CN208271833U - 基板处理装置 - Google Patents

Abstract

一种基板处理装置，包含容器、多个基板处理室，及输送总成。容器用以供应流体。基板处理室用以对基板进行处理制程。输送总成包括输送管路单元、流体驱动单元，及侦测单元。输送管路单元连通于容器与所述基板处理室之间。流体驱动单元设置于输送管路单元用以驱动流体流动至所述基板处理室。侦测单元设置于输送管路单元并与流体驱动单元电连接。侦测单元用以侦测流体并产生侦测讯号，侦测单元根据侦测讯号控制流体驱动单元的转速，使输送管路单元将流体输出至所述基板处理室的状态维持稳定。

Description

基板处理装置

技术领域

本实用新型涉及一种基板处理装置，特别是涉及一种用以提供流体并对基板进行湿式处理制程的基板处理装置。

背景技术

现有基板处理装置的一主管路一端连通于一容器，容器用以供应例如处理液的流体。主管路末端与多条支管路的一端相连通，各支管路另一端与一处理室相连通。通过一设置于主管路上的泵运转，使得容器所储存的流体能经由主管路及支管路流动到处理室内，以对处理室内的基板进行湿式处理制程。

每条支管路上皆设置有一用以控制支管路流通或阻断的开关。当基板处理装置在运作过程中有任一个开关进行开启或关闭的操作来控制支管路的流通或阻断时，会影响主管路内的流体流到其他支管路内的流量及压力，使其他支管路内的流量及压力产生变化，进而造成流体输出至处理室时的流量及压力不稳定。

发明内容

因此，本实用新型的一目的，在于提供一种能够克服背景技术的至少一个缺点的基板处理装置。

本实用新型的目的及解决背景技术问题是采用以下技术方案来实现的，依据本实用新型提出的基板处理装置包含容器、多个基板处理室，及输送总成，所述容器用以供应流体，所述基板处理室用以对基板进行处理制程，所述输送总成包括输送管路单元、流体驱动单元，及侦测单元，所述输送管路单元连通于所述容器与所述基板处理室之间，所述流体驱动单元设置于所述输送管路单元用以驱动所述流体流动至所述基板处理室，所述侦测单元设置于所述输送管路单元并与所述流体驱动单元电连接，所述侦测单元用以侦测所述流体并产生侦测讯号，所述侦测单元根据所述侦测讯号控制所述流体驱动单元的转速，使所述输送管路单元将所述流体输出至所述基板处理室的状态维持稳定。

在一些实施态样中，所述输送管路单元包含循环管路，及多条输出管路，所述循环管路与所述容器相连通，所述输出管路两端分别连通于所述循环管路与对应的所述基板处理室，所述流体驱动单元包含设置于所述循环管路用以将所述容器内的所述流体排出的第一泵，所述侦测单元为设置于所述循环管路并与所述第一泵电连接的压力侦测单元，所述侦测单元用以侦测所述循环管路内的所述流体的压力且产生对应的所述侦测讯号，所述侦测单元根据所述侦测讯号控制所述第一泵的转速以使所述流体输出至所述基板处理室的流量维持预设流量。

在一些实施态样中，所述第一泵设置于所述容器一侧并与所述循环管路一端连通，所述循环管路另一端与所述容器连通。

在一些实施态样中，所述侦测单元设置在位于所述输出管路之后的所述循环管路下游侧。

在一些实施态样中，所述输送管路单元包含循环管路，及多条输出管路，所述循环管路的两端分别与所述容器相连通，所述输出管路两端分别连通于所述循环管路与对应的所述基板处理室，所述流体驱动单元包含设置于所述循环管路用以将所述容器内的所述流体排出的第一泵，及多个分别设置于所述输出管路的第二泵，所述侦测单元包含多个流量侦测模块，所述流量侦测模块设置于对应的所述输出管路并与对应的所述第二泵电连接，所述流量侦测模块用以侦测对应的所述输出管路内的所述流体的流量且产生对应的所述侦测讯号，所述流量侦测模块根据所述侦测讯号控制对应的所述第二泵的转速以使所述流体输出至所述基板处理室的所述流量维持预设流量。

在一些实施态样中，所述输出管路的长度及管径相同。

在一些实施态样中，所述输送管路单元还包含与所述容器相连通的回流管路，所述输送总成还包括多个分别设置于所述输出管路的控制单元，所述控制单元包含三通阀，所述三通阀具有与对应的所述输出管路连通的第一输入端、与对应的所述输出管路连通的第一输出端，及与所述回流管路连通的第二输出端，所述三通阀可在使对应的所述输出管路内的所述流体流至对应的所述基板处理室的第一状态，及使对应的所述输出管路内的所述流体流至所述回流管路的第二状态之间切换，当所述三通阀在所述第二状态时，对应的所述输出管路内的所述流体持续地经由所述回流管路回流至所述容器。

在一些实施态样中，所述控制单元还包含设置于对应的所述输出管路且位于所述循环管路与所述三通阀之间的第一侦测元件，用以侦测对应的所述输出管路是否有所述流体流动。

在一些实施态样中，所述控制单元还包含设置于对应的所述输出管路且位于对应的所述基板处理室与所述三通阀之间的第二侦测元件，用以侦测对应的所述输出管路内的所述流体是否流至对应的所述基板处理室内。

在一些实施态样中，当所述三通阀在所述第一状态时，所述循环管路内的所述流体一部分流入所述输出管路而另一部分持续回流至所述容器。

在一些实施态样中，所述控制单元还包含设置于对应的所述输出管路的流量调整阀，用以调整对应的所述输出管路内的所述流体流量。

在一些实施态样中，所述输出管路包括流体输出模块，所述流体输出模块包含管体，及移动件，所述管体形成有与对应的所述基板处理室连通且用以输出所述流体的输出流道，及与所述输出流道连通的回吸空间，所述移动件可移动地设置于所述管体的所述回吸空间内并能在邻近所述输出流道的第一位置，及远离所述输出流道的第二位置间移动，当所述移动件由所述第一位置移动至所述第二位置时，所述输出流道内的所述流体至少一部分被吸入所述回吸空间内。

在一些实施态样中，所述移动件具有固定于所述管体且位于所述回吸空间内的可挠性膜，及抵接于所述可挠性膜一侧的杆体，所述杆体用以控制所述可挠性膜在所述第一位置和所述第二位置间移动。

在一些实施态样中，所述输出管路包括流体输出模块，所述流体输出模块包含管体，及移动件，所述管体形成有与对应的所述基板处理室连通且用以输出所述流体的输出流道，所述移动件可移动地设置于所述管体内并能在未阻断所述输出流道使所述流体能输出的第一位置，及阻断所述输出流道以防止所述流体输出的第二位置间移动。

在一些实施态样中，所述输送总成还包括设置于所述循环管路的过滤器，用以过滤所述循环管路内的所述流体。

本实用新型的有益效果在于：借由侦测单元侦测流体的压力或流量而产生对应的侦测讯号，并根据侦测讯号控制流体驱动单元的第一泵或第二泵转速，使输送管路单元将流体输出至所述基板处理室的压力或流量状态维持稳定，能避免基板处理室对基板进行湿式处理制程时造成影响，以提升产品的良率。

附图说明

图1是本实用新型基板处理装置的第一实施例的一示意图，说明一容器、多个基板处理室，及一输送总成之间的配置关系，多个三通阀皆位在一第一状态；

图2是类似于图1的一示意图，说明其中一个三通阀切换至一第二状态；

图3是该第一实施例的一输出管路的一不完整剖视图，说明一流体输出模块的一移动件位在第一位置；

图4是类似于图3的一不完整剖视图，说明该移动件位在第二位置；

图5是本实用新型基板处理装置的第二实施例的一示意图；

图6是本实用新型基板处理装置的第三实施例的该输出管路的一不完整剖视图，说明该移动件位在第一位置；

图7是类似于图6的一不完整剖视图，说明该移动件位在第二位置；

图8是本实用新型基板处理装置的第四实施例的该输出管路的一不完整剖视图，说明该移动件位在第一位置；

图9是类似于图8的一不完整剖视图，说明该移动件位在第二位置；

图10是本实用新型基板处理装置的第五实施例的该输出管路的一不完整剖视图，说明该移动件的一可挠性膜位在第一位置；及

图11是类似于图10的一不完整剖视图，说明该移动件的该可挠性膜位在第二位置。

具体实施方式

下面结合附图及实施例对本实用新型进行详细说明。

在本实用新型被详细描述之前，应当注意在以下的说明内容中，类似的元件是以相同的编号来表示。

参阅图1，是本实用新型基板处理装置100的第一实施例，基板处理装置100包含一容器1、多个基板处理室2，及一输送总成3。

容器1储存有一流体并用以供应流体，本实施例的流体是以例如化学药液的处理液为例。各基板处理室2用以对一基板(图未示)进行湿式处理制程。基板可以是例如为半导体晶圆、液晶显示设备用的基板、电浆显示器用的基板、光罩用的基板、陶瓷基板，及太阳能电池用的基板等。本实施例的基板是以半导体晶圆为例。

输送总成3包括一输送管路单元31、一流体驱动单元32，及一侦测单元33。输送管路单元31连通于容器1与所述基板处理室2之间。流体驱动单元32设置于输送管路单元31用以驱动流体流动至所述基板处理室2。侦测单元33设置于输送管路单元31并与流体驱动单元32电连接，侦测单元33用以侦测流体并能产生一侦测讯号，侦测单元33能根据该侦测讯号控制流体驱动单元32的转速，使输送管路单元31将流体输出至所述基板处理室2的状态维持稳定，以避免基板处理室2对基板进行湿式处理制程时造成影响。

以下将针对基板处理装置100的具体构造及运作方式进行详细说明:

参阅图1，输送管路单元31包含一循环管路311，及多条输出管路312。循环管路311与容器1相连通，而各输出管路312两端分别连通于循环管路311与对应的基板处理室2。流体驱动单元32包含一设置于循环管路311的第一泵321，于一实施例，第一泵321设置于容器1底端并与循环管路311一端连通，循环管路311另一端与容器1连通。第一泵321用以将容器1内的流体朝循环管路311下游侧加压排出。其中，流体于循环管路311内流动时，流体的一部分流入所述输出管路312内以输送至所述基板处理室2，而另一部分则持续地经由循环管路311回流至容器1内。

需说明的是，本实施例借由第一泵321直接设置于容器1底端的方式，使得第一泵321与容器1相互连通的距离缩短。借此，当流体为含有大量气泡的处理液时，能避免气体赌塞于第一泵321和容器1之间的区域，以降低气泡对第一泵321运转时所产生的影响，使得基板处理装置100能符合采用含有大量气泡的化学药液作为处理液的制程需求。

侦测单元33为一设置于循环管路311并与第一泵321电连接的压力侦测单元，侦测单元33包含一压力计331，及一控制器332。压力计331设置在位于所述输出管路312之后的循环管路311下游侧，用以侦测沿着循环管路311流动并通过所述输出管路312且未流入输出管路312内的流体的一压力。控制器332通过一第一讯号传输线333与压力计331电连接并通过一第二讯号传输线334与第一泵321电连接。当压力计331侦测循环管路311内的流体的压力时会产生对应的侦测讯号，控制器332经由第一讯号传输线333接收到该侦测讯号后会根据该侦测讯号来判断循环管路311内的流体的实际压力值与一预设压力值之间的差距。控制器332会根据该侦测讯号产生一对应的控制讯号并经由第二讯号传输线334传输至第一泵321以控制其转速，使流体的实际压力值与预设压力值一致。

在本实施例中，各输出管路312具有一长度L及一管径，所述输出管路312的长度L及管径相同，且输出管路312的管径远小于循环管路311的管径。在其他实施态样中，所述输出管路312的长度L及管径也可以是大致相同。借此，只要控制循环管路311内的流体的实际压力值与预设压力值一致，便能确保经由循环管路311分流至所述输出管路312内的流体的实际流量与预设流量相同，以使流体输出至所述基板处理室2的流量维持一预设流量。

输送管路单元31还包含一回流管路313，回流管路313包括多条支流段314，及一汇流段315。支流段314的数量与输出管路312的数量相同。汇流段315与所述支流段314的一端相连通，且汇流段315的一端与容器1相连通。

输送总成3还包括多个分别设置于所述输出管路312的控制单元34。各控制单元34包含一排泄阀341、一三通阀342、一流量调整阀343、一第一侦测元件344，及一第二侦测元件345。排泄阀341为一位于对应的输出管路312上游侧且邻近于循环管路311的三通阀。排泄阀341具有一输入端346、一输出端347，及一排泄端348。输入端346及输出端347与对应的输出管路312相连通。排泄端348可连接一排泄管路(图未示)。排泄阀341可在一第一状态及一第二状态之间切换，当排泄阀341在第一状态时，输入端346与输出端347连通而不与排泄端348连通。当排泄阀341在第二状态时，输入端346与排泄端348连通而不与输出端347连通。使用者可将排泄阀348切换至第一状态或第二状态。欲设定经由各输出管路312输送至对应的基板处理室2内的一流量时，将排泄阀348切换至第二状态并承接经由排泄管路排出的流体。接着，计算在单位时间内所承接的流体流量为多少进而对应地调整第一泵321的转速，使排泄管路排出的流体流量与一预定排出流量相同。待第一泵321的转速设定完成后，将排泄阀348切换至第一状态，此时，经由输出端347流出的流体流量即与该预定排出流量相同。

三通阀342位于排泄阀341与基板处理室2之间并具有一第一输入端349、一第一输出端350，及一第二输出端351。第一输入端349及第一输出端350与对应的输出管路312连通。第二输出端351与回流管路313的对应支流段314的另一端连通。三通阀342可在一第一状态及一第二状态之间切换，当三通阀342在第一状态时，第一输入端349与第一输出端350连通而不与第二输出端351连通。此时，在循环管路311内流动的流体的一部分流入输出管路312内并经由三通阀342流至对应的基板处理室2内，使基板处理室2对基板进行湿式处理制程，而流体的另一部分则持续地经由循环管路311回流至容器1内。当三通阀342在第二状态时，第一输入端349与第二输出端351连通而不与第一输出端350连通。此时，输出管路312内的流体会经由三通阀342流至对应的支流段314内，使流体能持续地经由支流段314流至汇流段315并回流至容器1内。

流量调整阀343位于循环管路311与排泄阀341之间，使用者可通过操控流量调整阀343，以微调控制经由循环管路311流入输出管路312内的流体流量。

第一侦测元件344位于循环管路311与三通阀342之间，用以侦测对应的输出管路312是否有流体流动。具体而言，本实施例的第一侦测元件344是以一温度计为例。当第一侦测元件344量测到流体的温度时会显示出该温度，当第一侦测元件344未量测到流体的温度时，第一侦测元件344显示出的温度便会与前述温度有所差异。借此，使用者通过第一侦测元件344所侦测的温度便能判断出输出管路312内是否有流体在流动。需说明的是，在其他的实施方式中，第一侦测元件344也可以是侦测流体流量的流量计，或者是侦测流体压力的压力计，或者是其他类型的侦测元件，不以本实施例所公开的温度计型式为限。

第二侦测元件345位于基板处理室2与三通阀342之间，用以侦测对应的输出管路312内的流体是否流至对应的基板处理室2内。具体而言，本实施例的第二侦测元件345是以一紧邻于基板处理室2的流量计为例。借此，使用者能通过第二侦测元件345所侦测的流量数值判断出输出管路312内的流体是否流至对应的基板处理室2内。需说明的是，在其他的实施方式中，第二侦测元件345也可以是侦测流体温度的温度计，或者是侦测流体压力的压力计，或者是其他类型的侦测元件，不以本实施例所公开的流量计型式为限。

输送总成3还包括一设置于循环管路311上游侧的过滤器36，过滤器36位于第一泵321与所述输出管路312之间用以过滤流体内的微粒或异物。

当各控制单元34的排泄阀341在第一状态且三通阀342在第一状态时，循环管路311内流动的流体的一部分流入输出管路312内并经由三通阀342流至对应的基板处理室2内，使基板处理室2对基板进行湿式处理制程。而循环管路311内流动的流体的另一部分则持续地经由循环管路311回流至容器1内，使流体维持一制程参数。

参阅图2，当其中任一个控制单元34的三通阀342切换至第二状态使对应的基板处理室2停止对基板进行湿式处理制程时，由于该输出管路312内的流体能经由三通阀342的第二输出端351流至对应的支流段314并经由汇流段315回流至容器1内。于本实施例中，流体的制程参数例如为流体温度、流体压力以及流体的含泡量等等，由于流体不流动时，会使流体的制程参数随着时间而变动，因此，输出管路312内的部分流体持续回流至容器1内，能避免循环管路311内的流体突然分流至该输出管路312而造成流体的制程参数产生剧烈的变化，以维持对基板进行湿式处理时的稳定性。

此外，例如当其中任一个控制单元34的流量调整阀343调整输出管路312内的流体流量，或者是其他的因素导致该输出管路312的流量产生变化时，皆会对循环管路311内的流体压力造成影响。当控制器332接收到压力计331所产生的该侦测讯号并判断循环管路311内的流体的实际压力值小于预设压力值时，控制器332根据该侦测讯号所产生的对应控制讯号会控制第一泵321增加转速。当控制器332接收到压力计331所产生的该侦测讯号并判断循环管路311内的流体的实际压力值大于预设压力值时，控制器332根据该侦测讯号所产生的对应控制讯号会控制第一泵321减少转速。借此，能使循环管路311内的流体的实际压力值与预设压力值一致，以维持循环管路311内的流体压力的稳定。

参阅图3及图4，各输出管路312包括一用以输送流体的输送管段371、一套设于输送管段371的套管段372，及一流体输出模块373。流体输出模块373设置于输送管段371及套管段372相反于循环管路311的一端并包含一管体374、一移动件375，及一驱动源(图未示)。管体374固定于套管段372并形成有一连通于输送管段371与对应的基板处理室2(如图1所示)间且用以输出流体的输出流道376，输出流道376具有一呈弯曲状的弯曲部377。移动件375为一可移动地设置于管体374且位于弯曲部377内的弹性膜片，移动件375能在一未阻断输出流道376使流体能输出的第一位置(如图3所示)，及一阻断输出流道376以防止流体输出的第二位置(如图4所示)间移动。

管体374还形成有一与弯曲部377连通的气体流道378。驱动源可通过气体流道378输送气体至弯曲部377内。当移动件375在第一位置时，移动件375朝远离管体374的一凸部379方向凹陷并与凸部379相间隔，使得流体能经由移动件375与凸部379之间的间隙流过并经由输出流道376流出至基板处理室2。当驱动源经由气体流道378输送气体至弯曲部377内时，气体会推挤移动件375使其变形并蓄积复位弹力。当移动件375移动到顶抵于凸部379的第二位置并阻断弯曲部377时，能防止流体流过弯曲部377并经由输出流道376流出至基板处理室2。此外，当驱动源不经由气体流道378输送气体时，移动件375借由蓄积的复位弹力复位至第一位置。于本实施例中，驱动源也可通过气体流道378将移动件375与气体流道378之间的气体抽出而使移动件375移动复位至第一位置。

参阅图5，是本实用新型基板处理装置100的第二实施例，其整体结构大致与第一实施例相同，不同处在于流体驱动单元32及侦测单元33的结构及设置方式。

在本第二实施例中，循环管路311两端与容器1相连通。第一泵321位于容器1与过滤器36之间。流体驱动单元32还包含多个分别设置于所述输出管路312的第二泵322，各第二泵322邻近于循环管路311。侦测单元33包含多个流量侦测模块335，各流量侦测模块335设置于对应的输出管路312并与对应的第二泵322电连接。各流量侦测模块335包括一流量计336，及一控制器337。流量计336位于对应的第二泵322与对应的流量调整阀343之间，用以侦测流入对应的输出管路312内的流体的一流量。控制器337通过一第一讯号传输线338与流量计336电连接并通过一第二讯号传输线339与对应的第二泵322电连接。当流量计336侦测对应的输出管路312内的流体的流量时会产生对应的侦测讯号，控制器337经由第一讯号传输线338接收到该侦测讯号后会根据该侦测讯号来判断输出管路312内的流体的实际流量值与一预设流量值之间的差距。控制器337会根据该侦测讯号产生一对应的控制讯号并经由第二讯号传输线339传输至对应的第二泵322以控制其转速，使流体输出至所述基板处理室2的实际流量值与预设流量值一致。

本第二实施例的基板处理装置100是应用在基板处理室2数量更多的场合，先由第一泵321将容器1内的流体加压排出并满足所述输出管路312足够的流量，接着，在各输出管路312设置第二泵322及流量侦测模块335。当控制器337接收到流量计336所产生的该侦测讯号并判断输出管路312内的流体的实际流量值小于预设流量值时，控制器337根据该侦测讯号所产生的对应控制讯号会控制对应的第二泵322增加转速，以增加经由循环管路311流至输出管路312内的流体流量。当控制器337接收到流量计336所产生的该侦测讯号并判断输出管路312内的流体的实际流量值大于预设流量值时，控制器337根据该侦测讯号所产生的对应控制讯号会控制对应的第二泵322减少转速，以减少经由循环管路311流至输出管路312内的流体流量。借此，能使输出管路312内的流体的实际流量值与预设流量值一致，以维持输出管路312内的流体流量的稳定。

参阅图6及图7，是本实用新型基板处理装置100的第三实施例，其整体结构大致与第一实施例相同，不同处在于流体输出模块373的结构。

在本第三实施例中，管体374具有一固定于套管段372且界定出输出流道376的主管部380，及一位于主管部380一侧的侧管部381。侧管部381形成有一容置空间382、一与容置空间382连通的第一气体流道383、一与容置空间382连通的第二气体流道384，及一穿孔385。穿孔385一端连通于容置空间382一侧，穿孔385另一端与主管部380的一侧通孔386连通，侧通孔386连通于输出流道376一侧。移动件375具有一杆体387，杆体387具有一位于容置空间382内且介于第一气体流道383与第二气体流道384间的活塞部388，及一凸设于活塞部388一侧的杆部389，杆部389穿设于穿孔385及侧通孔386且邻近输出流道376。流体输出模块373还包括一设置于容置空间382内对活塞部388朝输出流道376方向偏压的弹簧390。

当驱动源经由第一气体流道383输送气体至容置空间382内时，气体会推挤杆体387的活塞部388朝远离输出流道376方向移动，活塞部388移动时压缩弹簧390使其变形并蓄积复位弹力。当杆体387移动到杆部389未阻断输出流道376的第一位置时，流体能经由输出流道376流出至基板处理室2。当驱动源不经由第一气体流道383输送气体时，杆体387借由弹簧390蓄积的复位弹力带动而移动复位至杆部389阻断输出流道376的第二位置，以防止流体经由输出流道376流出至基板处理室2。

需说明的是，在本第三实施例的其他实施态样中可省略弹簧390，借由驱动源经由第二气体流道384输送气体至容置空间382内，气体会推挤杆体387的活塞部388朝靠近输出流道376方向移动，使杆部389能移动到阻断输出流道376的第二位置。

参阅图8及图9，是本实用新型基板处理装置100的第四实施例，其整体结构大致与第三实施例相同，不同处在于流体输出模块373的结构。

在本第四实施例中，主管部380的侧通孔386及侧管部381的穿孔385一部分共同界定出一回吸空间391。移动件375的杆体387可移动地设置于管体374的回吸空间391内并能在一堵塞住回吸空间391且邻近输出流道376的第一位置(如图8所示)，及一远离输出流道376并移离回吸空间391的第二位置(如图9所示)间移动。当移动件375的杆体387由第一位置移动至第二位置时，输出流道376内的流体至少一部分被吸入回吸空间391内。

当移动件375的杆体387位在第一位置时，杆体387的杆部389堵塞住回吸空间391。当驱动源经由第一气体流道383输送气体至容置空间382内时，气体会推挤杆体387的活塞部388朝远离输出流道376方向移动，活塞部388移动时压缩弹簧390使其变形并蓄积复位弹力。当杆体387移动到第二位置时，杆部389移离回吸空间391，使输出流道376内的流体至少一部分被吸入回吸空间391内，借以防止流体经由输出流道376滴落至基板处理室2。当驱动源不经由第一气体流道383输送气体时，杆体387借由弹簧390蓄积的复位弹力带动而移动复位至杆部389堵塞住回吸空间391的第一位置。

参阅图10及图11，是本实用新型基板处理装置100的第五实施例，其整体结构大致与第四实施例相同，不同处在于流体输出模块373的结构。

在本第五实施例中，移动件375还具有一例如由橡胶或硅胶等弹性材质所制成的可挠性膜392，可挠性膜392有一位于回吸空间391内的第一膜部393，及一由第一膜部393外周缘径向朝外延伸的第二膜部394，第二膜部394被主管部380及侧管部381所夹持而固定在主管部380及侧管部381之间。杆体387的杆部389抵接于可挠性膜392的第一膜部393一侧。杆体387用以控制可挠性膜392在第一位置和第二位置间移动。

借由弹簧390对移动件375的杆体387朝输出流道376方向偏压，杆体387会朝输出流道376方向移动。杆体387移动时杆部389会挤压可挠性膜392的第一膜部393使其变形并蓄积复位弹力。当杆部389挤压第一膜部393使其移动到图10所示的第一位置时，第一膜部393阻断侧通孔386。当驱动源经由第一气体流道383输送气体至容置空间382内时，气体会推挤杆体387的活塞部388朝远离输出流道376方向移动，活塞部388移动时压缩弹簧390使其变形并蓄积复位弹力。同时，第一膜部393借由复位弹力的作用下变形并保持抵接于杆部389上。当杆体387移动到图11所示的位置时，第一膜部393移动到移离回吸空间391的第二位置，使输出流道376内的流体至少一部分被吸入回吸空间391内，借以防止流体经由输出流道376滴落至基板处理室2。当驱动源不经由第一气体流道383输送气体时，杆体387借由弹簧390蓄积的复位弹力带动而移动并且带动第一膜部393移动到第一位置。

归纳上述，各实施例的基板处理装置100，借由侦测单元33侦测流体的压力或流量而产生对应的侦测讯号，并根据该侦测讯号控制流体驱动单元32的第一泵321或第二泵322转速，使输送管路单元31将流体输出至所述基板处理室2的压力或流量状态维持稳定，能避免基板处理室2对基板进行湿式处理制程时造成影响，以提升产品的良率，确实能达到本实用新型所诉求的目的。

Claims (15)

1.一种基板处理装置，其特征在于：

所述基板处理装置包含容器、多个基板处理室，及输送总成，所述容器用以供应流体，所述基板处理室用以对基板进行处理制程，所述输送总成包括输送管路单元、流体驱动单元，及侦测单元，所述输送管路单元连通于所述容器与所述基板处理室之间，所述流体驱动单元设置于所述输送管路单元用以驱动所述流体流动至所述基板处理室，所述侦测单元设置于所述输送管路单元并与所述流体驱动单元电连接，所述侦测单元用以侦测所述流体并产生侦测讯号，所述侦测单元根据所述侦测讯号控制所述流体驱动单元的转速，使所述输送管路单元将所述流体输出至所述基板处理室的状态维持稳定。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：所述输送管路单元包含循环管路，及多条输出管路，所述循环管路与所述容器相连通，所述输出管路两端分别连通于所述循环管路与对应的所述基板处理室，所述流体驱动单元包含设置于所述循环管路用以将所述容器内的所述流体排出的第一泵，所述侦测单元为设置于所述循环管路并与所述第一泵电连接的压力侦测单元，所述侦测单元用以侦测所述循环管路内的所述流体的压力且产生对应的所述侦测讯号，所述侦测单元根据所述侦测讯号控制所述第一泵的转速以使所述流体输出至所述基板处理室的流量维持预设流量。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于：所述第一泵设置于所述容器一侧并与所述循环管路一端连通，所述循环管路另一端与所述容器连通。

4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于：所述侦测单元设置在位于所述输出管路之后的所述循环管路下游侧。

5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：所述输送管路单元包含循环管路，及多条输出管路，所述循环管路的两端分别与所述容器相连通，所述输出管路两端分别连通于所述循环管路与对应的所述基板处理室，所述流体驱动单元包含设置于所述循环管路用以将所述容器内的所述流体排出的第一泵，及多个分别设置于所述输出管路的第二泵，所述侦测单元包含多个流量侦测模块，所述流量侦测模块设置于对应的所述输出管路并与对应的所述第二泵电连接，所述流量侦测模块用以侦测对应的所述输出管路内的所述流体的流量且产生对应的所述侦测讯号，所述流量侦测模块根据所述侦测讯号控制对应的所述第二泵的转速以使所述流体输出至所述基板处理室的所述流量维持预设流量。

6.根据权利要求2至5其中任一项所述的基板处理装置，其特征在于：所述输出管路的长度及管径相同。

7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于：所述输送管路单元还包含与所述容器相连通的回流管路，所述输送总成还包括多个分别设置于所述输出管路的控制单元，所述控制单元包含三通阀，所述三通阀具有与对应的所述输出管路连通的第一输入端、与对应的所述输出管路连通的第一输出端，及与所述回流管路连通的第二输出端，所述三通阀可在使对应的所述输出管路内的所述流体流至对应的所述基板处理室的第一状态，及使对应的所述输出管路内的所述流体流至所述回流管路的第二状态之间切换，当所述三通阀在所述第二状态时，对应的所述输出管路内的所述流体持续地经由所述回流管路回流至所述容器。

8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于：所述控制单元还包含设置于对应的所述输出管路且位于所述循环管路与所述三通阀之间的第一侦测元件，用以侦测对应的所述输出管路是否有所述流体流动。

9.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于：所述控制单元还包含设置于对应的所述输出管路且位于对应的所述基板处理室与所述三通阀之间的第二侦测元件，用以侦测对应的所述输出管路内的所述流体是否流至对应的所述基板处理室内。

10.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于：当所述三通阀在所述第一状态时，所述循环管路内的所述流体一部分流入所述输出管路而另一部分持续回流至所述容器。

11.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于：所述控制单元还包含设置于对应的所述输出管路的流量调整阀，用以调整对应的所述输出管路内的所述流体的流量。

12.根据权利要求2至5其中任一项所述的基板处理装置，其特征在于：所述输出管路包括流体输出模块，所述流体输出模块包含管体，及移动件，所述管体形成有与对应的所述基板处理室连通且用以输出所述流体的输出流道，及与所述输出流道连通的回吸空间，所述移动件可移动地设置于所述管体的所述回吸空间内并能在邻近所述输出流道的第一位置，及远离所述输出流道的第二位置间移动，当所述移动件由所述第一位置移动至所述第二位置时，所述输出流道内的所述流体至少一部分被吸入所述回吸空间内。

13.根据权利要求12所述的基板处理装置，其特征在于：所述移动件具有固定于所述管体且位于所述回吸空间内的可挠性膜，及抵接于所述可挠性膜一侧的杆体，所述杆体用以控制所述可挠性膜在所述第一位置和所述第二位置间移动。

14.根据权利要求2至5其中任一项所述的基板处理装置，其特征在于：所述输出管路包括流体输出模块，所述流体输出模块包含管体，及移动件，所述管体形成有与对应的所述基板处理室连通且用以输出所述流体的输出流道，所述移动件可移动地设置于所述管体内并能在未阻断所述输出流道使所述流体能输出的第一位置，及阻断所述输出流道以防止所述流体输出的第二位置间移动。

15.根据权利要求2至5其中任一项所述的基板处理装置，其特征在于：所述输送总成还包括设置于所述循环管路的过滤器，用以过滤所述循环管路内的所述流体。