CN207684897U - 气相沉积炉 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种气相沉积炉，包括炉体，还包括炉体内设置的：加热腔室，用于加热原料反应生成产物并使得产物变成气体；沉积腔室，设置于加热腔室上方与加热腔室密封连接，且与加热腔室通过连通通道连通，沉积腔室内设置有可转动的沉积机构，沉积机构用于沉积产物，沉积腔室开设有沉积腔室开口，通过沉积腔室开口调节沉积腔室内的气氛；接收机构，用于接收从沉积机构上落下的沉积产物，连通通道穿过接收机构伸入到沉积腔室。气相沉积炉中的沉积盘可旋转，从而使得沉积机构上沉积的产物均匀分布，提高了沉积产物的一致性。连通通道穿过接收机构伸入到沉积腔室，可以避免现有技术中沉积产物从连通通道与接收机构之间的空隙落入到加热腔室内。
Description
技术领域
本实用新型属于氧化亚硅技术领域，具体涉及一种气相沉积炉。
背景技术
近年来锂二次电池具有较镍镉电池或镍氢电池更高的能量密度，且每单位重量的能量密度更高。锂离子电池由于具有高电压、高能量密度和长循环寿命的优势，成为应用最广的电池之一。随着互联网时代的到来，智能手机、智能设备以及电动汽车等设备逐步普及使用，对于锂电池的能量密度提出来越来越高的要求。
为了满足这一日益提高的要求，达到更高的充放电容量，更高效的氧化亚硅(SiOx，其中，0＜x＜2)作为负极材料的活性物质备受关注。用于生产SiOx的设备设计缺陷和控制不平稳，导致氧化亚硅形态分布较宽，质量均一性较差，也难以满足市场需求。因此，现有技术无法很好地实现工业化生产，需要进一步优化技术。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术中存在的上述不足，提供一种气相沉积炉，连通通道穿过接收机构伸入到沉积腔室，可以避免现有技术中沉积产物从连通通道与接收机构之间的空隙落入到加热腔室内。
解决本实用新型技术问题所采用的技术方案是提供一种气相沉积炉，包括炉体，还包括炉体内设置的：
加热腔室，用于加热原料反应生成产物并使得产物变成气体；
沉积腔室，设置于加热腔室上方与加热腔室密封连接，且与加热腔室通过连通通道连通，沉积腔室内设置有可转动的沉积机构，沉积机构用于沉积产物，沉积腔室开设有沉积腔室开口，通过沉积腔室开口调节沉积腔室内的气氛；
接收机构，用于接收从沉积机构上落下的沉积产物，连通通道穿过接收机构伸入到沉积腔室。
优选的是，接收机构为接收盘，连通通道穿过接收盘的底部，且连通通道朝向沉积腔室的开口端高于接收盘的底部。
优选的是，连通通道的轴向与接收盘底部垂直。
优选的是，沉积机构的正投影视图的外围在接收盘的开口的正投影视图的外围内。
优选的是，沉盘的正投影视图为圆形，接收机构的正投影视图为圆形。
优选的是，连通通道至少为两个，连通通道的正投影视图在接收机构的正投影视图上均匀排布。
优选的是，沉积腔室内还设置有：刮取机构，用于刮取沉积机构上的沉积产物。
优选的是，沉积机构具有中空的沉积机构腔体，沉积机构腔体用于通入冷源对沉积机构进行冷却。
优选的是，气相沉积炉还包括驱动机构，沉积机构通过转轴与驱动机构连接，驱动机构用于驱动沉积机构转动，转轴内设置有冷源通道，冷源通道与沉积机构腔体连通，冷源通过冷源通道进入到沉积机构腔体内对沉积机构进行冷却。
优选的是，加热腔室设置有加热腔室入口，用于向加热腔室内通入非氧化性气体。
本实用新型中的气相沉积炉中的沉积盘可旋转，从而使得沉积机构上沉积的产物均匀分布，提高了沉积产物的一致性，产物具有较高的质量稳定性，满足工业化生产需求。连通通道穿过接收机构伸入到沉积腔室，可以避免现有技术中沉积产物从连通通道与接收机构之间的空隙落入到加热腔室内。
附图说明
图1是本实用新型实施例2中的气相沉积炉的结构示意图；
图2是本实用新型实施例2中的接收盘的俯视图。
图中：1-加热腔室；2-沉积腔室；3-连通通道；4-沉积机构； 5-沉积腔室开口；6-接收盘；7-刮取机构；8-驱动机构；9-转轴；10-冷源通道；11-沉积机构腔体；12-加热腔室入口。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述。
实施例1
本实施例提供一种气相沉积炉，包括炉体，还包括炉体内设置的：
加热腔室，用于加热原料反应生成产物并使得产物变成气体；
沉积腔室，设置于加热腔室上方与加热腔室密封连接，且与加热腔室通过连通通道连通，沉积腔室内设置有可转动的沉积机构，沉积机构用于沉积产物，沉积腔室开设有沉积腔室开口，通过沉积腔室开口调节沉积腔室内的气氛；
接收机构，用于接收从沉积机构上落下的沉积产物，连通通道穿过接收机构伸入到沉积腔室。
本实施例中的气相沉积炉中的沉积机构可旋转，从而使得沉积机构上沉积的产物均匀分布，提高了沉积产物的一致性，产物具有较高的质量稳定性，满足工业化生产需求。连通通道穿过接收机构伸入到沉积腔室，可以避免现有技术中沉积产物从连通通道与接收机构之间的空隙落入到加热腔室内。
实施例2
如图1所示，本实施例提供一种气相沉积炉，包括炉体，还包括炉体内设置的：
加热腔室1，用于加热原料反应生成产物并使得产物变成气体；
沉积腔室2，设置于加热腔室1上方与加热腔室1密封连接，且与加热腔室1通过连通通道3连通，沉积腔室2内设置有可转动的沉积机构4，沉积机构4用于沉积产物，沉积腔室2开设有沉积腔室开口5，通过沉积腔室开口5调节沉积腔室2内的气氛；
接收机构，用于接收从沉积机构4上落下的沉积产物，连通通道3穿过接收机构伸入到沉积腔室2。
本实施例中的气相沉积炉中的沉积机构4可旋转，从而使得沉积机构4上沉积的产物均匀分布，提高了沉积产物的一致性，产物具有较高的质量稳定性，满足工业化生产需求。连通通道3 穿过接收机构伸入到沉积腔室2，可以避免现有技术中沉积产物从连通通道3与接收机构之间的空隙落入到加热腔室1内。
优选的是，炉体、接收机构的材质选用耐高温材料，耐高温材料包括石墨、石英玻璃钨、钼、铟、不锈钢、高温合金钢、高温陶瓷或上述材料的复合材料，炉体材质优选石墨，接收机构材质优选不锈钢。
如图2所示，需要说明的是，本实施例中接收机构为接收盘 6，连通通道3穿过接收盘6的底部，且连通通道3朝向沉积腔室 2的开口端高于接收盘6的底部。这样可以防止落入到接收盘6 内的沉积产物弹落到连通通道3朝向沉积腔室2的开口端，进入连通通道3内再落回到加热腔室1内。沉积产物在连通通道3附近可以更加容易的被接收机构接收到。具体的，本实施例中的接收盘6的开口的正投影视图的外围与圆筒形的沉积腔室2的底壁的外围重叠，连通通道3的中心轴与沉积腔室2的中心轴重叠，连通通道3穿过接收盘6的底部，沉积产物大部分落入到接收盘6 中。
需要说明的是，本实施例中连通通道3的轴向与接收盘6底部垂直。
需要说明的是，本实施例中沉积机构4的正投影视图的外围在接收盘6的开口的正投影视图的外围内。接收盘6可以最大限度的接收从沉积机构4上落下的沉积产物。
需要说明的是，本实施例中沉盘的正投影视图为圆形，接收机构的正投影视图为圆形。
优选的是，本实施例中连通通道3至少为两个，连通通道3 的正投影视图在接收机构的正投影视图上均匀排布。具体的，本实施例中的连通通道3为四个，连通通道3均匀分布在接收盘6 上。
需要说明的是，本实施例中沉积腔室2内还设置有：刮取机构7，用于刮取沉积机构4上的沉积产物。刮取机构7包括刮板，沉积机构4旋转时，刮取机构7的刮板的刮取端与沉积机构4的沉积面贴合。具体的，本实施例中刮板的正投影视图与连通通道3 的正投影视图无交集，避免了刮板刮取下来的沉积产物落入到接收机构内。
需要说明的是，本实施例中沉积机构4具有中空的沉积机构腔体11，沉积机构腔体11用于通入冷源对沉积机构4进行冷却。
需要说明的是，本实施例中气相沉积炉还包括驱动机构8，沉积机构4通过转轴9与驱动机构8连接，驱动机构8用于驱动沉积机构4转动，转轴9内设置有冷源通道10，冷源通道10与沉积机构腔体11连通，冷源通过冷源通道10进入到沉积机构腔体 11内对沉积机构4进行冷却。
需要说明的是，本实施例中加热腔室1设置有加热腔室入口 12，用于向加热腔室1内通入非氧化性气体。少量常压非氧化性气体通入真空度比较高的加热腔室1时，会迅速扩散至整个加热腔室1。非氧化性气体扩散的过程中会和加热腔室1内的物料气体融合，通过沉积腔室开口5的真空泵抽真空的作用，气体流向沉积机构4。气相沉积炉内进行反应时，真空条件下，通过加热腔室入口12向气相沉积炉内通入非氧化性气体，可以用于加快生成的气相产物的流动速度，单位时间内反应产生的产物气体较少，气流速度较慢，通入很少的非惰性气体可以增加炉体内部气体的流通速度，致使多数的产物气体流向沉积机构4。反应结束后，通过加热腔室入口12通入非氧化气体用于进行降温。非氧化气体可以选用惰性气体或氮气。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本实用新型的原理而采用的示例性实施方式，然而本实用新型并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本实用新型的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本实用新型的保护范围。
Claims (10)
1.一种气相沉积炉，包括炉体，其特征在于，还包括炉体内设置的：
加热腔室，用于加热原料反应生成产物并使得产物变成气体；
沉积腔室，设置于加热腔室上方与加热腔室密封连接，且与加热腔室通过连通通道连通，沉积腔室内设置有可转动的沉积机构，沉积机构用于沉积产物，沉积腔室开设有沉积腔室开口，通过沉积腔室开口调节沉积腔室内的气氛；
接收机构，用于接收从沉积机构上落下的沉积产物，连通通道穿过接收机构伸入到沉积腔室。
2.根据权利要求1所述的气相沉积炉，其特征在于，接收机构为接收盘，连通通道穿过接收盘的底部，且连通通道朝向沉积腔室的开口端高于接收盘的底部。
3.根据权利要求2所述的气相沉积炉，其特征在于，连通通道的轴向与接收盘底部垂直。
4.根据权利要求2所述的气相沉积炉，其特征在于，沉积机构的正投影视图的外围在接收盘的开口的正投影视图的外围内。
5.根据权利要求1～4任意一项所述的气相沉积炉，其特征在于，沉盘的正投影视图为圆形，接收机构的正投影视图为圆形。
6.根据权利要求1～4任意一项所述的气相沉积炉，其特征在于，连通通道至少为两个，连通通道的正投影视图在接收机构的正投影视图上均匀排布。
7.根据权利要求1～4任意一项所述的气相沉积炉，其特征在于，沉积腔室内还设置有：刮取机构，用于刮取沉积机构上的沉积产物。
8.根据权利要求1～4任意一项所述的气相沉积炉，其特征在于，沉积机构具有中空的沉积机构腔体，沉积机构腔体用于通入冷源对沉积机构进行冷却。
9.根据权利要求8所述的气相沉积炉，其特征在于，还包括驱动机构，沉积机构通过转轴与驱动机构连接，驱动机构用于驱动沉积机构转动，转轴内设置有冷源通道，冷源通道与沉积机构腔体连通，冷源通过冷源通道进入到沉积机构腔体内对沉积机构进行冷却。
10.根据权利要求1～4任意一项所述的气相沉积炉，其特征在于，加热腔室设置有加热腔室入口，用于向加热腔室内通入非氧化性气体。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113587653A (zh) * | 2021-07-29 | 2021-11-02 | 湖南金硅科技有限公司 | 一种用于氧化亚硅刮粉式连续生产的真空炉及氧化亚硅连续生产的方法 |
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- 2017-12-25 CN CN201721832487.5U patent/CN207684897U/zh active Active
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