CN206216469U - 一种光学零件精密研磨盘结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种光学零件精密研磨盘结构，包括上抛光盘和下抛光盘，上抛光盘中设有上抛光连接盘，上抛光连接盘中设有上连接杆和上连接盘，上连接盘中设有能够存储抛光液的环形凹槽和抛光液输出孔，上连接盘通过定位轴连接便于更换的研磨材料层安装盘，研磨材料层安装盘中设有定位孔、安装孔、抛光液注入孔和便于镶嵌研磨材料层的镶嵌卡槽，研磨材料层中设有与抛光液注入孔相连的通孔，下抛光盘中设有下支撑杆和下连接盘，下连接盘中设有便于容纳抛光液的环形沟槽；本实用新型便于更换镶嵌在研磨材料层安装盘中的自动研磨材料层，研磨材料层安装盘的两个平面平整度比较容易加工，研磨抛光时抛光液能够分布更加均匀，研磨抛光效果更好。

Description

一种光学零件精密研磨盘结构

技术领域

本实用新型涉及光学器件技术领域，尤其涉及一种光学零件精密研磨盘结构。

背景技术

在加工光学零件时需要对光学零件进行研磨、抛光，研磨、抛光是加工光学零件的关键加工工序。现有技术中通常是采用配对的上抛光盘和下抛光盘在光学抛光机上光学零件进行研磨抛光，抛光时光学零件固定在下抛光盘上，下抛光盘在光学抛光机转轴的驱动下自动旋转，上抛光盘围绕下抛光盘中心相对转动并同时跟随自转，使固定在下抛光盘上的光学零件在上抛光盘压力下不断被研磨，从而使光学零件逐渐被抛光。

由于现有的这些上抛光盘和下抛光盘结构较为简易，上抛光盘通常是实心的整体式的金属盘，然后在金属盘的盘面上黏贴上不同的研磨材料层，在旧研磨材料层磨损后再更换新的研磨材料层时，黏贴在金属盘上的旧研磨材料层不易清除干净，导致更换后的研磨材料层难以调节平整，对金属盘的平面清洁加工要求较高，而现有的整体式的金属盘平面较难加工；而且研磨时只能在上抛光盘和下抛光盘之间的缝隙处添加抛光液，收到旋转离心力作用抛光液比较难以留存均匀分布在抛光盘研磨位置，上抛光盘和下抛光盘之间容易导致缺少抛光液而干磨，使抛光盘上的光学零件研磨抛光效果存在差异，影响研磨抛光效果，因此需要进一步改进。

发明内容

为克服现有技术的不足，本实用新型提供了一种结构稳定可靠、抛光液分布均匀，研磨抛光效果好的光学零件精密研磨盘结构。

本实用新型为达到上述技术目的所采用的技术方案是：一种光学零件精密研磨盘结构，包括上抛光盘和下抛光盘，所述上抛光盘中设有一个上抛光连接盘，所述上抛光连接盘中设有上连接杆和上连接盘，所述上连接杆中设有浮动连接球头，所述上连接盘中设有能够存储抛光液的环形凹槽，所述环形凹槽中设有抛光液输出孔，所述上连接盘的底部设有一个定位轴，所述定位轴连接一个便于更换的研磨材料层安装盘，所述研磨材料层安装盘中设有与所述定位轴相连的定位孔、与上连接盘的底部相连的安装孔和抛光液注入孔，所述研磨材料层安装盘的底面设有便于镶嵌研磨材料层的镶嵌卡槽，所述研磨材料层中设有与所述抛光液注入孔相连的通孔，所述下抛光盘中设有下支撑杆和下连接盘，所述下连接盘中设有便于容纳抛光液的环形沟槽；上抛光盘中的研磨材料层磨损后，能够将上抛光盘中的研磨材料层安装盘取下，然后更换镶嵌在研磨材料层安装盘自动研磨材料层，更换后再加工研磨材料层安装盘顶面和底面的平面，研磨材料层安装盘的两个平面平整度比较容易加工。

作为一种改进，所述下支撑杆的中心设有抛光液供应孔，所述下连接盘中设有与下支撑杆中的抛光液供应孔相连通的抛光液分布孔，所述抛光液分布孔再与所述环形沟槽相连。

所述下支撑杆中的抛光液供应孔连通一个下抛光液连通供应容器，所述下抛光液连通供应容器中设有抛光液高度位置检测传感器。

本实用新型的有益效果是：采用上述结构，通过在上抛光盘中设置上抛光连接盘和便于更换的研磨材料层安装盘，上抛光连接盘中设置环形凹槽和抛光液输出孔，研磨材料层安装盘中设置定位孔、安装孔和抛光液注入孔，下抛光盘中设置下支撑杆和下连接盘，下连接盘中设置便于容纳抛光液的环形沟槽和抛光液分布孔；上抛光盘中的研磨材料层磨损后，便于更换镶嵌在研磨材料层安装盘自动研磨材料层，更换后的研磨材料层安装盘的两个平面平整度比较容易加工，而且在研磨抛光时上抛光盘和下抛光盘中的抛光液能够分布更加均匀，研磨抛光效果更好。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。其中：

图1是本实用新型光学零件精密研磨盘结构的结构示意图。

具体实施方式

为详细说明本实用新型的技术内容、构造特征、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图详细说明。

请参阅图1所示，本实用新型光学零件精密研磨盘结构包括上抛光盘1和下抛光盘2，所述上抛光盘1中设有一个上抛光连接盘11，所述上抛光连接盘11中设有上连接杆111和上连接盘112，所述上连接杆111中设有浮动连接球头113，所述上连接盘112中设有能够存储抛光液的环形凹槽1121，所述环形凹槽1121中设有抛光液输出孔1122，所述上连接盘112的底部设有一个定位轴1123，所述定位轴1123连接一个便于更换的研磨材料层安装盘12，所述研磨材料层安装盘12中设有与所述定位轴1123相连的定位孔121、与上连接盘112的底部相连的安装孔122和抛光液注入孔123，所述研磨材料层安装盘12的底面设有便于镶嵌研磨材料层13的镶嵌卡槽124，所述研磨材料层13中设有与所述抛光液注入孔123相连的通孔131，所述下抛光盘2中设有下支撑杆21和下连接盘22，所述下连接盘22中设有便于容纳抛光液的环形沟槽221。

作为一种改进，所述下支撑杆21的中心设有抛光液供应孔211，所述下连接盘22中设有与下支撑杆21中的抛光液供应孔211相连通的抛光液分布孔222，所述抛光液分布孔222再与所述环形沟槽221相连。

所述下支撑杆21中的抛光液供应孔211连通一个下抛光液连通供应容器3，所述下抛光液连通供应容器3中设有抛光液高度位置检测传感器31。

以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (3)

1.一种光学零件精密研磨盘结构，其特征在于：包括上抛光盘和下抛光盘，所述上抛光盘中设有一个上抛光连接盘，所述上抛光连接盘中设有上连接杆和上连接盘，所述上连接杆中设有浮动连接球头，所述上连接盘中设有能够存储抛光液的环形凹槽，所述环形凹槽中设有抛光液输出孔，所述上连接盘的底部设有一个定位轴，所述定位轴连接一个便于更换的研磨材料层安装盘，所述研磨材料层安装盘中设有与所述定位轴相连的定位孔、与上连接盘的底部相连的安装孔和抛光液注入孔，所述研磨材料层安装盘的底面设有便于镶嵌研磨材料层的镶嵌卡槽，所述研磨材料层中设有与所述抛光液注入孔相连的通孔，所述下抛光盘中设有下支撑杆和下连接盘，所述下连接盘中设有便于容纳抛光液的环形沟槽。

2.根据权利要求1所述的一种光学零件精密研磨盘结构，其特征在于：所述下支撑杆的中心设有抛光液供应孔，所述下连接盘中设有与下支撑杆中的抛光液供应孔相连通的抛光液分布孔，所述抛光液分布孔再与所述环形沟槽相连。

3.根据权利要求2所述的一种光学零件精密研磨盘结构，其特征在于：所述下支撑杆中的抛光液供应孔连通一个下抛光液连通供应容器，所述下抛光液连通供应容器中设有抛光液高度位置检测传感器。