘段或单个剩余的缘段移动来调整保护缘的角度或径向延伸。缘段的这种移动可以在轴向、径向或轴向-径向方向上。特别地，这些段可以相对于彼此移动，使得单个或多个缘段被移除或附接以形成保护缘的一部分。根据实施例的这种变型，缘段可释放地附接到皮肤处理装置的壳体，以允许这种选择性的移除和附接。该实施例特别地允许使保护缘适于在较小或较大的角度范围内延伸，但是将进一步允许修改保护缘，使得其包括两个、三个或更多个彼此分开间隙的保护缘区域，其中所述间隙可以具有取决于在缘区域之间移动或移除的缘段的尺寸或数量的角度延伸。特别地，缘段可以通过可释放的形状锁定相互作用附接到壳体。

附图说明

在以下附图中：

图1a示意性地示出了处于直立和倾斜方位的皮肤处理装置的侧视图；

图1b示意性地示出了图1a的盘形皮肤处理元件的俯视图中的反作用力；

图2示出了根据本实用新型的皮肤处理装置的第一实施例的侧视图；

图3示出了图2所示装置的局部斜上方观察立体图；

图4示出了图2的装置的局部俯视立体图；

图5示出了图2的装置的局部侧视立体图；

图6示出了根据图3的视图，其中皮肤处理元件被移除；

图7a-7c示出了根据图5的立体图，描绘了皮肤处理元件相对于保护缘的三种不同的调整；

图8示出了本实用新型的第二实施例的局部侧视立体图；

图9a-9c示出了本实用新型的第三实施例的局部斜上方观察立体图；

图10a、10b示出了本实用新型的第四实施例的局部斜上方观察立体图，描绘了两种不同的调整；

图11示意性地示出了本实用新型的第五实施例的截面图；

图12a-12c示出了本实用新型的第六实施例的立体图，描绘了三种不同的构造。

具体实施方式

在图1a和1b中示出了与采用盘形旋转皮肤处理元件的胼胝去除装置相关的典型问题。如图所示，皮肤处理装置通常包括手柄10和安装在所述手柄上以围绕旋转轴线1旋转的盘形处理元件20。如图1a所示，旋转轴线1可以相对于待处理的皮肤表面100上的垂直轴线稍微向左倾斜，或者可以如手柄10’、盘20’和旋转轴线1’所示地稍微向右倾斜。因此，由于只有角度α的小角度倾斜，所以轴向研磨处理表面21、21’将不再平行于皮肤表面100定向。轴向研磨处理表面21、21’之间的这种角度位移将分别产生扭转力TF或TF’，如图1b的示意性俯视图所示。然而，这样的扭转力将导致失去对装置精确定位的控制，并且可能产生在皮肤表面上的平移运动，这既不是期望的也不是能够由用户控制的。

通常，发现针对这种失去控制的原因一方面在于轴向研磨处理表面的仅仅一部分与皮肤之间的摩擦接合，以及另一方面在于在周向研磨处理表面22、22’、或在轴向研磨处理表面和周向研磨处理表面之间的拐角区域的有限角度范围内的局部接触。

图2示出了根据本实用新型的皮肤处理装置的第一实施例。皮肤处理装置通常包括结合有手柄部分110和处理头部分111的壳体。手柄部分110可以包括电动马达、与所述马达联接的用于能量供应的可再充电电池、用于对所述电池进行再充电的插座以及适于控制马达的用户接口。用户接口可以包括通断开关，并且还可以包括用于调节电动马达的参数(例如旋转速度、旋转方向、单向运动或振荡运动等)的控制装置。此外，可以结合有显示参数(如旋转速度、运动类型或电池电量)的显示器。

如在图2中可以看到的，处理头111在一端包括盘形的处理元件120。产生盘形处理元件的围绕旋转轴线101的旋转运动。可以看出，旋转轴线101相对于手柄部分110延伸的手柄轴线102处于成角度的方位。在图2所示的实施例中，旋转轴线101和手柄轴线102之间的角度β大约为75°。应当理解，该角度β可以优选地在40°至90°的范围内以允许对装置进行适当的控制。

如在图3至图5中更详细地示出的，盘形处理元件120包括轴向研磨处理表面121和周向研磨处理表面122。这两个研磨处理表面121、122之间的圆形拐角区域被倒圆以提供3mm的圆盘边缘半径。可以理解的是，圆盘边缘半径可以优选在1-5mm的范围内。盘形处理元件具有33mm的圆盘直径104，其中直径可以优选地选自30mm至36mm的范围。此外，根据ANSI定义，轴向研磨处理表面121、周向研磨处理表面122和圆形拐角区域123的表面磨粒粒度均为120，其中，磨粒粒度优选可以在100-140的范围内选择。周向研磨处理表面的磨粒粒度可以不同于轴向研磨处理表面的磨粒粒度。此外，圆形拐角区域的磨粒粒度可以不同于轴向研磨处理表面的磨粒粒度。

保护缘130在有限的角度范围105内周向地包围盘形处理元件。保护缘130具有与轴向研磨处理表面121齐平的轴向光滑皮肤接触表面131，如图5中可见详细看到的。保护缘130延伸约225°的角度β，其中角度β可以选自120°至330°的范围。

结果，周向研磨处理表面122和拐角区域123被保护缘覆盖大角度，并且只有其小的角度区域不被覆盖以能够在其中进行皮肤处理。在图4所示的实施例中，这个小的角度区域等于135°，但是可以在30°到240°的范围内。

保护缘被设计成处理头的壳体部分的整体部分。从图5中可以看出，盘从壳体部分111径向突出一定距离106，该距离106可以优选地选自4mm至6mm，以便利用盘形处理元件的突出部分进行充分的控制和精确处理。

图6示出了根据图3的处理头，其中盘形处理元件120被移除。可以看出，该装置中包括驱动机构，该驱动机构包括一个六边形横截面构件形式的形状锁定元件140，用于安装盘形处理元件。此外，可以看到两个抽吸通道150a、150b，其被设计成从盘形处理元件和缘130之间的间隙中去除磨掉的颗粒和灰尘。下文将详细解释这些通道的功能。

图7a-7c示出了结合在本实用新型第一实施例的处理头中的特定功能。可以看出，处理头的壳体部分111被分成两个单独的壳体元件111a、111b。保护缘130与壳体元件111a是一体的，而另一个壳体元件111b则安装在壳体的手柄部分110上。壳体部分111a和保护缘130被可释放地安装，使得可以安装如图7b所示的具有较低高度的不同保护缘130b来代替图7a的保护缘130。由此，保护缘130的皮肤接触表面131可被调整为与如图7a所示的轴向研磨处理表面121齐平，或者保护缘130b的皮肤接触表面131b可被调整为如图7b所示从轴向研磨处理表面121突出。换言之，如图7b所示，保护缘130和壳体部分111a可以与保护缘130b交换，使得轴向研磨处理表面121凹入在保护缘130b中。

此外，作为替代或附加的功能，保护缘130和壳体部分111a可以被保持，并且皮肤处理元件120可以稍微向外滑动，使得轴向研磨处理表面121从保护缘130突出，如图7c所示。通过保护缘130相对于皮肤处理元件的这种滑动运动，可以选择如图7a所示的常规位置、如图7b所示的用于增加控制的位置以及如图7c所示的用于提高消融速率的位置。

图8示出了本实用新型的第二实施例。在该第二实施例中，保护缘230通常以与第一实施例的保护缘130相同的方式被设计，但是被安装成能够如箭头207所示地沿着旋转轴线201滑动。因此，保护性边缘被实施为单个分开的部件，并且与处理头的壳体不是一体的。沿着旋转轴线201通过相应的直线轴承235a、235b引导保护缘，并且保护缘另外被弹簧偏置到图8中所描绘的突出位置。在该突出位置中，轴向研磨处理表面221稍微凹入到保护缘中并且定位在保护缘与皮肤的接触表面231下方。当使用图8所示的第二实施例时，用户将使保护缘与待处理的皮肤区域接触，并随后施加手动力以对保护缘的接触表面231和皮肤之间的接触区域施加压力。因此，保护缘将抵抗偏置力而稍微向内滑动，因此轴向研磨处理表面将与待处理的皮肤区域直接接触。用户可以控制将处理头施加到皮肤所用的压力，从而可以通过或多或少地迫使保护缘抵抗偏置力向内滑动来调节和平衡控制程度和消融速率。

图9a-9c示出了根据本实用新型的皮肤处理装置的第三实施例。可以看出，根据该第三实施例的皮肤处理装置构造成将不同的保护缘330a、330b安装到处理头。图9a示出了其中没有保护缘被安装到处理头311的构造，这导致突出的盘形处理元件320允许非常高效的消融速率，但是具有降低的控制速率。图9b示出了保护缘330a，其安装到处理头上并提供了如前面参照第一和第二实施例所描述的皮肤处理元件的局部周向包围。保护缘330a被设计成获得与皮肤接触的皮肤接触表面，该皮肤接触表面与轴向研磨处理表面齐平。

图9c示出了安装到处理头的不同的保护缘330b。可以看出，该保护缘330b包括第一缘部分331b和第二缘部分332b，第一缘部分331b和第二缘部分332b彼此相对设置并且因此提供了皮肤处理元件的两个未包围的角度区域333b、334b。第一未被包围的角度区域334b与参照第一和第二实施例所描述的未被包围的135°的角度区域相同。第二未被包围的角度区域333b与该第一角度区域相对并且延伸与第一角度区域大致相同的角度。

图10a、10b示出了本实用新型的第四实施例。根据该第四实施例的皮肤处理装置包括保护缘430，该保护缘430被设计成主要与图2至图6所示的第一实施例的保护缘130相同，其中在保护缘的设计成具有直的径向轮廓角端部430a、430b处做出一些设计变化，取代第一实施例的略微倒圆的径向-切向轮廓。第四实施例还包括保护性边缘元件460，该保护性边缘元件460被示出在两个位置中并且可以在图10a中所示的第一凹进位置和图10b中所示的第二齐平位置之间切换。保护缘元件460填充由保护缘430留下的角度间隙，并且因此当切换到图10b中所示的第二位置时，在360°的整周上提供了对盘形处理元件420的完全包围。因此，在该第二位置中，由保护缘元件460提供用于处理大表面的改进的控制。

为了切换到图10a所示的第一位置，保护缘元件沿着旋转轴线的方向滑动到凹进位置，使得皮肤处理元件420仅由保护缘430包围，并且因此从保护缘在135°的角度区域内突出。因此，在该第一位置中，构造与由第一实施例的保护缘130提供的构造大致相同，从而允许通过皮肤处理元件420的突出部分进行精确处理。特别地，在该第一位置中，周向研磨处理表面可以用于精确处理，而在图10b中所示的第二位置中，该周向研磨处理表面被保护缘430和保护缘元件460完全覆盖。

图11详细说明了根据本实用新型实施例提供的保护缘的附加功能。应当理解的是，该附加功能可以由上文所解释的全部四个实施例提供，即通过结合在这些实施例中的保护缘或保护缘元件来提供。

可以看出，保护缘形成为中空形状的壳元件，并且因此提供了内部空间570。保护缘530在轴向研磨处理表面521上方略微突出，使得沿径向/切线方向从轴向研磨处理表面抛出的任何灰尘或颗粒表面都进入保护缘的下方，并被保护缘的内表面532引导到周向灰尘收集空间533中，其中周向灰尘收集空间533是内部空间570的外部圆形区域。收集在灰尘收集空间533中的颗粒和灰尘随后可以经由通道550a、550b排出，其中可以理解的是，这些通道550a、550b对应于图6中所示的进入集成在皮肤处理装置中的集尘箱等中的通道150a、150b。

图12a示出了第六实施例的处理头的详细视图，该处理头具有围绕形状锁定构件640在局部角度范围内延伸的保护缘的特定设计，该形状锁定构件640适于附接皮肤处理元件。应当理解的是，该特定设计可以被结合在前面解释的所有五个实施例中。图12a所示的实施例包括由多个缘段630a-630k组成的保护缘630。在图12a所示的实施例中，总数为11个缘段形成延伸大约225°的角度范围并留下大约135°的敞开间隙的连续保护缘。与所述间隙相邻并定位在保护缘的相应端处的两个缘段630a、630k比其他缘段630b-630j稍长。

每个缘段均包括具有非圆形横截面的轴向延伸的销，所述销被插入设置在装置的壳体处的对应的开口631a-631k中。每个销都可释放地安装并且可以形状锁定在这种对应的开口中。由此，单个段或多个段可以相对于其他段移动并从壳体移除。

图12b示出了第二构造，其中缘段630a、630b和630j、630k被移除。结果，保护缘仅由缘段630c-630I组成，并且因此保护缘630的角度延伸在该第二构造中比在图12a中所示的第一构造中更小。

图12c示出了第三构造，其中缘段630b-630e和630g-630j被移除。结果，保护缘仅由边缘段630a、630h和630k构成，并且因此形成其间具有间隙的三个单个保护缘区域630’、630”和630”’。

通过研究附图、公开内容和所附权利要求，本领域技术人员在实践所要求保护的本实用新型时可以理解和实现所公开实施例的其他变型。

在权利要求中，词语“包括”不排除其他元件或步骤，并且不定冠词“一”或“一个”不排除多个。

权利要求中的任何参考符号都不应被解释为对范围进行限制。

Claims (15)

1.一种皮肤处理装置，包括：

-具有手柄部分(110)的壳体；

-能够围绕旋转轴线旋转的皮肤处理元件；

-固定布置在所述壳体处并具有轴向皮肤接触表面(131)的保护缘，所述轴向皮肤接触表面(131)被构造和布置成在使用期间支撑用户的皮肤，其中所述皮肤处理元件能够相对于所述保护缘旋转；以及

-驱动机构(140)，所述驱动机构(140)用于驱动所述皮肤处理元件围绕所述旋转轴线进行旋转运动，其中所述皮肤处理元件具有轴向研磨处理表面，所述轴向研磨处理表面能够通过所述保护缘的轴向开口接近以用于皮肤处理，其中所述轴向开口围绕所述旋转轴线在360°的角度范围内延伸，

其特征在于，所述皮肤处理元件还具有周向研磨处理表面(122)，所述周向研磨处理表面(122)具有至少部分径向定向，其中所述保护缘围绕所述旋转轴线在超过120°且小于330°的角度范围内周向地部分地包围所述皮肤处理元件，使得所述周向研磨处理表面围绕所述旋转轴线在30°至240°的角度范围内延伸的区域中是能够接近的，以用于皮肤处理。

2.根据权利要求1所述的皮肤处理装置，其特征在于，所述皮肤处理元件的位置和所述保护缘的位置被设置成相对于彼此在平行于所述旋转轴线的轴向方向上轴向调整，使得所述轴向研磨处理表面相对于所述保护缘的位置能够在所述轴向方向上变化。

3.根据权利要求2所述的皮肤处理装置，其特征在于，所述轴向调整通过所述皮肤处理元件或所述保护缘能够至少以平行于所述旋转轴线的运动分量运动而提供。

4.根据权利要求2所述的皮肤处理装置，其特征在于，所述轴向调整通过如下方式提供：

-所述保护缘选自待安装到所述壳体的多个不同的、可互换的保护缘，其中所述可互换的保护缘具有平行于所述旋转轴线的相互不同的高度；和/或

-所述皮肤处理元件选自待安装到所述壳体的多个不同的、可互换的皮肤处理元件，其中所述可互换的皮肤处理元件具有平行于所述旋转轴线的相互不同的高度。

5.根据权利要求1所述的皮肤处理装置，其特征在于，所述保护缘包括周向内边缘(532)，其中所述周向内边缘部分地围绕所述皮肤处理元件，并且在所述轴向研磨处理表面上方突出或与所述轴向研磨处理表面齐平，使得沿着所述轴向研磨处理表面径向向外抛出的颗粒被所述内边缘收集并被引导到颗粒收集空间(570)中。

6.根据权利要求5所述的皮肤处理装置，其特征在于，还包括用于将收集在所述收集空间(570)中的颗粒输送到收集箱的输送装置。

7.根据权利要求6所述的皮肤处理装置，其特征在于，所述输送装置被实施为由所述驱动机构(140)驱动的风扇。

8.根据权利要求7所述的皮肤处理装置，其特征在于，所述输送装置围绕所述旋转轴线可旋转地安装并且与所述皮肤处理元件同步地被驱动。

9.根据权利要求1所述的皮肤处理装置，其特征在于，所述皮肤处理元件在所述周向研磨处理表面(122)能够被接近以用于皮肤处理的所述区域中从所述壳体径向向外突出。

10.根据权利要求1所述的皮肤处理装置，其特征在于，所述皮肤处理元件是盘形研磨工具，所述盘形研磨工具在抵接轴向表面上具有形成所述轴向研磨处理表面的研磨处理表面，并且所述盘形研磨工具具有形成所述周向研磨处理表面(122)的研磨周缘表面。

11.根据权利要求1所述的皮肤处理装置，其特征在于：

-所述手柄部分(110)沿手柄轴线(102)延伸，并且所述旋转轴线相对于所述手柄轴线以在20°至90°的范围内选择的角度(β)定向；并且

-所述皮肤处理元件是盘形的，具有在所述轴向研磨处理表面和所述周向研磨处理表面(122)之间的边缘(123)，其中边缘半径(103)在0.3mm至10mm的范围内选择；并且

-所述皮肤处理元件是具有在25mm至55mm的范围内选择的盘直径(104)的盘形；并且

-所述驱动机构(140)适于将所述皮肤处理元件的旋转速度控制在200rpm至1000rpm的范围内；并且

-所述轴向研磨处理表面和所述周向研磨处理表面各自被构造为形成具有根据ANSI定义的在80至200的范围内选择的磨粒粒度的研磨表面。

12.根据权利要求1所述的皮肤处理装置，其特征在于，还包括保护缘元件(460)，所述保护缘元件(460)适于分别围绕所述旋转轴线在大于30°且小于240°的角度范围内周向地包围所述皮肤处理元件，以与所述保护缘协作，从而完全包围所述皮肤处理元件，其中所述保护缘元件能从第一位置切换到第二位置，在所述第一位置，所述皮肤处理元件沿其周边由所述保护缘部分地包围，在所述第二位置，所述皮肤处理元件沿其周边由所述保护缘和所述保护缘元件完全包围。

13.根据权利要求12所述的皮肤处理装置，其特征在于，从所述第一位置到所述第二位置的所述切换或从所述第二位置到所述第一位置的切换由可释放地安装到所述壳体或能够相对于所述壳体移动的所述保护缘元件(460)来提供。

14.根据权利要求1所述的皮肤处理装置，其特征在于，所述保护缘能够在平行于所述旋转轴线的方向上移动，并被朝向外位置偏置，其中所述保护缘沿着所述旋转轴线在所述皮肤处理元件上方轴向突出。

15.根据权利要求1所述的皮肤处理装置，其特征在于，所述保护缘包括多个能够相对于彼此移动的缘段(630a-630k)。