CN207343358U - 一种自动清洗硅料的隔离气体装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种自动清洗硅料的隔离气体装置，自工件流水线的方向包括依次设置的硅料清洗槽、超声设备与干燥设备，所述硅料清洗槽与所述超声设备之间设置有水槽，所述水槽的底部设置有传送带，所述水槽的上方设置有隔离墙，且所述隔离墙的一端延伸至所述水槽的水位线以下。本实用新型隔离气体的装置通过水密封隔离，即在硅料清洗槽与超声设备之间设置水槽，水槽的上方利用隔离墙将设备的前、后段完全密封，隔离墙的下端在水槽里的水位以下，水槽底部安装有传送带，装有硅料的花篮从水下经过隔离墙，到达设备的后半段超声和烘干区域，同时实现了气体的隔离与硅料的清洗。

Description

一种自动清洗硅料的隔离气体装置

技术领域

本实用新型涉及硅料清洗技术领域，尤其涉及一种自动清洗硅料的隔离气体装置。

背景技术

在清洗硅料的自动化设备中，设备的前半段包括各种清洗槽，清洗槽一般包括依次设置的预冲洗槽、碱洗槽、第一纯水槽、酸洗槽与第二纯水槽，上述清洗槽的设置主要为酸(或碱)与硅料发生化学反应来洗干净硅料表面，设备的后半段为超声设备和烘干设备。在前半段清洗的过程中发生化学反应时会产生大量的具有腐蚀性的气体，这些气体从设备顶部的排风口排走，但总有少量气体会进入设备的后半段，而后半段的超声设备和烘干设备有部分是金属制作的部件，这些腐蚀性气体会腐蚀这些金属部件，降低这些部件的寿命，并且这些气体还会直通到达下料位，给下料位的员工造成人身伤害。

为了减少气体进入设备后方，可以增大顶部排风或者中间设置板材隔离等方法，但由于硅料是要经过这里，不可避免的存在空隙，减少气体的效果并不是很明显。

实用新型内容

本实用新型解决的技术问题在于提供一种自动清洗硅料的隔离气体装置，本申请提供的装置可将清洗硅料产生的腐蚀气体完全隔离在清洗阶段，不会进入超声和干燥区域，延长超声设备与干燥设备的使用寿命。

有鉴于此，本申请提供了一种自动清洗硅料的隔离气体装置，自工件流水线的方向包括依次设置的硅料清洗槽、超声设备与干燥设备，所述硅料清洗槽与所述超声设备之间设置有水槽，所述水槽的底部设置有传送带，所述水槽的上方设置有隔离墙，且所述隔离墙的一端延伸至所述水槽的水位线以下。

优选的，所述隔离气体装置还包括沿工件流水线方向设置的导轨，所述导轨设置于所述硅料清洗槽、水槽、超声设备与干燥设备的上方。

优选的，所述隔离墙的另一端延伸至导轨，且与所述导轨连接。

优选的，所述导轨与所述硅料清洗槽之间设置有排风装置。

优选的，所述硅料清洗槽自工件的流水线方向依次设置有预冲洗槽、碱洗槽、第一纯水槽、酸洗槽与第二纯水槽。

本实用新型提供了一种自动清洗硅料的隔离气体装置，自工件流水线的方向包括依次设置的硅料清洗槽、水槽、超声设备与干燥设备，所述水槽的底部设置有传送带，所述水槽的上方设置有隔离墙，且所述隔离墙的一端延伸至所述水槽的水位线以下。本实用新型通过在硅料清洗槽与超声设备之间设置水槽，设置的隔离墙延伸至水槽的水位线以下，而在前半段的清洗设备与后半段的超声设备、干燥设备之间形成了水密封隔离，使前半段形成的气体完全被隔离，同时水槽底部设置有传送带，可使装有硅料的花篮直接自水槽的下部经过隔离墙，在隔离气体的同时保证了清洗工序的正常进行。

附图说明

图1为本实用新型提供的自动清洗硅料的隔离气体装置示意图。

具体实施方式

为了进一步理解本实用新型，下面结合实施例对本实用新型优选实施方案进行描述，但是应当理解，这些描述只是为进一步说明本实用新型的特征和优点，而不是对本实用新型权利要求的限制。

在自动清洗硅料的过程中，在清洗过程中产生的腐蚀气体可直接进入清洗后半段的超声设备与烘干设备，从而腐蚀上述设备，影响上述设备的使用寿命，有鉴于此，本实用新型实施例公开了一种自动清洗硅料的隔离气体装置，自工件流水线的方向包括依次设置的硅料清洗槽、超声设备与干燥设备，所述硅料清洗槽与所述超声设备之间设置有水槽，所述水槽的底部设置有传送带，所述水槽的上方设置有隔离墙，且所述隔离墙的一端延伸至所述水槽的水位线以下。

如图1所示，图1为本实用新型提供的自动清洗硅料的隔离气体装置的结构示意图。

在本申请的一个具体实施例中，所述隔离气体装置中的硅料清洗槽自工件的流水线方向包括依次设置的预冲洗槽、碱洗槽、第一纯水槽、酸洗槽与第二纯水槽，即所述待清洗硅料首先进入预冲洗槽中进行预清洗，再进入碱洗槽对工件进行清洗，再进入第一纯水槽洗去硅料表面的碱液，再进入酸洗槽以中和硅料表面的碱液，最后进入第二纯水槽以洗去硅料表面的酸洗，得到表面清洁的硅料。

本申请在硅料清洗槽与超声设备之间设置有水槽，同时在水槽上方设置隔离墙，且使隔离墙的一端延伸至水位线以下，形成水密封隔离，由此实现硅料清洗槽与超声设备的隔离，以隔离硅料清洗槽清洗硅料过程中产生的气体。在水槽的底部设置有传送带，通过传送带传送花篮中的硅料至后续的超声设备，以实现清洗硅料继续进行后续的超声处理与干燥处理，彻底实现气体的隔离。

在一个具体实施例中，所述隔离气体装置还包括沿工件流水线方向设置的导轨，所述导轨设置于所述硅料清洗槽、超声设备与干燥设备的上方。为了实现隔离墙的固定，所述隔离墙的另一端延伸至导轨，且与所述导轨连接。

本实用新型还设置有排风装置，所述排风装置设置于所述导轨与所述硅料清洗槽之间，以将硅料清洗槽清洗硅料的过程中产生的气体排出，在减少气体的同时进一步避免气体对超声设备与干燥设备的腐蚀。

本实用新型提供了一种自动清洗硅料的隔离气体装置，由于在硅料清洗槽与超声设备之间设置有水槽，形成水隔离区域，在水隔离区域上方设置有隔离墙，隔离墙下端在水槽的水位以下，实现了隔离前面清洗硅料产生的气体，达到前后隔离的效果；同时经过硅料清洗槽清洗的硅料经过水槽底部的传送带输送至超声设备，同时实现了气体的隔离与硅料的完整清洗。

为了进一步理解本实用新型，下面结合实施例对本实用新型提供的自动清洗硅料的隔离气体装置进行详细说明，本实用新型的保护范围不受以下实施例的限制。

实施例1

一种自动清洗硅料的隔离气体装置，自工件流水线的方向包括依次设置的硅料清洗槽、水槽、超声设备与干燥设备，所述水槽的底部设置有传送带，所述水槽的上方设置有隔离墙，且所述隔离墙的一端延伸至所述水槽的水位线以下，所述隔离墙的另一端延伸至导轨；所述硅料清洗槽自工件流水线的方向包括依次设置的预冲洗槽、碱洗槽、第一纯水槽、酸洗槽与第二纯水槽，所述导轨设置于所述硅料清洗槽、水槽、超声设备与干燥设备上方。

实施例2

本实施例的自动清洗硅料的隔离气体装置与实施例1的隔离气体装置相似，区别在于：导轨与硅料清洗槽之间设置有排风装置，且排风装置设置于硅料清洗槽端。

以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以对本实用新型进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本实用新型权利要求的保护范围内。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (5)

1.一种自动清洗硅料的隔离气体装置，自工件流水线的方向包括依次设置的硅料清洗槽、超声设备与干燥设备，其特征在于，所述硅料清洗槽与所述超声设备之间设置有水槽，所述水槽的底部设置有传送带，所述水槽的上方设置有隔离墙，且所述隔离墙的一端延伸至所述水槽的水位线以下。

2.根据权利要求1所述的隔离气体装置，其特征在于，所述隔离气体装置还包括沿工件流水线方向设置的导轨，所述导轨设置于所述硅料清洗槽、水槽、超声设备与干燥设备的上方。

3.根据权利要求2所述的隔离气体装置，其特征在于，所述隔离墙的另一端延伸至导轨，且与所述导轨连接。

4.根据权利要求2所述的隔离气体装置，其特征在于，所述导轨与所述硅料清洗槽之间设置有排风装置。

5.根据权利要求1～4任一项所述的隔离气体装置，其特征在于，所述硅料清洗槽自工件的流水线方向依次设置有预冲洗槽、碱洗槽、第一纯水槽、酸洗槽与第二纯水槽。