CN206454662U - 流动池 - Google Patents

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Abstract

本实用新型涉及一种流动池，其具有至少一个存储区域，存储区域与通道连接，其中，通道具有通道区域，通道区域通过基体和连接于基体的遮盖膜限定，在通道区域中，通道封闭并且在设定断裂部位处在遮盖膜偏转的情况下能打开其特征在于，遮盖膜遮盖基体中的构成通道区域的凹部，并且在凹部中设置有隔断壁，隔断壁封闭通道并且与基体一体连接，设定断裂部位通过在遮盖膜与隔断壁的朝向该遮盖膜的边缘区段之间的可断裂的连接区域构成，并且对于连接区域的面延伸而言，隔断壁的边缘面的大小是决定性的，边缘面构成在所述边缘区段中并且平行于所述遮盖膜。由此实现本实用新型的有益的技术效果：使设定断裂部位断裂所需力的波动相应小。

Description

流动池
技术领域
本实用新型涉及一种流动池。
背景技术
这种类型的流动池从WO2009/071078A1中得出，在所述流动池中，通道与可经由该通道排空的存储腔室连接。存储腔室通过其余平坦的、限定通道区域的膜的深冲区域形成。所述膜由铝层构成，所述铝层具有朝向存储腔室内侧的塑料覆层。在存储腔室和通道区域之外以及在设定断裂部位处，膜与基体的平坦的表面或覆盖其的另一膜粘接和/或焊接。
在基体的平坦的表面与膜的塑料覆层之间的通过焊接和/或粘接形成的设定断裂部位仅能够困难地在其面延伸中配量。波动因素主要由膜的塑料覆层在焊接时的性能、通过焊接工具产生的温度的分布、可实现的大约1mm的焊轨宽度、焊接工具的定位精度进而设定断裂部位距存储区域的间距的可复现性造成。相应地，用于使设定断裂部位断裂所需的力不期望地波动。
实用新型内容
本实用新型的目的是：提供一种新型的开始所述类型的流动池，其具有通道区域，所述通道区域具有设定断裂部位，其中，设定断裂部位的断裂力处于较窄的公差范围内。
根据本实用新型，所述目的通过流动池实现：所述流动池具有至少一个存储区域，所述存储区域与通道连接，所述通道用于将流体从所述存储区域中运出、将所述流体运输到所述存储区域中和/或将所述流体运输经过所述存储区域，其中，所述通道具有通道区域，所述通 道区域通过基体和连接于所述基体的遮盖膜限定，在所述通道区域中，所述通道封闭并且在设定断裂部位处在所述遮盖膜偏转的情况下能够打开，其特征在于，遮盖膜遮盖基体中的构成通道区域的凹部，并且在该凹部中设置有隔断壁，所述隔断壁封闭通道并且与基体一件式地连接，设定断裂部位通过在遮盖膜与隔断壁的朝向该遮盖膜的边缘区段之间的可断裂的连接区域构成，并且对于连接区域的面延伸而言，隔断壁的边缘面的尺寸是决定性的，所述边缘面在边缘区段中构成并且平行于遮盖膜。
所述流动池用于分解和/或合成物质。
通过形成设定断裂部位的连接区域以根据本实用新型的方式集中到隔断壁的靠近膜的边缘面上，连接区域具有限定的、与焊接条件无关的延伸和位置。由此实现本实用新型的有益的技术效果：使设定断裂部位断裂所需力的波动相应小。
如下面阐述的那样，所提出的边缘面可以接近垂直于流体的流动方向的线。
所述隔断壁构成为隔断接片，所述隔断接片横穿所述凹部，在所述隔断接片的端部处以及在与所述边缘面对置的边缘区段处与基体连接。
所述隔断壁的厚度向着所述遮盖膜减小，并且所述隔断壁的横截面构成为三角形或部分圆形的。所述隔断壁具有朝向遮盖膜的压平部。
所述隔断壁的平行于遮盖膜的所述边缘面具有相反于流动方向凸起的凸出部。
所述通道的横截面在具有所述设定断裂部位的通道区域中相对沿流动方向邻接该通道区域的各通道区域被扩宽或收窄。优选地，通道能够通过沿流动方向施加在设定断裂部位上的流体压力或通过遮盖膜的机械的和/或气动的偏转来打开。当流体压力例如可以通过挤压具有柔性膜壁的存储腔室来建立时，为了机械和/或气动地使设定断裂部位断裂可以使用设置为用于流动池的工作设备。所述通道能够通过工作设备打开。
不言而喻地，遮盖膜在隔断壁的边缘面处与隔断壁粘接和/或焊接。替选地或附加地，能够通过可动的、与流动池连接的、作用到膜上的夹紧元件来建立可松开的夹紧连接。
优选地，隔断壁随着注塑基体在一个工序中制成。
在本实用新型的一种特别优选的实施方式中，隔断壁的边缘面与构成在基体中的凹部的开口边缘齐平。因此能够确保：隔断壁借助其朝向用于覆盖的膜的边缘区段伸展至膜处，并且膜能够在一个工序中与基体以及与隔断壁的边缘区段粘接和/或焊接。
所述凹部朝基体的平坦面敞开，所述基体是板状的。在垂直于所述平坦面的投影中，所述设定断裂部位位于所述存储区域的投影区域中。
所述通道具有多个设定断裂部位，在两个设定断裂部位之间封入干燥剂。
所述存储区域通过所述基体一侧的限界膜来限界、经由通道区段与所述通道区域连接，并且对所述通道区域限界的遮盖膜设置在所述基体的另一侧上。所述限界膜是深冲的。
对所述存储区域限界的限界膜是铝-塑料叠层体，所述铝-塑料叠层体具有朝向所述存储区域的塑料层。
基体至少在一侧上具有表面结构部，所述表面结构部使与相关的遮盖膜以及限界膜的连接简化。所述表面结构是沟槽。
对通道区域限界的遮盖膜是必要时通过铝-塑料叠层体遮盖的塑料膜。
对所述通道区域限界的遮盖膜构成为一个连续对多个存储区域限界的膜。
当隔断壁可以在隔断相应径向的流体流动的情况下环形构造时，在该优选的实施方式中，隔断壁构造成隔断接片，所述隔断接片横穿基体中的凹部并且在该隔断接片的端部处与基体连接。
优选地，隔断壁的厚度向着用于覆盖的膜减小，尤其使得膜仅线形地贴靠隔断壁的边缘区段。
相应地，隔断壁的横截面可以构造成三角形或部分圆形。在另一实施方式中，隔断壁的边缘区段借助压平部贴靠膜。压平部在流动方向上的长度进而设定断裂部位在该方向上的长度优选小于0.5mm、尤其小于0.1mm、必要时小于0.05mm。
凹部优选朝优选板状的基体的平坦的面敞开，并且遮盖凹部的膜优选是平坦的膜。
在本实用新型的另一实施方式中，通道的横截面在具有设定断裂部位的通道区域中相对邻接于该通道区域的各通道区域被扩宽或收窄。相应地，所述隔断接片能够延长或缩短。因为设定断裂部位的断裂力与在膜与隔断接片之间的连接区域的几何形状相关，所以断裂力能够通过适当地选择扩宽或收窄来调节。优选地，断裂力通过压缩存储区域的机械执行器而低于20N、优选低于10N、必要情况下低于5N。
优选地，在垂直于基体的板平面的投影中，设定断裂部位位于存储腔室的投影区域中。在这种节约空间的实施方式中，必要时，存储腔室位于板状的基体的一侧，而构成通道区域的凹部设置在板的另一侧。
尤其在最后的实施方式中，存储腔室由膜构成，所述膜具有铝层，所述铝层具有朝向存储腔室内侧的塑料覆层，塑料覆层面状地通过焊接或粘接施设到基体上，并且在板状的基体与遮盖膜之间由塑料构成、优选由与基体相同的塑料构成设定断裂部位。为了由相同的塑料材料制造设定断裂部位，例如考虑热焊接、超声波焊接或激光焊接。
在本实用新型的另一设计方案中，通道可以具有多个设定断裂部位并且尤其将流动池的一个功能元件、例如干燥剂连接在一个设定断裂部位的下游。
此外，干燥剂可以封入在设定断裂部位之间。
尤其当存储腔室和与存储腔室连接的通道区域这两者都设置在板形的地基的一侧上时，对存储腔室限界的膜能够与对通道区域限界的膜相同。
附图说明
下文根据实施例和所附的、涉及所述实施例的附图来详细阐述本实用新型。附图中：
图1示出具有多个根据本实用新型的流体运输通道的流动池的前视图；
图2示出图1所示流动池的后视图，其没有遮盖膜；
图3示出图1所示流动池的一个运输通道的具有设定断裂部位的通道区域，其部分地没有遮盖膜；
图4示出可应用在流动池中的流体存储器的不同的实施例，其具有与所述流体存储器连接的根据本实用新型的运输通道；
图5示出根据本实用新型的运输通道中的设定断裂部位的构造的三个另外的实施例；
图6a示出具有两个设定断裂部位的运输通道；
图6b示出具有环形的设定断裂部位的运输通道；
图7示出根据本实用新型的运输通道和与其毗邻设置的干燥剂；
图8示出具有设定断裂部位的运输通道，这些设定断裂部位能够通过外部的促动器而断裂；
图9示出根据本实用新型的与两个存储腔室连接的运输通道；
图10示出用于填充流动池的存储空间的根据本实用新型的运输通道；
图11示出设置为用于通过根据本实用新型的运输通道来部分地填充的存储器。
具体实施方式
图1示出的微流体的流动池包括基本上板状的基体1，所述基体一件式地以注塑方法由塑料例如由PP、PE、COC、PC、PMMA制成或由这些塑料构成的混合物制成，其中，所述流动池可连接到(未示出的)工作设备上。
基体在其图1中可见的一侧上在其板面的一部分上与限界膜2粘接和/或焊接。在基体1的背向该侧的一侧上，整个板面与平坦的遮盖 膜3连接，该平坦的遮盖膜遮盖和封闭基体1中的朝该板面敞开的凹部。
限界膜2的深冲的区域在所示出的实例中构成用于容纳试剂液体的三个存储腔室4、5和6。限界膜2由铝-塑料叠层体构成，所述铝-塑料叠层体的指向外部的铝层形成用于存储腔室中的用于试剂液体的蒸汽隔断部。
遮盖膜3在所示出的实例中由与基体1相同的塑料构成、但是必要时也由铝-塑料叠层体构成。
如图2所示，存储腔室4经由通道7能够与用于容纳要研究的试样物质的腔室10连接。试样腔室10自己经由通道11和用于研究试样物质的反应或检测区域12而与废料腔室13连接。存储腔室5和6能够经由通道8和9而与通道11连接。
通道7至9分别具有一个在图3中分开示出的、扩宽的通道区域14，在所述扩宽的通道区域中，通道沿穿流方向被封闭，并且形成可打开的设定断裂部位。
形成相应的通道区域14的并且对通道横截面大小而言重要的凹部15由隔断接片16横穿，所述隔断接片在所示出的实例中具有三角形的横截面。隔断接片16的朝向遮盖膜3的边缘区段17与基体1的与凹部15毗邻的平坦的板面18对齐并且与遮盖膜3连接。与基体1一体连接的隔断接片16以该方式完全阻断相应的通道。
与基体1粘接和/或焊接的遮盖膜3在边缘区段17的区域中也与隔断接片16连接，这个连接构成可断裂的设定断裂部位。在施加流体压力时，在隔断接片16与遮盖膜3之间的连接在遮盖膜3偏转的情况下断裂，其中，所述流体压力能够通过将限界膜2的深冲的区域压合和挤压相关的存储腔室4、5或6来产生。
隔断接片16的边缘区段17形成尺寸受限的连接区域，所述连接区域能够实现可复现的封闭强度并且由此能够实现设定断裂部位在确定的流体压力下的可靠断裂。边缘区段17的长度优选<0.5mm、尤其<0.1mm、必要时甚至<0.05mm。
在所示出的实例中，遮盖膜3与隔断接片16粘接和/或焊接。附加地或替选地，如下文描述的那样，也考虑在隔断接片16与遮盖膜3之间的夹紧连接。
为了简化，在此不描述图1和2所示流动池的其它细节。不言而喻地：具有如图1和2的流动池所具有的多个通道那样的通道的流动池也可以与图1和2所示流动池完全不同地构成并且在极端情况下例如可以具有仅作为唯一的功能部件的这种通道，其中图1和2的流动池具有复数个所述类型的通道。
图4部分地示出具有存储腔室19和通道20的流动池，所述通道在隔断接片16处具有设定断裂部位。存储腔室19通过限界膜2限界，所述膜与板状的基体1在该基体的一侧上粘接和/或焊接。遮盖膜3在对通道20限界的情况下封闭基体1中的与存储腔室19连接的通道凹部15，所述遮盖膜与基体1在该基体另一侧上粘接和/或焊接。
根据图4a，其余未被示出的工作设备的执行器冲头22的尺寸与深冲区域21相比构造得更狭窄，使得所述执行器冲头在将流体从存储腔室19中压出时侧向受限地折弯并且由此可以受控地构建用于断开设定断裂部位的压力，其中，所述执行器冲头作用于限界膜2的构成存储腔室19的深冲区域21。
在垂直于基体1的板平面的投影中，通道20中的隔断接片16处于存储腔室19的投影区域内部。存储器和设定断裂部位由此能够节约空间地安装在流动池的狭窄的区域中。
在图4b的实施例中，在限界膜2与基体1之间的存储腔室19不仅通过限界膜2的深冲区域21构成，而是还通过基体中的凹部24构成。执行器冲头22的几何形状和凹部24选择成使得可以通过如下方式完全地排空存储区域，即，在执行器冲头22的终端位置中，膜21变形成使得该膜尽可能贴靠在凹部24的轮廓上。为了这个目的，执行器冲头22的轮廓相对凹部24的轮廓向回收缩限界膜2的双倍厚度的数值。
根据图4c的实施例，基体1中的仅一个这种凹部24对存储腔室 19的容积是重要的。
图4d的实施例对应于图4a的实施例。可动的元件25能够通过工作设备或者手动地保持在封闭位置中，或者所述可动的元件通过未示出的机构即侧凹或卡锁件固定但可松开地与基体1连接，使得通过借助执行器冲头22在通道20中构建压力不可以将隔断接片16处的设定断裂部位打开。在元件25从图4d示出的保持位置收回的位置中，设定断裂部位可以断裂。元件25能够手动地或通过工作设备收回。在应用可动的元件25时，可以弃用设定断裂部位的焊接或粘接。通过元件25的回缩，将用于打开设定断裂部位的力需求降低到为了使焊接或粘接连接断裂所需的值。
图4e的实施例除了另一膜26之外对应于图4c的实施例，所述另一膜构成用于从存储器19到达通道20中的流体的蒸汽隔断部。膜26例如由铝构成并且具有集成的、例如压力敏感粘接层。膜26替选地仅能够局部地并且不在设定断裂部位的区域中与遮盖膜3连接。
这种隔断膜26尤其在图4f的实施例中是有利的，其中存储腔室19通过贯穿基体1的凹部24构成并且存储器含物因此直接地与遮盖膜3接触。在图4f的实施例中可以取消将存储腔室18与凹部15连接的通道区段23。
图5示出的实施例除了构成设定断裂部位的隔断接片的横截面造型之外对应于图4c的实施例。
根据图5a，隔断接片16a的横截面不是三角形的，而是构造成半圆形的。也在这种横截面中，隔断接片线形地贴靠在遮盖膜3上。这种隔断接片能够有利地以比横截面为三角形的阻挡接片更小的喷射压力在基体1的注塑成型中得以制成。
图5b示出具有朝向遮盖膜3的压平部的隔断接片16b。压平部构成隔断接片16的平坦的、平行于遮盖膜3的边缘面，所述边缘面借助在遮盖膜3与隔断接片16之间的连接区域覆盖，并且连接区域构成设定断裂部位。压平部的在流动方向上的前部边棱和后部边棱限定连接区域。
在根据图5a的实施例中，隔断接片16的平行于遮盖膜3的边缘面分别接近横向于流体流动方向延伸的线。
图5c示出隔断接片16c，所述隔断接片具有朝向(未示出的)遮盖膜3的边缘区段17c，在所述边缘区段上构成有相对其余的隔断接片更狭窄的边缘接片40，该边缘接片具有与遮盖膜3平行的相应狭窄的边缘面41。有利地，这种阶梯式的隔断接片能够借助少的工具耗费以注塑方法制造。平行于遮盖膜3的边缘面41在边缘接片40的纵向中央具有通过边缘接片40的凸起构成的凸出部42。相反于流动方向凸起的凸出部42在设定断裂部位断裂时形成初始区域，所述凸出部促进设定断裂部位从接片中央向侧向的对称断裂并且因此有助于用于设定断裂部位断裂所需的力的高的可复现性。
图6a示出大部分对应于图4c的实施例，然而其中代替仅一个设定断裂部位，通过两个隔断接片16和16’构成两个设定断裂部位。通过所述两个设定断裂部位能够实现存储腔室19的尤其密封的封闭。用于设定断裂部位断裂所需的流体压力可以是不同的并且例如对于16’中的第二设定断裂部位而言比对于16中的第一设定断裂部位更高，这例如能够通过设定断裂部位的不同宽度来设定。
图6b示出类似图4c的实施例，其中与其不同的是：将存储腔室19与凹部15连接的通道区段23的出口由环形的隔断接片16a包围。环形的隔断接片16a能够构造成完整环或一个完整环的分段。
图7示出如下实施例，在这些实施例中，在通道20中，干燥剂27设置在设定断裂部位的下游。有利地，干燥剂能够通过从存储腔室19中提取的液体试剂适当溶解。在断开设定断裂部位之前，干燥剂适当地与存储腔室19隔离。
在图7b的实施例中，一个设定断裂部位再次设置在干燥剂下游，该设定断裂部位通过另一隔断接片16’形成。由此在仓储期间，环境影响还更有效地被阻挡远离干燥剂。
图8部分地示出流动池的实施例，其中设有分开的用于使通过隔断接片16构成的设定断裂部位断裂的装置。
在图8a的实施例中，在基体1中通过凹部28构成薄弱部位，从而借助执行器冲头22将遮盖膜3经由凸起29沿虚线30偏转，并且使在16中构成的设定断裂部位断裂，或者在断开设定断裂部位时能够扩大通道20的穿通横截面。特别地能够通过这样单独地断开设定断裂部位来以较小的压力排空存储器19。此外，在断开设定断裂部位时，有利地能够调节其流动阻力。
在图8b的实施例中代替机械的执行器冲头22，构成用于使基体相应变形的压缩气体的进入通道31。
在图8c的实施例中设置有两个在流动方向上设置在设定断裂部位上游和在流动方向上设置在该设定断裂部位下游的薄弱部位，所述薄弱部位用于偏转遮盖膜3，其中，形成这些薄弱部位的凹部28和28’经由通道32彼此连接。限界膜2能够通过执行器冲头22和22’顶压，从而在凹部28、28’中产生使基体1变形的、使膜30沿虚线30偏转的气压。
根据相同的原理，图8d的实施例仅借助一个凹部28和一个执行器冲头22工作。
图9示出具有存储腔室19和另一存储腔室19’的实施例。限界膜2的通过执行器冲头的变形引起在腔室19’中构建压力并且由此引起两个通过隔断接片16和16’构成的设定断裂部位的断开。来自存储腔室19的试剂运输此后则由于设定断裂部位已经断开而能够受控地并且以小的压力进行。
图10部分地示出具有仅部分地用流体34填充的存储腔室33的流动池，该存储腔室通过构成设定断裂部位的隔断接片16隔离。存储腔室33能够经由通道20来填充例如要分解的另一流体。在通过根据箭头35流入的流体构建压力时，构成在隔断接片16处的设定断裂部位断裂。在进一步构建压力的情况下，存储空间33的填充有空气或气体的子区域的气体首先被压缩，并且流体到达存储空间中，所述流体与存储在那里的流体34混合并且可能情况下能够与其反应。在填充之后，压力下降引起压缩的空气沿相反于箭头35的方向排出。当存储区 域的邻接的通道区域20与压力源和流体源连接时，这能够同时借助多个存储区域33进行。在填充和构建压力之后，隔断接片16防止流体混合物回流。
存储腔室33的容积部分地通过基体1中的贯通的凹部24并且还有限界膜2的深冲区域21构成，所述膜由铝-塑料叠层体构成或仅由塑料构成并且能够通过注塑制成。
在图10b的实施例中，存储腔室33包含干燥剂37。
图10c的实施例与图10a的实施例的区别在于：存储腔室33的存储容积仅通过基体1与凸出部36形成。
在图10d的实施例中没有这种凸出部。对于存储腔室33的容积决定性的仅是板状的基体1中的单侧敞开的凹部24。
在图10e的实施例中，凹部24是贯通的并且在两侧通过限界膜2或遮盖膜3覆盖。
在图11示出的实施例中，存储室33部分地用流体34填充。管式管路37伸入到该存储腔室33中，所述管式管路浸入到流体34中。管式管路37与通过隔断接片16封闭的通道20连接。
经由通道20和管式管路37，在构成在隔断接片16处的设定断裂部位断裂之后，要研究的试样流体能够被导入到存储腔室33中，在那里，试样流体与形成试剂的流体34接触。
为了使设定断裂部位断裂而施加到试样流体上的输送压力在所述设定断裂部位断开之后用于挤压沿流动方向位于通道20和管式管路37中的隔断接片16下游的空气，所述空气在流体34中向上上升。最后进入到存储腔室33中的试样流体用于通过压缩在流体34的流体镜面上方的空气来在存储腔室33中构建压力。
因此在输送压力降低时，试样流体和试剂流体34的混合物回流到管式管路37中并且必要时回流到通道20中。通过交替地提高和降低输送压力能够相应地使混合物运动并且通过该运动使该混合物进一步均匀化。
通过进一步降低输送压力，最后能够经由管式管路37和通道20 将混合物导出至流动池的对该混合物继续处理的部分，或者所述混合保留在存储室33中以被分解、例如光学分解。
存储腔室的相同结构也可以仅用于将设置在存储腔室中的干燥剂、如图10b的干燥剂37进行重悬。
通过经由通道20输送压缩气体并且将其在存储腔室区域中在流体镜面上方压缩的方式，根据图11的结构仅能够用于排空存储腔室33。压缩气体随后能够将流体34为了输出而从存储腔室33中压出到管式管路37和通道20中。
构成存储器的膜21可以构造成能弹性变形，使得存储腔室33的容积能够通过输送压力而扩大，从而能够处理更大的试样量。此外，通过容积扩大来降低存储腔室33中的压力构建。
图10b的实施例与图10a的实施例的区别在于通入到存储腔室33中的填充通道38，借助手动或自动的移吸或贯穿填充通道的针头能够通过所述填充通道将试剂填充到存储腔室中。不言而喻地：在这个过程中必须将挤压的空气从存储腔室33中排出。在填充之后，填充通道38可以通过焊接、粘接和/或借助于封闭塞来密封。
在图11c中示出的实施例中设置有具有隔断接片16’的第二通道20’。通道20’经由在流体34的流体镜面上方通入的通孔39而与存储腔室33连接。
在设置在隔断接片16、16’上的设定断裂部位断裂之后，经由通道20和管式管路37能够输送试样流体，其中，挤压的空气能够通过通孔39和通道20’排出。在存储腔室33中不构建压力。通过压缩气体能够将所形成的试样流体-试剂混合物几乎无剩余地从存储腔室33中经由管式管路37和通道20排空，所述压缩气体经由通道20’施加到存储腔室33中的流体镜面上。
上面描述的流动池中的由铝-塑料叠层体构成的限界膜2的塑料覆层优选由与相应基体1相同的塑料材料构成。
在上面描述的存储腔室中的流体中，代替液体地也可以仅是空气或是其它可用于在流动池中进行流体运输的压缩气体。
适宜地，基体尤其在其朝向限界膜2的一侧上设有使与限界膜2、遮盖膜3的连接简化的表面结构部，例如设有沟槽。沟槽尤其能够环绕存储区域延伸。沟槽的优选的横截面尺寸为0.1×0.1mm2至1×1mm2。优选地构成不超过三个沟槽。在粘接或焊接时，粘胶或限界膜2的熔化的塑料层能够进入到沟槽中并且与其锚固，这改进膜与基体1的附着。
为了将遮盖膜3与基体连接，尤其考虑使用激光焊接或热键合，也考虑通过溶剂增强的键合。借助所述方法能够实现具有恒定尺寸和恒定强度的设定断裂部位的连接区域。

Claims (28)

1.流动池，所述流动池具有至少一个存储区域(10；19；33)，所述存储区域与通道(7-9；20)连接，所述通道用于将流体从所述存储区域中运出、将所述流体运输到所述存储区域中和/或将所述流体运输经过所述存储区域，其中，所述通道具有通道区域(14)，所述通道区域通过基体(1)和连接于所述基体的遮盖膜(3)限定，在所述通道区域中，所述通道封闭并且在设定断裂部位处在所述遮盖膜偏转的情况下能够打开，
其特征在于，
所述遮盖膜遮盖所述基体中的构成通道区域的凹部(15)，并且在所述凹部中设置有隔断壁，所述隔断壁封闭所述通道并且与所述基体一体连接，
所述设定断裂部位通过在遮盖膜与所述隔断壁的朝向该遮盖膜的边缘区段(17)之间的可断裂的连接区域构成，并且对于所述连接区域的面延伸而言，所述隔断壁的边缘面的大小是决定性的，所述边缘面构成在所述边缘区段中并且平行于所述遮盖膜。
2.根据权利要求1所述的流动池，
其特征在于，
所述流动池用于分解和/或合成物质。
3.根据权利要求1所述的流动池，
其特征在于，
所述边缘面接近垂直于流动方向的线。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的流动池，
其特征在于，
所述隔断壁构成为隔断接片(16)，所述隔断接片横穿所述凹部(15)，在所述隔断接片的端部处以及在与所述边缘面对置的边缘区段处与所述基体(1)连接。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的流动池，
其特征在于，
所述隔断壁的厚度向着所述遮盖膜(3)减小，并且所述隔断壁的横截面构成为三角形或部分圆形的。
6.根据权利要求5所述的流动池，
其特征在于，
所述隔断壁具有朝向所述遮盖膜的压平部。
7.根据权利要求1至3中任一项所述的流动池，
其特征在于，
所述隔断壁的平行于所述遮盖膜的所述边缘面具有相反于流动方向凸起的凸出部(42)。
8.根据权利要求1至3中任一项所述的流动池，
其特征在于，
所述通道(7-9；20)的横截面在具有所述设定断裂部位的通道区域(14)中相对沿流动方向邻接该通道区域的各通道区域被扩宽或收窄。
9.根据权利要求1至3中任一项所述的流动池，
其特征在于，
所述通道(7-9；20)能够通过沿流动方向施加在所述设定断裂部位上的流体压力或通过所述遮盖膜(3)的机械和/或气动的偏转而打开。
10.根据权利要求9所述的流动池，
其特征在于，
所述通道(7-9；20)能够通过工作设备而打开。
11.根据权利要求1至3中任一项所述的流动池，
其特征在于，
所述遮盖膜(3)在所述隔断壁的边缘面处与所述隔断壁粘接和/ 或焊接，或通过可动的夹紧元件夹紧。
12.根据权利要求11所述的流动池，
其特征在于，
所述夹紧元件与所述流动池连接。
13.根据权利要求1至3中任一项所述的流动池，
其特征在于，
所述凹部(15)朝基体(1)的平坦面敞开。
14.根据权利要求13所述的流动池，
其特征在于，
所述基体是板状的。
15.根据权利要求13所述的流动池，
其特征在于，
在垂直于所述平坦面的投影中，所述设定断裂部位位于所述存储区域的投影区域中。
16.根据权利要求1至3中任一项所述的流动池，
其特征在于，
所述通道具有多个设定断裂部位(16，16’)。
17.根据权利要求16所述的流动池，
其特征在于，
在两个设定断裂部位之间封入干燥剂。
18.根据权利要求1至3中任一项所述的流动池，
其特征在于，
所述存储区域通过所述基体(1)一侧的限界膜(2)来限界、经由通道区段(23)与所述通道区域连接，并且对所述通道区域限界的遮盖膜(3)设置在所述基体(1)的另一侧上。
19.根据权利要求18所述的流动池，
其特征在于，
所述限界膜是深冲的。
20.根据权利要求18所述的流动池，
其特征在于，
对所述存储区域限界的限界膜(2)是铝-塑料叠层体，所述铝-塑料叠层体具有朝向所述存储区域的塑料层。
21.根据权利要求20所述的流动池，
其特征在于，
所述基体至少在一侧上具有表面结构部，所述表面结构部使与相关的遮盖膜(3)以及限界膜(2)的连接简化。
22.根据权利要求21所述的流动池，
其特征在于，
所述表面结构部是沟槽。
23.根据权利要求1至3中任一项所述的流动池，
其特征在于，
对所述通道区域限界的所述遮盖膜(3)是塑料膜。
24.根据权利要求23所述的流动池，
其特征在于，
所述塑料膜通过铝-塑料叠层体遮盖。
25.根据权利要求16所述的流动池，
其特征在于，
对所述通道区域限界的遮盖膜(3)构成为一个连续对多个存储区域限界的膜。
26.根据权利要求18所述的流动池，
其特征在于，
对所述通道区域限界的遮盖膜(3)构成为一个连续对多个存储区域限界的膜。
27.根据权利要求20至22之任一项所述的流动池，
其特征在于，
对所述通道区域限界的遮盖膜(3)构成为一个连续对多个存储区域限界的膜。
28.根据权利要求23所述的流动池，
其特征在于，
对所述通道区域限界的遮盖膜(3)构成为一个连续对多个存储区域限界的膜。
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