CN105105625A - 一种压力锅锅盖清洗方法及清洗系统 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种压力锅锅盖清洗方法及清洗系统，包括工件输送装置以及沿着工件传送装置依次排列的第一超声波清洗工位、第二超声波清洗工位、第一漂洗工位、第一喷淋工位、镀膜工位、第二漂洗工位、第二喷淋工位、纯水清洗工位和干燥工位。本发明在提供一种实现较高生产效率、保证产品质量同时降低人工成本的压力锅锅盖清洗方法及清洗系统。

Description

一种压力锅锅盖清洗方法及清洗系统

技术领域

本发明属于压力锅锅盖加工领域，尤其涉及一种压力锅锅盖清洗方法及清洗系统。

背景技术

压力锅又称高压锅，主要由锅身、锅盖、安全阀和密封胶圈等组成，其中锅盖需要与锅身保持密封状态，同时还要承受锅子内部的高温高压环境，因此对锅盖的表面处理提出了较高要求。经过加工成型后的锅盖，其表面往往带有油污或者是抛光后留下的蜡质污垢，需要对污垢清除后再进行表面镀膜和烘干等工艺环节，而在实际生产过程中，通过人工对锅盖进行清洗和镀膜等操作往往难以实现稳定的处理效果，产品在输送过程中容易出现磕碰损坏因而产品质量难以得到保证，而且人工成本和劳动强度较高，难以适应大批量的生产效率。

发明内容

本发明是为了克服现有技术中的上述不足，提供了一种实现较高生产效率、保证产品质量同时降低人工成本的压力锅锅盖清洗方法及清洗系统。

为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案：

一种压力锅锅盖清洗方法，包括以下步骤：

（a）在温度40±5摄氏度的酸性环境下，以除蜡水为介质，将压力锅锅盖在行进过程中进行超声波清洗，超声波清洗时间3-5分钟。采用超声波配合除蜡水对锅盖进行第一次去污清洗，在清洗过程中，超声波通过除蜡水作用于锅盖表面，将表面污垢进行粗洗。

（b）在温度40±5摄氏度的酸性环境下，以除蜡水为介质，将压力锅锅盖在行进过程中进行超声波清洗，超声波清洗时间3-5分钟。经过一次粗洗之后，表面难免有细微污垢残留，因此对锅盖进行第二次去污清洗，彻底去除污垢。在清洗过程中，可将超声波作用于锅盖的特定位置如结构较为精细复杂容易残留污垢的区域，以提高这些区域的清洁程度。

（c）将压力锅锅盖在常温环境下，以清水为介质依次进行漂洗和喷淋清洗。通过漂洗和喷淋清洗，将锅盖表面的除蜡水和污垢洗去，便于进入后续工艺流程。

（d）将压力锅锅盖在常温中性环境下，在表面保护剂中漂洗形成表面保护膜，漂洗时间3-5分钟。在清洗干净之后，锅盖直接浸入到表面保护剂中，表面保护剂渗入锅盖表面，形成表面保护膜，从而对锅盖起到防锈保护作用。

（e）将压力锅锅盖在常温环境下，以清水为介质依次进行漂洗和喷淋清洗。通过漂洗和喷淋将锅盖表面多余的表面保护剂洗去。

（f）将压力锅锅盖进行干燥，干燥温度为40±5摄氏度，干燥时间1-2分钟。干燥温度与超声波清洗时温度接近，干燥温度较为适宜，从而减少锅盖的热胀冷缩变形破坏表面保护层。

作为优选，步骤（b）中对压力锅锅盖进行超声波清洗的超声波频率大于步骤（a）中对压力锅锅盖进行超声波清洗的超声波频率。这样在步骤（a）中对锅盖进行粗洗时，超声波频率相对较低，在液体中产生空化作用越容易，清洗力度和作用效果较强，能快速去除大部分污垢，步骤（b）中超声波频率相对较高，适合精细清洗。

作为优选，在步骤（a）和（b）中，压力锅锅盖在行进方向受到多次超声波清洗，超声波的频率沿着压力锅锅盖行进方向逐次增加。这样在进行超声波清洗时，行进方向上的超声波频率逐个增加，超声波的指向性增强，适合于对锅盖特定部位的精密清洗，使得锅盖整体清洁程度一致，清洗效果较好。

作为优选，在步骤（a）和（b）中，压力锅锅盖进行超声波清洗时的PH值为2-3。酸性环境有助于加强超声波的空化效果，便于污垢乳化溶解，从而快速去除表面的油污和蜡质污垢。

作为优选，在步骤（e）和（f）之间增加纯水清洗步骤，压力锅锅盖在常温下进行纯水清洗，清洗时间为1-2分钟。通过纯水清洗，保证锅盖表面清洁无杂质。

作为优选，在步骤（c）和（e）中，压力锅锅盖的漂洗时间为3-5分钟，压力锅锅盖的喷淋时间为1-2分钟。

一种压力锅锅盖清洗系统，包括工件输送装置以及沿着工件传送装置依次排列的第一超声波清洗工位、第二超声波清洗工位、第一漂洗工位、第一喷淋工位、镀膜工位、第二漂洗工位、第二喷淋工位、纯水清洗工位和干燥工位，所述的第一超声波清洗工位和第二超声波清洗工位上分别设有超声波发生器，所述的第一喷淋工位和第二喷淋工位上分别设有多个喷淋头，所述的第一超声波清洗工位、第二超声波清洗工位、第一漂洗工位、镀膜工位、第二漂洗工位和纯水清洗工位分别设有长条形的清洗水槽，工件输送装置包括用于定位压力锅锅盖的工件支架、用于定位工件支架的输送链以及改变输送链输送方向的导向支架，所述的导向支架在第一超声波清洗工位、第二超声波清洗工位、第一漂洗工位、镀膜工位、第二漂洗工位和纯水清洗工位分别设有向清洗水槽靠近的凹形轨道。锅盖通过工件输送装置，依次经过各个工位，在进入第一超声波清洗工位、第二超声波清洗工位、第一漂洗工位、镀膜工位、第二漂洗工位和纯水清洗工位时，锅盖在工件支架上随着凹形轨道下降进入到清洗水槽中，从而完成清洗和镀膜等工艺环节，随后从凹形轨道另一端上升离开清洗水槽。

作为优选，所述第一超声波清洗工位和第二超声波清洗工位对应的清洗水槽上分别设有多个超声波发生器，超声波发生器沿着工件输送装置的输送方向布置。这样锅盖随着工件输送装置向前移动的同时，不断接受清洗水槽上超声波发生器发射的超声波，在输送的过程中同时完成超声波清洗，从而提高清洗效率。

作为优选，所述的第一漂洗工位和第二漂洗工位的清洗水槽之间设有清水输送管道，清水输送管道将第二漂洗工位的清洗水槽中的液体单向运送至第一漂洗工位的清洗水槽，所述的第一喷淋工位和第一漂洗工位之间、第二喷淋工位和第二漂洗工位之间分别设有喷淋水输送管道，所述第一喷淋工位和第二喷淋工位上分别设有与对应喷淋水输送管道连通的收集水槽，喷淋水输送管道将第一喷淋工位收集水槽中的液体单向运送至第一漂洗工位的清洗水槽以及将第二喷淋工位收集水槽中的液体单向运送至第二漂洗工位的清洗水槽。这样，第二漂洗工位的清洗用水能提供至第一漂洗工位，第一喷淋工位的喷淋水能提供至第一漂洗工位，第二喷淋工位的喷淋水能提供至第二漂洗工位，水体回收再利用从而降低水消耗量，实现节约用水。

作为优选，所述的干燥工位上设有干燥箱体，干燥箱体内设有恒温单元和通风单元，所述导向支架在干燥箱体内呈U形布置。

本发明的有益效果是：（1）清洗效果快速彻底，同时避免了锅盖二次污染的可能，镀膜质量得以保证；（2）自动完成锅盖的清洗、镀膜和干燥工艺，大大提高了生产效率；（3）避免了人对工件产生的不利影响，产品质量稳定，良品率得以提升；（4）生产用水得以合理充分使用，避免水量浪费。

附图说明

图1是本发明的一种结构示意图；

图2是本发明中清洗水槽处的结构示意图。

图中：导向支架1，凹形轨道101，上料位2，清洗水槽3，第一超声波清洗工位4，超声波发生器5，除蜡水输送管道6，第二超声波清洗工位7，清水输送管道8，第一漂洗工位9，喷淋水输送管道10，收集水槽11，第一喷淋工位12，喷淋头13，镀膜工位14，第二漂洗工位15，第二喷淋工位16，干燥工位17，取料位18，纯水清洗工位19，工件支架20，锅盖21，输送链22。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本发明做进一步的描述。

如图1所示的实施例中，一种压力锅锅盖清洗方法，包括以下步骤：

（a）在温度40±5摄氏度的酸性环境下，最优温度控制在40摄氏度，此时PH值为2-3，以除蜡水为介质，将压力锅锅盖在行进过程中进行超声波清洗，超声波清洗时间3-5分钟。除蜡水可以采用三合一除蜡水，除了除油除蜡之外，还能去除表面氧化层，进一步提高后续镀膜过程中表面保护层的附着能力。压力锅锅盖在行进方向受到多次超声波清洗，超声波的频率沿着压力锅锅盖行进方向逐次增加。

（b）在温度40±5摄氏度的酸性环境下，最优温度控制在40摄氏度，此时PH值为2-3，以除蜡水为介质，将压力锅锅盖在行进过程中进行第二次的超声波清洗，超声波清洗时间3-5分钟，彻底去除表面污垢。压力锅锅盖在行进方向受到多次超声波清洗，超声波的频率沿着压力锅锅盖行进方向逐次增加。此外，第二次超声波清洗的超声波频率大于第一次超声波清洗的超声波频率。

（c）将压力锅锅盖在常温环境下，以清水为介质先进行漂洗，漂洗时间为3-5分钟。之后锅盖进行喷淋清洗，喷淋时间为1-2分钟，漂洗和喷淋均是在压力锅锅盖行进过程中完成。

（d）将压力锅锅盖在常温中性环境下，在表面保护剂中漂洗形成表面保护膜，漂洗时间3-5分钟。

（e）将压力锅锅盖在常温环境下，以清水为介质先进行漂洗，漂洗时间为3-5分钟。之后锅盖进行喷淋清洗，喷淋时间为1-2分钟，漂洗和喷淋均是在压力锅锅盖行进过程中完成。

（f）压力锅锅盖在常温下进行纯水清洗，清洗时间为1-2分钟。

（g）将压力锅锅盖进行干燥，干燥温度为40±5摄氏度，干燥时间1-2分钟。

如图1、图2所示，一种压力锅锅盖清洗系统，包括工件输送装置以及沿着工件传送装置依次排列的第一超声波清洗工位4、第二超声波清洗工位7、第一漂洗工位9、第一喷淋工位12、镀膜工位14、第二漂洗工位15、第二喷淋工位16、纯水清洗工位19和干燥工位17。第一超声波清洗工位、第二超声波清洗工位、第一漂洗工位、镀膜工位、第二漂洗工位和纯水清洗工位分别设有长条形的清洗水槽3。第一超声波清洗工位和第二超声波清洗工位上分别设有超声波发生器5，第一喷淋工位和第二喷淋工位上分别设有多个喷淋头13，喷淋头位于工件输送装置两侧同时向锅盖喷水。在第一喷淋工位和第二喷淋工位上分别设有收集水槽11，可对喷淋水进行收集。干燥工位上设有干燥箱体，干燥箱体内设有恒温单元和通风单元，导向支架1在干燥箱体内呈U形布置。

工件输送装置包括用于定位压力锅锅盖21的工件支架20、用于定位工件支架的输送链22以及改变输送链输送方向的导向支架，导向支架在第一超声波清洗工位、第二超声波清洗工位、第一漂洗工位、镀膜工位、第二漂洗工位和纯水清洗工位分别设有向清洗水槽靠近的凹形轨道101。第一超声波清洗工位和第二超声波清洗工位对应的清洗水槽上分别设有多个超声波发生器，超声波发生器沿着工件输送装置的输送方向布置。

第一漂洗工位和第二漂洗工位的清洗水槽之间设有清水输送管道8，清水输送管道将第二漂洗工位的清洗水槽中的液体单向运送至第一漂洗工位的清洗水槽，第一喷淋工位和第一漂洗工位之间、第二喷淋工位和第二漂洗工位之间分别设有喷淋水输送管道10，喷淋水输送管道将第一喷淋工位收集水槽中的液体单向运送至第一漂洗工位的清洗水槽以及将第二喷淋工位收集水槽中的液体单向运送至第二漂洗工位的清洗水槽。第一超声波清洗工位和第二超声波清洗工位的清洗水槽之间设有除蜡水输送管道6，除蜡水输送管道将第二超声波清洗工位的清洗水槽中的液体单向运送至第一超声波清洗工位的清洗水槽。

在实际运行过程中，在上料位2将锅盖放置在工件支架上，工件支架随着输送链在导向支架上向前移动，来到第一超声波清洗工位，第一超声波清洗工位的清洗水槽中充满了除蜡水，锅盖随着凹形轨道下降进入到除蜡水中，同时超声波发生器发生超声波作用于锅盖表面，对其进行第一次超声波清洗。之后锅盖移动至凹形轨道另一端上升，从而进入第二超声波清洗工位，进行第二次超声波清洗。进过两次超声波清洗的锅盖移动至第一漂洗工位进行漂洗，然后再输送至第一喷淋工位进行清水喷淋清洗。清洗干净后的锅盖移动至镀膜工位，镀膜工位的清洗水槽内为表面保护剂，当锅盖浸入表面保护剂内时，表面保护剂对附着在锅盖表面。之后锅盖再经过第二漂洗工位和第二喷淋工位，将多余的表面保护剂洗去。在进行干燥之前，还需经过纯水清洗工位，用纯水进漂洗，最后进入干燥工位进行烘干。完成干燥之后的锅盖来到取料位18，可将锅盖从工件支架上取下，工件支架则随着输送链移动至上料位，继续进行后续锅盖的清洗操作。

Claims (10)

1.一种压力锅锅盖清洗方法，包括以下步骤：

（a）在温度40±5摄氏度的酸性环境下，以除蜡水为介质，将压力锅锅盖在行进过程中进行超声波清洗，超声波清洗时间3-5分钟；

（b）在温度40±5摄氏度的酸性环境下，以除蜡水为介质，将压力锅锅盖在行进过程中进行超声波清洗，超声波清洗时间3-5分钟；

（c）将压力锅锅盖在常温环境下，以清水为介质依次进行漂洗和喷淋清洗；

（d）将压力锅锅盖在常温中性环境下，在表面保护剂中漂洗形成表面保护膜，漂洗时间3-5分钟；

（e）将压力锅锅盖在常温环境下，以清水为介质依次进行漂洗和喷淋清洗；

（f）将压力锅锅盖进行干燥，干燥温度为40±5摄氏度，干燥时间1-2分钟。

2.根据权利要求1所述的一种压力锅锅盖清洗方法，其特征是，步骤（b）中对压力锅锅盖进行超声波清洗的超声波频率大于步骤（a）中对压力锅锅盖进行超声波清洗的超声波频率。

3.根据权利要求1所述的一种压力锅锅盖清洗方法，其特征是，在步骤（a）和（b）中，压力锅锅盖在行进方向受到多次超声波清洗，超声波的频率沿着压力锅锅盖行进方向逐次增加。

4.根据权利要求1或2或3所述的一种压力锅锅盖清洗方法，其特征是，在步骤（a）和（b）中，压力锅锅盖进行超声波清洗时的PH值为2-3。

5.根据权利要求1或2或3所述的一种压力锅锅盖清洗方法，其特征是，在步骤（e）和（f）之间增加纯水清洗步骤，压力锅锅盖在常温下进行纯水清洗，清洗时间为1-2分钟。

6.根据权利要求1或2或3所述的一种压力锅锅盖清洗方法，其特征是，在步骤（c）和（e）中，压力锅锅盖的漂洗时间为3-5分钟，压力锅锅盖的喷淋时间为1-2分钟。

7.一种压力锅锅盖清洗系统，其特征是，包括工件输送装置以及沿着工件传送装置依次排列的第一超声波清洗工位（4）、第二超声波清洗工位（7）、第一漂洗工位（9）、第一喷淋工位（12）、镀膜工位（14）、第二漂洗工位（15）、第二喷淋工位（16）、纯水清洗工位（19）和干燥工位（17），所述的第一超声波清洗工位（4）和第二超声波清洗工位（7）上分别设有超声波发生器（5），所述的第一喷淋工位（12）和第二喷淋工位（16）上分别设有多个喷淋头（13），所述的第一超声波清洗工位（4）、第二超声波清洗工位（7）、第一漂洗工位（9）、镀膜工位（14）、第二漂洗工位（15）和纯水清洗工位（19）分别设有长条形的清洗水槽（3），工件输送装置包括用于定位压力锅锅盖的工件支架（20）、用于定位工件支架（20）的输送链（22）以及改变输送链（22）输送方向的导向支架（1），所述的导向支架（1）在第一超声波清洗工位（4）、第二超声波清洗工位（7）、第一漂洗工位（9）、镀膜工位（14）、第二漂洗工位（15）和纯水清洗工位（19）分别设有向清洗水槽（3）靠近的凹形轨道（101）。

8.根据权利要求7所述的一种压力锅锅盖清洗系统，其特征是，所述第一超声波清洗工位（4）和第二超声波清洗工位（7）对应的清洗水槽上分别设有多个超声波发生器（5），超声波发生器（5）沿着工件输送装置的输送方向布置。

9.根据权利要求7所述的一种压力锅锅盖清洗系统，其特征是，所述的第一漂洗工位（9）和第二漂洗工位（15）的清洗水槽之间设有清水输送管道（8），清水输送管道（8）将第二漂洗工位（15）的清洗水槽中的液体单向运送至第一漂洗工位（9）的清洗水槽，所述的第一喷淋工位（12）和第一漂洗工位（9）之间、第二喷淋工位（16）和第二漂洗工位（15）之间分别设有喷淋水输送管道（10），所述第一喷淋工位（12）和第二喷淋工位（16）上分别设有与对应喷淋水输送管道（10）连通的收集水槽（11），喷淋水输送管道（10）将第一喷淋工位（12）收集水槽中的液体单向运送至第一漂洗工位（9）的清洗水槽以及将第二喷淋工位（16）收集水槽中的液体单向运送至第二漂洗工位（15）的清洗水槽，所述的第一超声波清洗工位（4）和第二超声波清洗工位（7）的清洗水槽之间设有除蜡水输送管道（6），除蜡水输送管道（6）将第二超声波清洗工位（7）的清洗水槽中的液体单向运送至第一超声波清洗工位（4）的清洗水槽。

10.根据权利要求7所述的一种压力锅锅盖清洗系统，其特征是，所述的干燥工位（17）上设有干燥箱体，干燥箱体内设有恒温单元和通风单元，所述导向支架（1）在干燥箱体内呈U形布置。