CN206956143U - 一种连续磁控溅射沉积法制备的镀膜盖板 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种连续磁控溅射沉积法制备的镀膜盖板，包括透明玻璃基板、设在透明玻璃上的膜层、覆盖住所述膜层的油墨保护层，所述膜层为单层或者多层膜层组合而成。本实用新型可以使用同一台设备制造不同尺寸产品，沉积速率快、工作效率高、膜层品质可控，镀膜过程全部在真空环境下，安全无污染。同时该方法只需要简单的调整镀膜工艺就可以实现多种镀膜颜色，产品丰富多样，可以满足不同客户的需求。

Description

一种连续磁控溅射沉积法制备的镀膜盖板
技术领域
本实用新型涉及电子显示技术领域，尤其涉及一种连续磁控溅射沉积法制备的镀膜盖板。
背景技术
随着触摸屏产品的普及，人们的日常生活随处可见触摸屏产品，如手机、IPAD、工控机、演示屏幕等。触摸屏产品的外观是体现其产品档次、产品竞争力的主要指标，现在市场上的普通盖板为油墨印刷制备，其颜色单吊、暗沉，缺乏活力，已无法满足广大消费者的需求。目前一些高端手机逐渐采用镀膜手机盖板，其产品颜色鲜艳多样、色度饱满、光泽度高，成为市场宠儿。
目前市场上的镀膜手机盖板基本采用真空蒸发法制备膜层，真空蒸发法制备的镀膜盖板，其膜层致密度与附着力较差，同时其膜层材料取决于蒸发原料，无法精确微调膜层组份。同时其生产过程中每炉产品都需要重复破空、抽真空，给产品的稳定性带来一定影响。
实用新型内容
针对上述问题，本实用新型提供了一种沉积速率快、工作效率高、膜层品质可控的连续磁控溅射沉积法制备的镀膜盖板。
为解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案是：一种连续磁控溅射沉积法制备的镀膜盖板，包括透明玻璃基板、设在透明玻璃上的膜层、覆盖住所述膜层的油墨保护层，所述膜层为单层或者多层膜层组合而 成。
进一步的，所述透明玻璃基板尺寸为从3.5寸至50寸。
进一步的，所述膜层使用磁控溅射镀膜设备，采用中频电源或直流脉冲电源、平面或旋转阴极进行溅射制备。
进一步的，所述膜层采用硅靶材、NbOx(x：1.5～2.5)靶材、钛靶材、铬、锆、铝为磁控溅射镀膜设备的溅射靶材。
进一步的，所述膜层包括SiO2层、Nb2O5层、CrO层、TiO2层、ZrO2层、Al2O3、Si3N4层。
进一步的，所述油墨保护层为黑色、白色、银色、彩色颜色中的至少一种。
由上述对本实用新型结构的描述可知，和现有技术相比，本实用新型具有如下优点：
本实用新型可以使用同一台设备制造不同尺寸产品，沉积速率快、工作效率高、膜层品质可控，镀膜过程全部在真空环境下，安全无污染。同时该方法只需要简单的调整镀膜工艺就可以实现多种镀膜颜色，产品丰富多样，可以满足不同客户的需求。
附图说明
构成本申请的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：
图1为本实用新型一种连续磁控溅射沉积法制备的镀膜盖板的结构示 意图；
图2为本实用新型实施例1的膜层结构示意图；
图3为本实用新型实施例2的膜层结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
一种连续磁控溅射沉积法制备的镀膜盖板，包括透明玻璃基板1、设在透明玻璃上的膜层2、覆盖住所述膜层的油墨保护层3，所述膜层2为单层或者多层膜层组合而成。
所述透明玻璃基板1尺寸为从3.5寸至50寸，采用采用带滚刷的平板清洗机对玻璃进行清洁处理。
所述膜层2使用磁控溅射镀膜设备，采用中频电源或直流脉冲电源、平面或旋转阴极进行溅射制备。
所述膜层2采用硅靶材、NbOx(x：1.5～2.5)靶材、钛靶材、铬、锆、铝等为磁控溅射镀膜设备的溅射靶材。
所述膜层2包括SiO2层、Nb2O5层、CrO层、TiO2层、ZrO2层、Al2O3、Si3N4层，其可以体现银、金、蓝、红、紫颜色。
所述油墨保护层3为黑色、白色、银色、彩色等颜色中的至少一种。
主要制备步骤包括，1.透明玻璃基板的预处理，玻璃基板尺寸从3.5寸至50寸中选取，采用带滚刷的平板清洗机对玻璃进行清洁处理，平板清洗 机中含有pH值11～13的清洗液；2.选取硅靶材、NbOx(x：1.5～2.5)靶材、钛靶材、铬、锆、铝等为磁控溅射镀膜设备的溅射靶材，靶材纯度99.5％以上，并以产品需要选取不同材料按不同顺序布置于设备上；3.沉积的膜层为单层或者多层SiO2层、Nb2O5层、CrO层、TiO2层、ZrO2层、Al2O3、Si3N4层的不同组合，其可以体现银、金、蓝、红、紫等颜色；4.镀膜过程中透明玻璃基板作为阳极，靶材安装到靶座上作为阴极。磁控溅射镀膜设备抽真空至5×10-3Pa以下，通入Ar气使真空压力维持在一定压力，0.2Pa～0.8Pa可选；5.氧化物薄膜的溅射反应气体为O2，其比例5％～15％。氮化物薄膜的溅射反应气体为N2，其比例5％～15％；5.膜层的制备采用中频电源或直流脉冲电源，溅射阴极采用平面或旋转阴极；6.已镀膜玻璃基板，可以在膜层上覆盖黑色、白色、银色、彩色等颜色中的至少一种；7.覆盖油墨后玻璃基板采用隧道炉或烤箱进行固化，固化温度150℃～220℃，时间5min～20min。
本实用新型可以使用同一台设备制造不同尺寸产品，沉积速率快、工作效率高、膜层品质可控，镀膜过程全部在真空环境下，安全无污染。同时该方法只需要简单的调整镀膜工艺就可以实现多种镀膜颜色，产品丰富多样，可以满足不同客户的需求。
实施例1
如图2所示，一种连续磁控溅射沉积法制备的镀膜盖板，包括透明玻璃基板1、设在透明玻璃上的膜层2、覆盖住所述膜层的油墨保护层3，所述膜层2包括Nb2O5膜21厚度10nm～25nm、SiO2膜22厚度30nm～45nm、Nb2O5膜23厚度40nm～50nm、SiO2膜24厚度20～35nm，所述油墨保护层 3包括金色油墨厚度2um～3um和黑色油墨厚度4um～7um，该产品体现的颜色为金色。
实施例2
如图3所示，一种连续磁控溅射沉积法制备的镀膜盖板，包括透明玻璃基板1、设在透明玻璃上的膜层2、覆盖住所述膜层的油墨保护层3，所述膜层2包括SiO2膜21厚度5nm～20nm、Nb2O5膜22厚度10nm～20nm、SiO2膜23厚度300nm～55nm、Nb2O5膜24厚度10～25nm，SiO2膜25厚度30nm～50nm、Nb2O5膜26厚度40～55nm，所述油墨保护层3为黑色油墨厚度4um～7um，该产品体现的颜色为蓝色。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种连续磁控溅射沉积法制备的镀膜盖板，其特征在于：包括透明玻璃基板、设在透明玻璃上的膜层、覆盖住所述膜层的油墨保护层，所述膜层为单层或者多层膜层组合而成。
2.根据权利要求1所述一种连续磁控溅射沉积法制备的镀膜盖板，其特征在于：所述透明玻璃基板尺寸为从3.5寸至50寸。
3.根据权利要求1所述一种连续磁控溅射沉积法制备的镀膜盖板，其特征在于：所述膜层使用磁控溅射镀膜设备，采用中频电源或直流脉冲电源、平面或旋转阴极进行溅射制备。
4.根据权利要求1所述一种连续磁控溅射沉积法制备的镀膜盖板，其特征在于：所述膜层采用硅靶材、NbOx(x：1.5～2.5)靶材、钛靶材、铬、锆、铝为磁控溅射镀膜设备的溅射靶材。
5.根据权利要求1所述一种连续磁控溅射沉积法制备的镀膜盖板，其特征在于：所述膜层包括SiO2层、Nb2O5层、CrO层、TiO2层、ZrO2层、Al2O3、Si3N4层。
6.根据权利要求1所述一种连续磁控溅射沉积法制备的镀膜盖板，其特征在于：所述油墨保护层为黑色、白色、银色、彩色颜色中的至少一种。
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